【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及原子束准直装置，特别是涉及应用于原子束荧光光谱、原子物理和精密测量领域的准直装置及其制作方法。
技术介绍
1、随着理论和技术的发展，目前已经可以精确操控原子蒸汽进行各种科学研究和工业生产，比如微型芯片、空间原子钟、精密测量以及量子信息与量子模拟等。自然状态下的原子蒸汽服从玻尔兹曼分布，其运动杂乱无章，难以控制和应用。因此，利用原子蒸汽束流产生器来高效稳定地产生各种准直的原子束流是上述应用的基础，有着巨大的市场需求。
2、如图1和图2所示，现有的原子束准直装置中，原子束流经过的束管1通常具有较大的长度与横截面尺寸比，目的是对原子束流形成比较严格的出射角度选择，使具有超过某个发散角的原子流被束管内壁阻挡、吸附，只保留临界角度以内的原子流通过束管。
3、现有的原子束准直装置的束管在约束原子束流的出射角度时，普遍存在如下一些缺点：1）如图1所示，原子束流经过束管时，如果角度过大的原子2，被束管1的内壁3阻挡，然后原子角度被改变，经过内壁3不断的反弹，导致该部分原子依然能够有一定的概率经过束管，并混杂在期望出...
【技术保护点】
1.一种用于降低扰乱粒子的准直装置，适用于原子束流的准直，其特征在于，所述用于降低扰乱粒子的准直装置包括：
2. 根据权利要求1所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述准直本体包括：
3.根据权利要求2所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述吸附介质在所述涂覆区域形成连续的吸附介质层，所述连续的吸附介质层在所述第一表面上的投影覆盖多个平行且间隔的所述第一沟槽；或者
4.根据权利要求2所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述第一表面包括第一周边区域，所述第一周边区域位于最外侧的所述沟槽的外围；所述第二表面...
【技术特征摘要】
1.一种用于降低扰乱粒子的准直装置，适用于原子束流的准直，其特征在于，所述用于降低扰乱粒子的准直装置包括：
2. 根据权利要求1所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述准直本体包括：
3.根据权利要求2所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述吸附介质在所述涂覆区域形成连续的吸附介质层，所述连续的吸附介质层在所述第一表面上的投影覆盖多个平行且间隔的所述第一沟槽；或者
4.根据权利要求2所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述第一表面包括第一周边区域，所述第一周边区域位于最外侧的所述沟槽的外围；所述第二表面包括第二周边区域，所述第二周边区域位于所述涂覆区域的外围；
5.根据权利要求2所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述第一基板厚度方向还具有第三表面，所述第三表面上设置多个平行且间隔的第二沟槽，所述第二沟槽朝向所述第一基板内部凹陷；
6.根据权利要求5所述的用于降低扰乱粒子的准直装置，其特征在于，所述吸附介质覆盖于所述第二沟槽的槽壁和/或所述第四表面对应...
【专利技术属性】
技术研发人员：屈求智，王旭成，董功勋，
申请(专利权)人：凯瑟斯技术杭州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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