用于不透明液体的UV杀菌处理系统技术方案

本发明专利技术公开了一种用于UV杀菌处理的系统，该系统利用主要在180nm至300nm之间的波长的UV‑C光来实现对不透明液体的杀菌处理。本发明专利技术还公开了一种监控系统，该监控系统包括到能够对不透明液体、比如对UV过度暴露敏感的高度不透明液体进行杀菌处理的系统中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及用于uv杀菌处理的系统，该系统利用主要在180nm至300nm之间的波长的uv-c光来实现对不透明液体的杀菌处理。本专利技术涉及监控系统，该监控系统包括到能够对不透明液体、比如对uv过度暴露敏感的高度不透明液体进行杀菌处理的系统中。

技术介绍

1、uv系统先前已经用于对液体食品进行巴氏消毒。这样的仪器的示例可以在us2002/096648中找到，其公开了用于将紫外光辐射到流体反应介质中的反应器。辐射室连接至入口和出口，这允许反应介质在暴露于紫外光的同时流动通过反应器。

2、这样的uv反应器仪器的另一示例是us2004/248076，其公开了用于借助于uv辐射和短时热处理对液体介质进行灭菌的设备和过程。

3、此外，在wo2019057257中已知这样的仪器，其公开了一种能够对高度不透明液体进行杀菌处理的系统，该系统的特征在于滤光器，该滤光器阻止高于uv-c光谱的波长到达待处理液体。

4、此外，包括各种传感器的监测系统先前已经被用作测量uv系统的效率的措施，以提供病原体和其他目标微生物从待处理液体中的充分去除。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于对不透明液体进行处理的UV杀菌处理系统，其中，所述UV杀菌处理系统包括：

2.根据权利要求1所述的UV杀菌处理系统，其中，所述控制器配置成具有预定最小值和预定最大值，以用于确定所述UV处理条件，并且其中，所述控制器配置成基于接收到的第一输入和第二输入来确定所述UV处理条件，使得所述UV处理条件在所述预定最小值和所述预定最大值内。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的UV杀菌处理系统，其中，所述控制器配置为对所述一个或更多个UV光源和用于控制流率的所述一个或更多个器件两者进行控制，并且其中，所述控制器还配置为基于所确定的UV处理条件来对所述一个或更多个U...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于对不透明液体进行处理的uv杀菌处理系统，其中，所述uv杀菌处理系统包括：

2.根据权利要求1所述的uv杀菌处理系统，其中，所述控制器配置成具有预定最小值和预定最大值，以用于确定所述uv处理条件，并且其中，所述控制器配置成基于接收到的第一输入和第二输入来确定所述uv处理条件，使得所述uv处理条件在所述预定最小值和所述预定最大值内。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的uv杀菌处理系统，其中，所述控制器配置为对所述一个或更多个uv光源和用于控制流率的所述一个或更多个器件两者进行控制，并且其中，所述控制器还配置为基于所确定的uv处理条件来对所述一个或更多个uv光源和/或用于控制流率的所述一个或更多个器件进行控制。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的uv杀菌处理系统，还包括一个或更多个阀以及一个或更多个附加内部uv光传感器，所述一个或更多个阀构造为改变所述一个或更多个螺旋形管内的所述流体路径，所述附加内部uv光传感器定位在所述一个或更多个螺旋形管的所述流体路径的内部，

5.根据前述权利要求中的任一项所述的uv杀菌处理系统，其中，所述uv杀菌处理系统还配置成用于对不透明液体进行预定时间段的uv杀菌处理、随后用对uv可透过的标准液体、比如水对所述uv杀菌处理系统进行预定时间段的冲洗，其中，所述控制器还配置成用于：在于所述流体路径内提供对uv可透过的所述标准液体、比如水时在进行预定...

【专利技术属性】
技术研发人员：拉斯穆斯·莫滕森，克里斯滕森·马蒂亚斯，
申请(专利权)人：莱拉斯丹麦有限公司，
类型：发明
国别省市：