气体供给装置及块状凸缘制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种气体供给装置及块状凸缘，该气体供给装置能够供给复杂的工艺气体，能够减小地面占有面积。在具有第一线路及第二线路的气体供给装置（１）中，该第一线路与第一质量流控制器（ＭＢ）连接，该第二线路与第二质量流控制器（ＭＣ）连接，该第一线路具有供给气体Ａ的第一开闭阀（ＶＢ３）及供给气体Ｃ的第二开闭阀（ＶＢ２），该第二线路具有供给气体Ｂ的第三开闭阀（ＶＣ３）及供给气体Ｄ的第四开闭阀（ＶＣ２），在气体供给装置（１）中，气体Ａ和气体Ｂ是相同的气体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种气体供给装置，其具有第一线路及第二线路，该第一线路与第一质量流控制器连接，该第二线路与第二质量流控制器连接，该第一线路具有第一开闭阀及 第二开闭阀，该第二线路具有第三开闭阀及第四开闭阀，该气体供给装置与供给四种气体A、B、C、D的供给口连接。
技术介绍
目前，作为这种技术，公示有下述的专利文献1及专利文献2中记载的气体供给装 置，其专利技术的目的为，减少高价且比较大的装置即质量流控制器的使用数，减小地面占有面 积。 如图32所示，专利文献1记载的气体供给装置300具有控制混合前的气体流量 的质量流控制器301MA。另外，在质量流控制器301MA中连接有三个开闭阀302VA、303VA、 304VA。在图32中，为了易于和本专利技术对比，设定有三个开闭阀。将与质量流控制器301MA 连接的线路设定为第一线路。 由于具有该结构，能够减少高价且比较大的装置即质量流控制器的使用数。 但是，在专利文献1的专利技术中，例如，在供给工艺气体时，在有频繁使用的工艺气 体G1的情况下，设定为通过一个质量流控制器301MA而只能供给工艺气体G1时，不能在第 一线路中同时供给通过同一质量流控制器301MA的另外的工艺气体G2、 G3。于是，在供给 其他的工艺气体G2、 G3时，必须停止工艺气体G1的供给。因此，存在不能与复杂的工艺相 对应，或需要用于对应的新的质量流控制器的问题。 于是，作为解决专利文献1的专利技术的课题，有专利文献2的专利技术。 如图33所示，专利文献2所述的气体供给装置200具有三个质量流控制器201MA、201MB、201MC。在质量流控制器201MA上连通有开闭阀212A 212H八个开闭阀。另外，其他的质量流控制器201MB、201MC也分别连通有八个开闭阀。将与质量流控制器201MA连通的线路设定为第一线路，将与质量流控制器201MB连通的线路设定为第二线路，将与质量流控制器201MC连通的线路设定为第三线路。例如，在供给工艺气体G1时，只要将开闭阀212A、213A或214A中任一个打开，就可以从第一线路至第三线路的任何线路供给工艺气体Gl。因此，在用第一线路供给频繁供给的工艺气体例如工艺气体G1时，也能够用另外的第二、第三线路供给另外的工艺气体G2、G3。因此，即使不停止工艺气体G1的供给，也能够供给其他的工艺气体G2、G3。 专利文献1 :日本特许3904368号 专利文献2 :日本特开2003-91322号公报 但是，在现有的气体供给装置200中存在以下问题。 例如，在气体供给装置200中，开闭阀需要24个。因此，开闭阀增多，所以存在制 造成本增高及地面占有面积变大的问题。 另外，如上所述，在专利文献1的气体供给装置300中，开闭阀的个数少，但是，例如供给气体时，在有频繁地使用的工艺气体Gl的情况下，设定为通过一个质量流控制器 301MA只能供给工艺气体Gl时，在第一线路中不能同时供给通过同一质量流控制器301MA 的另外的工艺气体G2、G3。于是，在供给其他的工艺气体G2、G3时，必须停止工艺气体G1供 给。因此，存在不能与复杂的工艺相对应，或者需要用于对应的新的质量流控制器的问题。 另外，在专利文献1的气体供给装置300中，在各工艺的每一个工艺所使用的工艺 气体的供给源和用于供给该工艺气体的全部的管与各开闭阀直接连接，因此，存在管混杂， 不能减小地面占有面积的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术是为解决上述问题而开发的，其目的在于，提供一种气体供给装置， 可以不停止频繁使用的工艺气体的供给而能够使用其他的工艺气体，并能够减小地面占有 面积。 为实现上述目的，本专利技术的第一方面提供一种气体供给装置及块状凸缘，其具有 如下的结构。