用于储存固体颗粒的升华容器及高浓度蒸汽制备方法技术

本申请涉及气化容器技术领域，尤其涉及一种用于储存固体颗粒的升华容器及高浓度蒸汽制备方法，包括，底部设置为弧形的本体；密封连接在本体上的上盖，上盖上设置有进气管和排气管；沿本体的轴向排列设置于本体内的多个储料盘，储料盘上连接有支撑柱和多个导气柱；其中，支撑柱上设置有通孔，多个支撑柱上的通孔连通形成与进气管相对的进气孔，相邻的储料盘上的导气柱在水平方向上和竖直方向上均交错设置。高浓度蒸汽制备方法，使用如上的用于储存固体颗粒的升华容器制备蒸汽，本申请中固体颗粒在储存装置中直接实现气化，通入本体内的气体均匀朝向储料盘流动，气体与固体反应，稳定输出浓度较高的均匀蒸汽，降低了成本，提高薄膜沉积作业效率。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及前驱体供应，尤其涉及一种用于储存固体颗粒的升华容器及高浓度蒸汽制备方法。

技术介绍

1、在半导体制造的薄膜沉积工艺、镀膜等工艺的应用中，所使用到的固态前驱体材料，需要气化以形成固态源蒸气并输送至反应容器中。

2、以二氯二氧化钼为例，二氯二氧化钼是用于合成各种钼基纳米材料，二氯二氧化钼常温状态下是固态，在薄膜沉积的应用过程中为使其变成气态就需要对其加热使其升华。

3、由于目前用来盛装如二氯二氧化钼固体的包装容器中，固体颗粒大量堆积在一起，若直接进行加热使其变成气态，则输出的蒸汽浓度较低，因此大都不能直接作为原料气体端，仅能作为储存容器使用，在进行薄膜沉积工艺前需要使用其他气化装置进行处理，这就导致薄膜沉积作业效率较低，成本较高。

技术实现思路

1、本专利技术要解决的技术问题是：现有的用于储存薄膜沉积工艺所使用到的固态前驱体材料的容器功能单一，在进行薄膜沉积工艺前需要使用其他气化装置进行处理，导致薄膜沉积作业效率较低，成本较高。

2、为此，本专利技术提供一种用于储存固本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，包括，

2.根据权利要求1所述的用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，所述导气柱(31)的一端贯穿储料盘(3)的底面，所述导气柱(31)贯穿储料盘(3)底部的一端端面为下端面，所述下端面位于储料盘(3)底面下方。

3.根据权利要求2所述的用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，所述导气柱(31)远离储料盘(3)底部的一端端面为上端面，所述上端面位于储料盘(3)开口端端面的下方，在相邻的所述储料盘(3)中，位于下方的储料盘(3)上的导气柱(31)的上端面，与位于上方的储料盘(3)底面之间的间距A与储料盘(3)深度H之...

【技术特征摘要】

1.一种用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，包括，

2.根据权利要求1所述的用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，所述导气柱(31)的一端贯穿储料盘(3)的底面，所述导气柱(31)贯穿储料盘(3)底部的一端端面为下端面，所述下端面位于储料盘(3)底面下方。

3.根据权利要求2所述的用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，所述导气柱(31)远离储料盘(3)底部的一端端面为上端面，所述上端面位于储料盘(3)开口端端面的下方，在相邻的所述储料盘(3)中，位于下方的储料盘(3)上的导气柱(31)的上端面，与位于上方的储料盘(3)底面之间的间距a与储料盘(3)深度h之间满足比例关系1:10~1:18。

4.根据权利要求3所述的用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，相邻的所述储料盘(3)中，位于上方的储料盘(3)上的导气柱(31)的下端面，位于其下方的储料盘(3)上的导气柱(31)的上端面的下方。

5.根据权利要求4所述的用于储存固体颗粒的升华容器，其特征在于，位于上方的所述储料盘(3)上的导气柱(31)的下端面与其下方的储料盘(3)上的导气柱(31)的上端面之间的间距b，与a...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘民，董兴玉，陆翔，张真真，
申请(专利权)人：常州容导精密装备有限公司，
类型：发明
国别省市：