一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法技术

本发明专利技术公开了一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，包括以下步骤：S1、铜铬锻锭；S2、粗车外圆、锯切料头；S3、多线切割加工毛坯，S3‑1、棒料固化，S3‑2、切割加工；S4、自动旋压；S5、精加工成品；本发明专利技术相对于传统挤压成型的铜铬屏蔽筒，具备利用率高、成型速度快、表面质量好、精度高、不受屏蔽筒大小规格影响，适用于多种产品，换型简单，适合批量化生产制造的优势。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及金属屏蔽筒加工，具体是涉及一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法。

技术介绍

1、真空灭弧室的结构通常包括电极、熔断器、触头、金属屏蔽筒、瓷壳等元件。其中，金属屏蔽筒是起着关键作用的一部分，主要作用有：1、防止或减轻触头在燃弧过程中产生的金属蒸汽和液滴喷溅对绝缘壳内壁的污染程度，从而避免造成真空灭弧室外壳的绝缘强度下降和产生闪络。2、改善真空灭弧室内部的电场分布，有利于降低局部场强，促进真空灭弧室的小型化，尤其是对高电压等级真空灭弧室绝缘外壳的小型化有显著效果。3、冷凝电弧产物，吸收部分电弧能量，有利于电弧间隙介电强度的恢复。

2、屏蔽筒可由无氧铜、不锈钢、电工纯铁或铜铬合金等材料制成。随着真空灭弧室不断向高电压等级发展，其中铜铬屏蔽筒受到市场关注度越来越高，主要是因为其具备高强高导散热、隔离导向熄弧能力强的性能，使得真空灭弧室的长期可靠稳定运行。铜铬屏蔽筒材料制备方法比较成熟，一般有粉末冶金法、真空熔炼法等，但由于粉末冶金阀屏蔽筒的致密度问题，导致其强度不如真空冶炼屏蔽筒，尤其是在高电压领域受限，终端市场更倾向于真空冶炼法生产的铜本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，步骤S2的粗车外圆过程中，粗车背吃刀量为1-3mm，主轴转速为500-800r/min，进给量为0.1-0.4mm/r。

3.如权利要求1所述的一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，步骤S3-1前，对所述待切割铜铬触头棒料进行表面处理；所述表面处理的方法为：

4.如权利要求3所述的一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，所述混合方式为将甲醇、环氧树脂、去离子水按照400～450r/min的转...

【技术特征摘要】

1.一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，步骤s2的粗车外圆过程中，粗车背吃刀量为1-3mm，主轴转速为500-800r/min，进给量为0.1-0.4mm/r。

3.如权利要求1所述的一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，步骤s3-1前，对所述待切割铜铬触头棒料进行表面处理；所述表面处理的方法为：

4.如权利要求3所述的一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，所述混合方式为将甲醇、环氧树脂、去离子水按照400～450r/min的转速混合20～30min，然后将所述苯环等分为4～6份，在混合过程中每隔2～4min喷淋一次，直至混合完成。

5.如权利要求3所述的一种真空灭弧室用铜铬屏蔽筒的加工方法，其特征在于，对所述待切割铜铬触头棒料进行预处理，所述预处理方法为：将所述待切割铜铬触头棒料放入质量浓度为3-4％的硝酸溶液中浸泡15-25min，取出后用去离子水冲洗1-3次，最后放入温度为50-55℃的干燥箱中干燥25-35min备用。

6.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：师晓云，郭鹏，贺德永，王小军，郭赞，李鹏，李存英，杨斌，
申请(专利权)人：陕西斯瑞新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：