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本发明公开了一种光学工艺设备，其包含一清除装置、一刮除件以及一传动装置。清除装置用来自出口射出液体或气体以清除进入该光学工艺设备的基板上的化学试剂。刮除件伸入该出口且厚度小于该出口的宽度。传动装置装设于该清除装置上并连接于该刮除件，用来带动...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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