(1) —种气体供给装置，具有第一线路及第二线路，第一线路与第一质量流控制器连接，第二线路与第二质量流控制器连接，第一线路具有第一开闭阀及第二开闭阀，第二线 路具有第三开闭阀及第四开闭阀，该气体供给装置与供给四种气体A、 B、 C、 D的供给口连 接，其特征为，气体A和气体B是同一气体，第一开闭阀及第三开闭阀与供给气体A的供给 口连接，第二开闭阀与供给气体C的供给口连接，第四开闭阀与供给气体D的供给口连接。 (2)如(1)所述的气体供给装置，其特征为，具有块状凸缘，其被安装于所有的开 闭阀上安装的歧管块的下表面，块状凸缘具有与管连接的连接口、将与形成于歧管块的开 闭阀连结的歧管连通路和连接口连通的凸缘连通路、以及用于确保管通过的空间的管避让 部。 (3) (1)或(2)所述的气体供给装置，其特征为，在回路的排气侧具有流量检测系 统。 (4) (1)或(2)所述的气体供给装置，其特征为，块状凸缘在纵方向、横方向的任一 方向都能够安装于歧管块上。 (5) —种块状凸缘，其被安装于开闭阀上安装的歧管块的下表面，其特征为，块状 凸缘具有与管连接的连接口、将与形成于歧管块的开闭阀连结的歧管连通路和连接口连 通的凸缘连通路、以及用于确保管通过的空间的管避让部。 (6) (5)所述的块状凸缘，其特征为，块状凸缘在纵方向、横方向的任一方向都能够 安装于所述歧管块上。 对所述气体供给装置及块状凸缘的作用及效果进行说明。 (1)根据所述专利技术的气体供给装置，气体A和气体B是同一气体，第一开闭阀及第 三开闭阀与供给气体A的供给口连接，第二开闭阀与供给气体C的供给口连接，第四开闭阀 与供给气体D的供给口连接，因此，例如供给气体时，即使在有频繁地使用的工艺气体G1的 情况下，也能够通过两个质量流控制器而供给工艺气体G1。因此，在同时供给其他的工艺气 体G2、 G3的情况下，通过对工艺气体G1使用其他的质量流控制器，能够同时供给工艺气体 G2或G3。因此，能够与复杂的工艺相对应，因此，不需要新的质量流控制器。 (2)具有(1)的结构，另外，具有在安装于开闭阀的歧管块的下表面安装的块状凸 缘，块状凸缘具有与管连接的连接口、将与形成于歧管块的开闭阀连结的歧管连通路和连 接口连通的凸缘连通路、以及用于确保管通过的空间的管避让部，通过采用上述的结构，能 够整理管，因此，能够减少浪费的空间，因此能够减小地面占有面积。(3)具有(1)或(2)的构成，另外，采用在回路的排气侧具有流量检测系统的结构， 因此，通过测定质量流控制器的流量，能够进行质量流控制器的不良情况的判断。 (4)具有(1)或(2)的结构，另外，采用块状凸缘在纵方向、横方向的任一方向都能 够安装于歧管块上的结构，因此，能够按照设置气体供给装置的场所来设计气体供给装置。 因此，能够节省空间而配置气体供给装置。 (5) —种块状凸缘，被安装于开闭阀上安装的歧管块的下表面，块状凸缘具有与 管连接的连接口、将与形成于歧管块的开闭阀连结的歧管连通路和连接口连通的凸缘连通 路、以及用于确保管通过的空间的管避让部，因此，能够整理管，因此，能够减少浪费的空 间，因此，能够减小地面占有面积。 (6)具有(5)的结构，另外，采用块状凸缘在纵方向、横方向的任一方向都能够安 装于歧管块上的结构，因此，能够按照设置的场所来设计气体供给装置。因此，能够节省空 间而配置气体供给装置。附图说明 I I | | | | | | | | 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体供给装置，具有第一线路及第二线路，该第一线路与第一质量流控制器连接，该第二线路与第二质量流控制器连接，该第一线路具有供给气体Ａ的第一开闭阀及供给气体Ｃ的第二开闭阀，该第二线路具有供给气体Ｂ的第三开闭阀及供给气体Ｄ的第四开闭阀，其特征在于，　　所述气体Ａ和所述气体Ｂ是同一气体。

【技术特征摘要】
JP 2008-11-3 2008-282650一种气体供给装置，具有第一线路及第二线路，该第一线路与第一质量流控制器连接，该第二线路与第二质量流控制器连接，该第一线路具有供给气体A的第一开闭阀及供给气体C的第二开闭阀，该第二线路具有供给气体B的第三开闭阀及供给气体D的第四开闭阀，其特征在于，所述气体A和所述气体B是同一气体。2. 如权利要求l所述的气体供给装置，其特征在于，具有块状凸缘，该块状凸缘被安装于所述所有的开闭阀上所安装的歧管块的下表面， 所述块状凸缘具有 与管连接的连接口；凸缘连通路，将与形成于所述歧管块的所述开闭阀连接的歧管连通路和所述连接口连...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上贵史，西村康典，
申请(专利权)人：喜开理株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]