基于不确定性补偿的超精密光刻装备学习控制系统及方法技术方案

本发明专利技术公开了一种基于不确定性补偿的超精密光刻装备学习控制系统及方法，所述系统包括运动轨迹生成部分、学习控制部分、反馈控制部分和不确定性补偿部分，运动轨迹生成部分包括运动轨迹生成器C<subgt;r</subgt;，运动轨迹生成器C<subgt;r</subgt;产生参考运动轨迹y<subgt;d</subgt;(t)，y<subgt;d</subgt;(t)减去位置测量信号y<subgt;ε,k</subgt;(t)得到位置误差信号e<subgt;k</subgt;(t)，e<subgt;k</subgt;(t)输入给学习控制部分，学习控制部分产生前馈信号e<subgt;ff,k</subgt;(t)，e<subgt;ff,k</subgt;(t)与e<subgt;k</subgt;(t)相加得到修正误差信号e<subgt;fb,k</subgt;(t)，e<subgt;fb,k</subgt;(t)输入给反馈控制部分，反馈控制部分包括反馈控制器C<subgt;fb</subgt;，反馈控制器C<subgt;fb</subgt;产生反馈控制量u<subgt;fb,k</subgt;(t)，u<subgt;fb,k</subgt;(t)输入给不确定性补偿部分，不确定性补偿部分产生位置测量信号y<subgt;ε,k</subgt;(t)。本发明专利技术能够有效减少模型不确定性对学习性能的影响，同时可有效补偿外部随机扰动，设计简单，具有较强实际应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于超精密装备制造，涉及一种超精密光刻装备控制系统及方法，具体涉及一种基于不确定性补偿的超精密光刻装备学习控制系统及方法。

技术介绍

1、随着对摩尔定律的追逐，半导体厂商对芯片的产量和品质有了越来越高的要求，反映到光刻装备上，其必须兼顾高动态与高精度需求。光刻装备的运动机构由加速段过渡到匀速扫描曝光段的时间越短，单位时间内曝光的芯片数量越多，产量越高。扫描曝光段运动机构的跟踪误差越小，成像质量越高，芯片品质越好。因此，研究先进控制方法，提升超精密光刻装备的控制精度，对提升芯片性能有重要意义。

2、由于扫描曝光过程的重复特性，迭代学习控制方法被广泛应用于超精密光刻装备的运动控制中，但是传统学习控制方法存在两个问题：(1)学习增益的设计依赖于控制对象的数学模型，模型精度越高，控制方法的收敛速度和收敛性能越好，但是对于复杂超精密光刻装备，由于柔性模态和复杂动力学特性的存在，获取其精确数学模型是十分困难的，建模代价较高；(2)迭代学习控制方法对非重复性扰动不仅没有抑制能力，反而有放大的风险，外部随机扰动的存在会降低迭代学习控制方法的性能。以上本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于不确定性补偿的超精密光刻装备学习控制系统，其特征在于所述系统包括运动轨迹生成部分S1、学习控制部分S2、反馈控制部分S3和不确定性补偿部分S4，其中：

2.一种利用权利要求1所述系统进行基于不确定性补偿的超精密光刻装备学习控制的方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：

【技术特征摘要】

1.一种基于不确定性补偿的超精密光刻装备学习控制系统，其特征在于所述系统包括运动轨迹生成部分s1、学习控制部分s2、反馈控制部分s3和不确定性补偿...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋法质，武霭辰，孙鹏宇，董岳，刘杨，谭久彬，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：