【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体刻蚀设备，尤其涉及一种半导体刻蚀设备的清洁系统及其清洁方法。
技术介绍
1、在高科技领域内，芯片的加工成为了重中之重，芯片在加工过程中需要进行半导体的刻蚀处理，现有技术中通常采用干法等离子刻蚀对半导体进行加工，以便于提高刻蚀的精准度。等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
2、在现有技术中，申请号为：202122164835.9的中国专利文件，公开了一种半导体芯片用等离子刻蚀机清洁装置，包括等离子刻蚀机本体、防护罩、支撑柱和电动滑轨，所述等离子刻蚀机本体一侧设有控制面板，且等离子刻蚀机本体内部设有蓄电池，同时蓄电池一侧设有除尘机构，所述防护罩设置在等离子刻蚀机本体上方，且防护罩内部设有工作台，所述支撑柱通过焊接方式与等离子刻蚀机本体固定连接，且支撑柱顶端固定连接有顶板，所述电动滑轨设置在顶板下方，且电动滑轨与滑块滑动连接，同时滑块下方设有清洁机构。该半导体芯片用等离子刻蚀机清洁装置，设置有除尘机构和清洁机构，除尘机构除尘效果较好，便于使用，清洁机构便于对等离子刻蚀机进行清理。
3、但是上述技术方案由于清洁毛刷只能够上下移动，无法进行转动，对刻蚀设备与芯片的清洁效果较差，另外刻蚀芯片产生的粉尘颗粒
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种半导体刻蚀设备的清洁系统及其清洁方法，以解决上述
技术介绍
中提出的由于清洁毛刷只能够上下移动，无法进行转动，对刻蚀设备与芯片的清洁效果较差，另外刻蚀芯片产生的粉尘颗粒会堆积在防护罩的内部，不方便后续进行清理的问题。
2、为实现上述目的，本申请提供如下技术方案：一种半导体刻蚀设备的清洁系统，包括等离子刻蚀机本体，所述等离子刻蚀机本体的顶部安装有工作台，等离子刻蚀机本体的左侧固定安装有支架，支架的左侧固定安装有除尘机构，等离子刻蚀机本体的顶部放置有防护罩，除尘机构上设置有连接组件，连接组件与防护罩相配合，等离子刻蚀机本体的顶部设置有定位组件，定位组件与防护罩相配合；
3、支架的底部固定安装有电动推杆，电动推杆的输出轴上固定安装有电机，电机的输出轴上固定安装有连接箱，连接箱的底部设置有第一清洁刷，第一清洁刷的顶部固定安装有连接杆，连接杆的顶端贯穿连接箱的底部并延伸至连接箱的内部，连接杆的左侧和右侧均开设有卡槽，连接箱的内部设置有安装组件，安装组件分别与两个卡槽相配合，第一清洁刷的右端固定安装有第二清洁刷。
4、借由上述结构，通过启动除尘机构能够在半导体芯片进行刻蚀加工时进行抽烟和抽尘操作，起到高效除尘效果，另外通过启动电动推杆能够带动电机、连接箱、第一清洁刷和第二清洁刷进行上下移动，从而能够使得第一清洁刷与工作台的顶部接触，且能实现第二清洁刷与等离子刻蚀机本体的顶部接触，同时通过启动电机能够带动第一清洁刷和第二清洁刷进行转动并实现对工作台和等离子刻蚀机本体的顶部进行清扫操作，实现清洁效果。
5、优选的，所述连接组件包括波纹管和集尘罩；
6、除尘机构上固定连通有波纹管，波纹管的右端转动连接有集尘罩，集尘罩的外侧开设有螺纹槽，防护罩的左侧内壁上开设有螺纹孔，集尘罩的右端延伸至螺纹孔的内部，螺纹槽与螺纹孔之间螺纹连接。
7、进一步的，通过设置连接组件能够对除尘机构与防护罩之间进行快速拆装，能够使得除尘机构不会对防护罩的拆装造成影响，便于人员对防护罩进行拆装操作。
8、优选的，所述定位组件包括两个安装块、两个丝杆、两个螺母、两个横杆和两个定位块；
9、两个安装块相互靠近的一侧分别与防护罩的左侧和右侧固定连接，安装块的顶部开设有定位槽，两个丝杆的底端均转动连接在等离子刻蚀机本体的顶部，螺母螺纹套设在对应的丝杆上，横杆的一端固定安装在对应的螺母上，定位块的顶部固定连接在对应的横杆的底部，定位块的底端可脱离插接在对应的定位槽内。
10、进一步的，通过设置定位组件能够对防护罩进行快速拆装，能够将防护罩拆除后对清扫后的灰尘进行清理，方便人员进行完全和高效果清理。
11、优选的，所述支架的底部固定安装有两个伸缩杆，两个伸缩杆的底端均固定连接有传动杆，两个传动杆相互对应的一端分别与电机的左侧和右侧固定安装。
12、进一步的，通过设置伸缩杆能够提高电机、第一清洁刷和第二清洁刷的上下运动的稳定性。
13、优选的，所述连接箱的底部内壁上开设有插孔，连接杆的顶端贯穿插孔并与插孔的内壁滑动接触。
14、进一步的，通过开设插孔能够便于连接杆与连接箱之间进行连接。
15、优选的，所述安装组件包括两个滑杆、两个卡块、两个弹簧、两个转轴和两个偏心轮；
16、两个滑杆的底端均与连接箱的底部内壁滑动连接，两个卡块相互远离的一端分别与两个滑杆相互靠近的一侧固定连接，两个卡块相互靠近的一端分别可脱离插接在两个卡槽内，两个弹簧相互远离的一端分别与连接箱的左侧内壁和右侧内壁固定连接，两个弹簧相互靠近的一端分别与两个滑杆相互远离的一端固定连接，转轴的左端贯穿连接箱的右侧并转动连接在连接箱的左侧内壁上，两个偏心轮均固定套设在转轴上，两个偏心轮相互靠近的一侧分别与两个滑杆相互远离的一侧相接触。
17、进一步的，通过设置安装组件与两个卡槽之间的卡装配合，能够实现对连接杆与连接箱之间的快速拆装，同时能够实现对第一清洁刷和第二清洁刷的快速拆装，从而能够便于人员对第一清洁刷和第二清洁刷进行清洁更换。
