【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体加工检测领域,具体涉及一种基于白光干涉仪的薄膜厚度测试方法。
技术介绍
1、白光干涉仪用于测试薄膜厚度时,采用相干峰探测算法分别定位上下表面零光程差位置,二者间距表示薄膜光学厚度,其与薄膜折射率的比值即为实际厚度。当薄膜厚度较薄时,上下表面之间的干涉峰存在重叠部分,难以分辨,薄膜厚度难以测试。
技术实现思路
1、本专利技术所要解决的技术问题是,薄膜厚度较薄,上下表面之间的干涉峰存在重叠部分,难以分辨,薄膜厚度难以测试的技术问题。本专利技术提出了一种基于白光干涉仪的薄膜厚度测试方法,用于小于一个波长厚度的薄膜测试。
2、本专利技术方法基于以下原理:介质微球是一种材料为碳酸钡或二氧化硅等材料的透明小球。能够收集物体表面携带高频信息的倏逝波,将其传递回光学系统。倏逝波是一种近场衍射波,其与物体的距离关系为:er~1/r^2,远场中,很快衰减为0。(r为倏逝波的传播距离)。所以当介质微球与物体表面距离发生变化时,介质微球收集到的倏逝波减少,条纹对比度发生变化。
>3、采取的技本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基于白光干涉仪的薄膜厚度测试方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤5的计算方法为:取干涉条纹中的灰度最大值记为Imax,灰度最小值记为Imin,对比度δ=Imax/Imin。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:步骤6的标样薄膜的下表面相对于上表面对比度的变化量Δ=δ2/δ1。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:步骤6的标样薄膜的下表面相对于上表面对比度的变化量Δ=δ2-δ1。
5.根据权利要求3或4所述的方法,其特征在于:步骤7的关系曲线的构建方法为:以标
...【技术特征摘要】
1.一种基于白光干涉仪的薄膜厚度测试方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:步骤5的计算方法为:取干涉条纹中的灰度最大值记为imax,灰度最小值记为imin,对比度δ=imax/imin。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:步骤6的标样薄膜的下表面相对于上表面对比度的变化量δ=δ2/δ1。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:步骤6的标样薄膜的下表面相对于上表面对比度的变化量δ=δ2-δ1。
5.根据权利要求3或4所述的方法,其特征在于:步骤7的关系曲线的构建方法为:以标样薄膜的薄膜厚度d作为y坐标,标样薄膜干涉条纹对比度的变化量δ作为x坐标,得到多组数值(δ1,d1;δ2,d2;δ3,d3…),将这些数值绘制在xy坐标轴中,并根据这些数值点拟合出一条曲线,这条曲线即为标样薄膜干涉条纹对比度的变化量δ与薄膜厚度d的关系曲...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨见飞,王强,赵余辉,
申请(专利权)人:南京埃米仪器科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。