【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体领域,特别是涉及一种硅光电倍增管及dtof测距芯片。
技术介绍
1、硅光电倍增管(silicon photomultiplier,sipm)是一种光电探测器件,由工作在盖革模式的单光子雪崩二极管(single photon avalanche diode,spad)阵列组成。
2、为了使用共同的衬底,当前的硅光电倍增管设计为背面共阳极结构(p型区域是连在一起的),正面通过不同的阴极来区分不同的通道。当对硅光电倍增管的各通道进行测试时,各通道的阴极需要接地,由于信号采样电路只能在低压端,所以,阳极只能接负的高压,而负压的产生电路比较特殊、复杂。
3、所以,如何解决上述技术问题应是本领域技术人员重点关注的。
技术实现思路
1、本申请的目的是提供一种硅光电倍增管及dtof测距芯片,以对硅光电倍增管进行采样输出时,可以避免使用负电压产生电路。
2、为解决上述技术问题,本申请提供一种硅光电倍增管,包括至少一个通道,每个所述通道包括至少一个单光子雪崩
...【技术保护点】
1.一种硅光电倍增管,其特征在于,包括至少一个通道,每个所述通道包括至少一个单光子雪崩二极管;每个通道对应一个阴极和一个阳极;
2.如权利要求1所述的硅光电倍增管,其特征在于,每个所述通道包括至少两个所述单光子雪崩二极管,且每个所述通道内所述单光子雪崩二极管之间并联。
3.如权利要求2所述的硅光电倍增管,其特征在于,还包括:
4.如权利要求3所述的硅光电倍增管,其特征在于,所述深沟槽隔离结构为完全贯通的深沟槽隔离结构;或,在所述单光子雪崩二极管的背面包括不完全贯通的深沟槽隔离结构和在所述单光子雪崩二极管的正面包括浅沟槽隔离结构,所述
...【技术特征摘要】
1.一种硅光电倍增管,其特征在于,包括至少一个通道,每个所述通道包括至少一个单光子雪崩二极管;每个通道对应一个阴极和一个阳极;
2.如权利要求1所述的硅光电倍增管,其特征在于,每个所述通道包括至少两个所述单光子雪崩二极管,且每个所述通道内所述单光子雪崩二极管之间并联。
3.如权利要求2所述的硅光电倍增管,其特征在于,还包括:
4.如权利要求3所述的硅光电倍增管,其特征在于,所述深沟槽隔离结构为完全贯通的深沟槽隔离结构;或,在所述单光子雪崩二极管的背面包括不完全贯通的深沟槽隔离结构和在所述单光子雪崩二极管的正面包括浅沟槽隔离结构,所述不完全贯通的深沟槽隔离结构和浅沟槽隔离结构将相邻的单光子雪崩二极管完全分隔开。
5.如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐涛,李爽,康杨森,厉思杰,
申请(专利权)人:深圳市灵明光子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。