可清洁水刀或风刀出口的光学工艺设备制造技术

本发明专利技术公开了一种光学工艺设备，其包含一清除装置、一刮除件以及一传动装置。清除装置用来自出口射出液体或气体以清除进入该光学工艺设备的基板上的化学试剂。刮除件伸入该出口且厚度小于该出口的宽度。传动装置装设于该清除装置上并连接于该刮除件，用来带动该刮除件沿该出口来回移动，以清除该出口间的堵塞。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种用于液晶显示面板制造的光学工艺设备，尤指一种利用 清洁风(水)刀装置的出风(水)口的光学工艺设备，以提升液晶显示面板生产效
技术介绍
功能先进的显示器已渐成为现今消费电子产品的重要特色，其中液晶显示面板(Liquid crystal display panel, LCD panel)已经逐渐为各种电子设备如电视、 移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕所 广泛应用。LCD面板生产设备因工艺繁复故有多种不同的设计，其中LCD显影设 备的用途是把前置装置水平搬送来的基板做显像处理、纯水洗净、中压洗净、 毛刷水洗、温纯水洗净及液切处理。由于在显像处理时，基板会涂布显影剂， 因此显影设备最后会需要清除基板上多余的显影剂。传统的清洁治具使用风刀 装置或者是水刀装置来洗去大部分的显影液。一般的风刀或水刀装置会连接多 条管线，将纯化的空气或是大量的循环水由管线输送至出风口或是出水口高压 射出，利用风力或是水压以清除基板上的显影剂。但是，当出风口或出水口堵 塞造成分岔时，就会造成显像剂洗净不均的横向痕迹(mura)。所以操作人员必 须随时地清洁出本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学工艺设备，其特征在于，包含：　一清除装置，其包含一出口，用来自该出口射出一液体或一气体；　一刮除件，该刮除件伸入该出口的间，且厚度小于该出口的宽度；以及　一传动装置，装设于该清除装置上并连接于该刮除件，用来带动该刮 除件沿该出口移动，以清除该出口间的堵塞。

【技术特征摘要】
1、一种光学工艺设备，其特征在于，包含一清除装置，其包含一出口，用来自该出口射出一液体或一气体；一刮除件，该刮除件伸入该出口的间，且厚度小于该出口的宽度；以及一传动装置，装设于该清除装置上并连接于该刮除件，用来带动该刮除件沿该出口移动，以清除该出口间的堵塞。2、 如权利要求1所述的光学工艺设备，其特征在于，该清除装置包含一 加压装置，用来施压予该液体或该气体，使得该液体或该气体自该出口高速射 出以清除一基板表面涂布的化学试剂。3、 如权利要求2所述的光学工艺设备，其特征在于，该清除装置是一风 刀装置。4、 如权利要求2所述的光学工艺设备，其特征在于，该清除装置是一水 刀装置。5、 如权利要求1所述的光学工艺设备，其特征在于，该传动装置包含 一滑动部，设置于该本体上，其延伸方向同该出口延伸方向；一固持部，用来于固定该刮除件的一端；以及一卡合件，连接于该固持部且卡合于该滑...

【专利技术属性】
技术研发人员：许培郁，陈建勋，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[]