18、优选的，所述连接箱的底部内壁上开设有两个滑槽，滑杆的底端延伸至对应的滑槽内并与滑槽的内壁滑动连接。
19、进一步的，通过开设滑槽能够对滑杆和卡块进行稳定的滑动限位和滑动支撑。
20、优选的，两个所述滑杆相互远离的一侧均固定连接有解锁杆，两个解锁杆相互远离的一端分别贯穿连接箱的左侧内壁和右侧内壁并延伸至连接箱的外部。
21、进一步的，通过设置解锁杆能够便于人员带动卡块与卡槽之间进行解锁操作。
22、优选的，所述转轴上套设有扭簧，扭簧的左端固定连接在连接箱的左侧内壁上，扭簧的右端固定连接在左侧偏心轮的左侧。
23、进一步的，通过设置扭簧能够带动转轴和偏心轮进行转动复位。
24、本专利技术还提出了一种半导体刻蚀设备的清洁系统的清洁方法，包括以下步骤：
25、s1：通过启动除尘机构并通过波纹管和集尘罩之间的配合，能实现对防护罩的内部进行抽烟和抽尘操作，起到高效除尘效果；
26、s2：另外通过启动电动推杆能够带动电机、连接本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种半导体刻蚀设备的清洁系统，包括等离子刻蚀机本体(1)，其特征在于，所述等离子刻蚀机本体(1)的顶部安装有工作台(2)，等离子刻蚀机本体(1)的左侧固定安装有支架(3)，支架(3)的左侧固定安装有除尘机构(4)，等离子刻蚀机本体(1)的顶部放置有防护罩(7)，除尘机构(4)上设置有连接组件，连接组件与防护罩(7)相配合，等离子刻蚀机本体(1)的顶部设置有定位组件，定位组件与防护罩(7)相配合；
2.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述连接组件包括波纹管(5)和集尘罩(6)；
3.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述定位组件包括两个安装块(9)、两个丝杆(11)、两个螺母(12)、两个横杆(13)和两个定位块(14)；
4.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述支架(3)的底部固定安装有两个伸缩杆(17)，两个伸缩杆(17)的底端均固定连接有传动杆，两个传动杆相互对应的一端分别与电机(16)的左侧和右侧固定安装。
5.根据权利要求1所述的一种
6.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述安装组件包括两个滑杆(24)、两个卡块(26)、两个弹簧(27)、两个转轴(28)和两个偏心轮(29)；
7.根据权利要求6所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述连接箱(18)的底部内壁上开设有两个滑槽(25)，滑杆(24)的底端延伸至对应的滑槽(25)内并与滑槽(25)的内壁滑动连接。
8.根据权利要求6所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，两个所述滑杆(24)相互远离的一侧均固定连接有解锁杆(31)，两个解锁杆(31)相互远离的一端分别贯穿连接箱(18)的左侧内壁和右侧内壁并延伸至连接箱(18)的外部。
9.根据权利要求6所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述转轴(28)上套设有扭簧(30)，扭簧(30)的左端固定连接在连接箱(18)的左侧内壁上，扭簧(30)的右端固定连接在左侧偏心轮(29)的左侧。
10.一种半导体刻蚀设备的清洁系统的清洁方法，其特征在于，包括以下步骤：
...【技术特征摘要】
1.一种半导体刻蚀设备的清洁系统，包括等离子刻蚀机本体(1)，其特征在于，所述等离子刻蚀机本体(1)的顶部安装有工作台(2)，等离子刻蚀机本体(1)的左侧固定安装有支架(3)，支架(3)的左侧固定安装有除尘机构(4)，等离子刻蚀机本体(1)的顶部放置有防护罩(7)，除尘机构(4)上设置有连接组件，连接组件与防护罩(7)相配合，等离子刻蚀机本体(1)的顶部设置有定位组件，定位组件与防护罩(7)相配合；
2.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述连接组件包括波纹管(5)和集尘罩(6)；
3.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述定位组件包括两个安装块(9)、两个丝杆(11)、两个螺母(12)、两个横杆(13)和两个定位块(14)；
4.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述支架(3)的底部固定安装有两个伸缩杆(17)，两个伸缩杆(17)的底端均固定连接有传动杆，两个传动杆相互对应的一端分别与电机(16)的左侧和右侧固定安装。
5.根据权利要求1所述的一种半导体刻蚀设备的清洁系统，其特征在于，所述连接箱(18)的底...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄文洋，堀川英明，
申请(专利权)人：杭州泽达半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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