【技术实现步骤摘要】
本技术涉及溅射靶材，尤其涉及一种无象足等静压模具装置。
技术介绍
1、旋转溅射靶材是一种圆管形的真空镀膜材料。目前，常用的旋转溅射靶材胚体的制作工艺为等静压成型工艺。等静压工艺的原理为，将模具浸入液体中，通过增压系统将液体加压，液体介质可将压力各向均匀地传到至模具表面，模具内粉末受到均匀压力后，分子间距离缩短，从而改变理化性质。加工旋转溅射靶材胚体所需的模具，多为内外同心的模具，一般包括内芯、外胶套以及端盖，模具内腔为圆管形状。将靶材粉末填充进模具，装入等静压机压制成型，即可制得旋转溅射靶材胚体。
2、然而，现有的加工工艺会产生端部效应，使得等静压成型后的旋转溅射靶材胚体存在两个端部粗于中间部的现象，这种粗大的端部也被称为“象足”。造成端部效应的具体原因为，等静压工艺原理上可通过液体介质将压力各向同性地转递给模具，而模具却并不能各向同性地将压力传递给模具内工件。具体原因为，加工旋转溅射靶材胚体的模具的受到液体介质压力的部件包括外胶套和端盖。端盖轴向扣合于外胶套两端，采用过盈配合，即端盖和外胶套的接触面紧密贴合。当端盖受到液体...
【技术保护点】
1.一种无象足等静压模具装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的无象足等静压模具装置，其特征在于，所述形变腔设置有多个，并环绕所述胶环件的中心间隔设置。
3.根据权利要求2所述的无象足等静压模具装置，其特征在于，所述胶环件包括环形的管体部和环绕所述管体部间隔分布的多个形变孔，所述形变孔呈盲孔结构，所述形变区位于形变孔的孔底。
4.根据权利要求3所述的无象足等静压模具装置，其特征在于，多个所述形变孔间隔分布于所述管体部的二个及以上同心圆的中心线上，相邻两圈同心圆的中心线上的形变孔错位分布。
5.根据权利要求3所述...
【技术特征摘要】
1.一种无象足等静压模具装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的无象足等静压模具装置，其特征在于，所述形变腔设置有多个，并环绕所述胶环件的中心间隔设置。
3.根据权利要求2所述的无象足等静压模具装置，其特征在于，所述胶环件包括环形的管体部和环绕所述管体部间隔分布的多个形变孔，所述形变孔呈盲孔结构，所述形变区位于形变孔的孔底。
4.根据权利要求3所述的无象足等静压模具装置，其特征在于，多个所述形变孔间隔分布于所述管体部的二个及以上同心圆的中心线上，相邻两圈同心圆的中心线上的形变孔错位分布。
5.根据权利要求3所述的无象足等静压模具装置，其特征在于，所述形变孔的孔洞总面积与所述管体部截面的比值设置为a，其中，0.5≤a≤0.8...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾嘉伟，陈钉铭，朱耀，雷炫卓，李思剑，陈远莲，程奕，朱永明，
申请(专利权)人：森祥宁波新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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