一种阴极靶结构及镀膜设备制造技术

技术编号:41404983 阅读:10 留言:0更新日期:2024-05-20 19:31
本技术公开了一种阴极靶结构及镀膜设备,涉及镀膜设备技术领域,其中,阴极靶结构包括:基座;阴极靶本体,安装于所述基座;靶罩,设置于所述阴极靶本体的一侧,所述靶罩能够绕所述阴极靶本体的周向转动;旋转驱动机构,用于驱动所述靶罩转动。洗靶时,靶罩转动至阴极靶本体的溅射区域,靶罩用于遮挡溅射区域,使得洗靶时溅射出来的溅射粒子全部溅射到靶罩上,以此来减少溅射粒子溅射到镀膜腔体内衬板上,能够有效减少溅射粒子在内衬板上膜层的沉积,利于延长内衬板的使用周期,减少内衬板的更换频次。内衬板的更换频次减少,利于使PVD镀膜时工艺腔的气氛保持相对稳定,从而利于保证镀膜工艺的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜设备,特别涉及一种阴极靶结构及镀膜设备


技术介绍

1、在pvd镀膜工艺中,阴极靶会产生大量溅射粒子,大部分溅射粒子会在基片上沉积形成膜层。镀膜完成后,通常需要对阴极靶进行洗靶,在洗靶过程中阴极靶也会产生大量溅射粒子。无论是镀膜还是洗靶过程中,溅射粒子均会发散并溅射到镀膜腔体的内衬板上,并在其上沉积形成膜层,随着时间累积,膜层会越来越厚,由于热胀冷缩应力释放,会导致崩膜,最终影响镀膜质量。


技术实现思路

1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术提出一种阴极靶结构,洗靶时靶罩能够转动至阴极靶的溅射区域,利用靶罩对溅射粒子进行拦截,能够使得溅射到内衬板上的溅射粒子得以减少。

2、本技术还提出一种具有上述阴极靶结构的镀膜设备。

3、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,包括:基座;阴极靶本体,安装于所述基座;靶罩,设置于所述阴极靶本体的一侧,所述靶罩能够绕所述阴极靶本体的周向转动;旋转驱动机构,用于驱动所述靶罩转动。

4、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述靶罩包括挡板,所述挡板的横截面轮廓呈现为弧线形,所述挡板的轴向方向与所述阴极靶本体的长度方向平行。

5、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述挡板的横截面轮廓为半圆。

6、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述基座包括安装部,所述靶罩还包括转动轴和连接板,所述转动轴转动安装于所述安装部,所述挡板的两侧均设置有所述连接板,所述转动轴与所述连接板连接。

7、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述旋转驱动机构包括驱动件,所述驱动件的输出端与所述转动轴连接。

8、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述旋转驱动机构还包括第一驱动轮和第二驱动轮,所述第一驱动轮与所述驱动件的输出端连接,所述第二驱动轮与所述转动轴连接,所述第一驱动轮用于带动所述第二驱动轮转动。

9、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述安装部上设置有到位检测传感器,所述到位检测传感器通过检测所述靶罩的位置以判断所述靶罩是否转动到位。

10、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述到位检测传感器为激光对射传感器,所述激光对射传感器包括传感器本体和感应部件,所述传感器本体设置于所述挡板的转动轴线的一侧,所述感应部件设置于所述挡板的转动轴线另一侧,所述挡板位于所述传感器本体和所述感应部件之间,当所述靶罩转动到位时,所述感应部件能够接收到所述传感器本体发出的激光。

11、根据本技术一方面实施例的阴极靶结构,所述阴极靶本体为圆柱状。

12、本技术另一方面实施例的镀膜设备,包括如前所述的阴极靶结构。

13、根据本技术实施例的阴极靶结构,至少具有如下有益效果:洗靶时,靶罩转动至阴极靶本体的溅射区域,靶罩能够用于遮挡溅射区域,使得阴极靶本体溅射出来的溅射粒子大部分甚至全部溅射到靶罩上,以此来减少溅射粒子溅射到镀膜腔体内衬板上,从而能够有效减少内衬板上膜层的沉积,利于延长内衬板的使用周期,减少内衬板的更换频次。由于内衬板的更换频次减少,利于使pvd镀膜时工艺腔的气氛保持相对稳定,从而提高镀膜工艺的稳定性。

14、本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阴极靶结构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的阴极靶结构,其特征在于,所述挡板的横截面轮廓为半圆形。

3.根据权利要求2所述的阴极靶结构,其特征在于,所述旋转驱动机构包括驱动件,所述驱动件的输出端与所述转动轴连接。

4.根据权利要求3所述的阴极靶结构,其特征在于,所述旋转驱动机构还包括第一驱动轮和第二驱动轮,所述第一驱动轮与所述驱动件的输出端连接,所述第二驱动轮与所述转动轴连接,所述第一驱动轮用于带动所述第二驱动轮转动。

5.根据权利要求1所述的阴极靶结构,其特征在于,所述安装部上设置有到位检测传感器,通过所述到位检测传感器检测所述靶罩的位置以判断所述靶罩是否转动到位。

6.根据权利要求5所述的阴极靶结构,其特征在于,所述到位检测传感器为激光对射传感器,所述激光对射传感器包括传感器本体和感应部件,所述传感器本体设置于所述挡板的转动轴线的一侧,所述感应部件设置于所述挡板的转动轴线另一侧,所述挡板位于所述传感器本体和所述感应部件之间,当所述靶罩转动到位时,所述感应部件能够接收到所述传感器本体发出的激光。p>

7.根据权利要求1所述的阴极靶结构,其特征在于,所述阴极靶本体为圆柱状。

8.一种镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1至7任一项所述的阴极靶结构。

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【技术特征摘要】

1.一种阴极靶结构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的阴极靶结构,其特征在于,所述挡板的横截面轮廓为半圆形。

3.根据权利要求2所述的阴极靶结构,其特征在于,所述旋转驱动机构包括驱动件,所述驱动件的输出端与所述转动轴连接。

4.根据权利要求3所述的阴极靶结构,其特征在于,所述旋转驱动机构还包括第一驱动轮和第二驱动轮,所述第一驱动轮与所述驱动件的输出端连接,所述第二驱动轮与所述转动轴连接,所述第一驱动轮用于带动所述第二驱动轮转动。

5.根据权利要求1所述的阴极靶结构,其特征在于,所述安装部上设置有到位检测传感器,通过所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名
申请(专利权)人:广东利元亨智能装备股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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