一种喷嘴清洁装置及涂胶显影机制造方法及图纸

本技术涉及半导体制造设备技术领域，公开一种喷嘴清洁装置及涂胶显影机，该喷嘴清洁装置包括：超声发生组件和排液清洗管路；其中，排液清洗管路具有喷嘴容纳空间，并用于向喷嘴容纳空间内喷洒光阻溶剂；超声发生组件朝向排液清洗管路，并用于向排液清洗管路内正在清洁中的喷嘴发射超声波。在喷嘴清洁的维护期间，喷嘴进入相应的排液清洗管路中，喷洒的光阻溶剂对喷嘴上的光阻进行清洗的同时，利用超声发生组件产生的超声波提高喷嘴处的光阻流动性，加大清洁力度；在半导体量产阶段，超声发生组件使得光阻在喷嘴处保持一种自身震动式的赝流动状态，提高喷嘴处的光阻流动性，降低结晶趋势，以增加喷出光阻的间歇时间，有效降低光阻的消耗。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制造设备，特别涉及一种喷嘴清洁装置及涂胶显影机。

技术介绍

1、在当前的半导体制造工艺中，光阻涂敷单元采用单喷嘴中心喷涂式技术。光阻存放在光阻柜中，经过压力泵抽取，在喷嘴处形成一定流速的光阻喷液。

2、晶圆进入一侧工艺区的载物台，光阻液在喷嘴处喷出，在晶圆中心喷涂，经过晶圆的旋转离心，最终使得喷在晶圆中心的光阻均匀覆盖在整片晶圆上，达到涂敷光阻的目的。

3、不同光阻安装在机台内不同的管路中，固定搭配每层工艺使用，因此，在工艺生产中，光阻经常间歇性使用。而光阻的黏度较高，流动性差，喷嘴处残留光阻因为和空气接触，物理性质会发生改变，造成一些残留，从而，光阻的自身流动性和光阻瓶中未使用的光阻不同，对喷涂产生一定的阻滞。甚至长时间不用会发生光阻液结晶趋向，造成物性骤变，最终影响曝光效果，造成显影后曝光图形缺陷。

4、因此，在涂胶显影机中，会设置清洗区域(即resist bath)，光阻喷嘴在闲置时进入相对应的排液清洗管路中，排液清洗管路内通过喷淋光阻溶剂，进行喷嘴的清洁。为了维护喷嘴处的光阻活性，光阻喷嘴在停用时本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种喷嘴清洁装置，其特征在于，包括：超声发生组件和排液清洗管路；其中，

2.根据权利要求1所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述超声发生组件的工作功率小于或等于50W，声波频率小于或等于40kHz，超声密度小于或等于0.5W/cm2。

3.根据权利要求1或2所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述喷嘴清洁装置还包括第一壳体，所述第一壳体内填充有超声介质，所述排液清洗管路部分浸入于所述超声介质内。

4.根据权利要求3所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述超声介质与所述光阻溶剂为同一种材质。

5.根据权利要求3所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述第...

【技术特征摘要】

1.一种喷嘴清洁装置，其特征在于，包括：超声发生组件和排液清洗管路；其中，

2.根据权利要求1所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述超声发生组件的工作功率小于或等于50w，声波频率小于或等于40khz，超声密度小于或等于0.5w/cm2。

3.根据权利要求1或2所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述喷嘴清洁装置还包括第一壳体，所述第一壳体内填充有超声介质，所述排液清洗管路部分浸入于所述超声介质内。

4.根据权利要求3所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述超声介质与所述光阻溶剂为同一种材质。

5.根据权利要求3所述的喷嘴清洁装置，其特征在于，所述第一壳体为封闭容器。

6.根据权利要求3所述的喷嘴清洁...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄吉，
申请(专利权)人：武汉楚兴技术有限公司，
类型：新型
国别省市：