System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 通感一体化芯片及其制备方法技术_技高网

通感一体化芯片及其制备方法技术

技术编号:41329330 阅读:4 留言:0更新日期:2024-05-13 15:07
本申请公开了一种通感一体化芯片及其制备方法,属于半导体技术领域,所述通感一体化芯片包括:衬底和位于所衬底一侧表面的至少一个接收器和至少一个发射器;所述接收器和所述发射器包括:依次层叠于所述衬底一侧表面的n型层、氮化物多量子阱层和p型层,以及位于所述n型层上的n型电极和位于所述p型层上的p型电极。本申请解决了或至少部分的解决了通感一体化实现成本较高的技术问题。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体,尤其涉及一种通感一体化芯片及其制备方法


技术介绍

1、通感一体化是指通信和感知两个功能融合在一起,使得通信系统同时具有通信和感知两个功能,在无线信道传输信息的同时,感知周围环境的物理特征,从而通信与感知功能相互增强。

2、但是长期以来,通信与感知是独立发展与演进的,因此,当前通信网络与感知网络是两张独立的网络,没有协同,这就使得在同时需要通信和感知的复杂场景下(例如自动驾驶、无人机管理等),应用系统需要接入两种独立的网络才能满足实际需求,进而导致通感一体化实现成本较高。


技术实现思路

1、本申请的主要目的在于提供一种通感一体化芯片及其制备方法,旨在解决或至少部分的解决通感一体化实现成本较高的技术问题。

2、为实现上述目的,本申请提供一种通感一体化芯片,所述通感一体化芯片包括:衬底和位于所衬底一侧表面的至少一个接收器和至少一个发射器;

3、所述接收器和所述发射器包括:依次层叠于所述衬底一侧表面的n型层、氮化物多量子阱层和p型层,以及位于所述n型层上的n型电极和位于所述p型层上的p型电极。

4、可选地,所述氮化物多量子阱层的材料为ingan/algan。

5、可选地,所述衬底的材料包括:蓝宝石、碳化硅和硅中的至少一种;

6、和/或,所述n型层的材料包括:n型gan;

7、和/或,所述p型层的材料包括:p型gan;

8、和/或,所述n型电极的材料包括:ni、al、ti、pt和au中的至少一种;

9、和/或,所述p型电极的材料包括:ni、al、ti、pt和au中的至少一种。

10、可选地,所述衬底的厚度为:200-750μm;

11、和/或,所述n型层的厚度为:2.0-3.0μm;

12、和/或,所述p型层的厚度为:30-60nm;

13、和/或,所述n型电极的厚度为:0.8-3.0μm;

14、和/或,所述p型电极的厚度为:0.8-3.0μm;

15、和/或,所述氮化物多量子阱层的厚度为:50-300nm。

16、可选地,所述通感一体化芯片还包括:位于所述衬底的另一侧表面的dbr层,其中,所述dbr层由折射率不同的第一材料和第二材料交替层叠而成;

17、和/或,所述接收器和所述发射器还包括:位于所述p型电极和所述p型层之间的电流扩散层;

18、和/或,所述接收器和所述发射器还包括:位于所述n型层和所述衬底之间的缓冲层;

19、和/或,所述接收器和所述发射器还包括:位于所述n型层和所述氮化物多量子阱层之间的第一电子阻挡层;

20、和/或,所述接收器和所述发射器还包括:位于所述p型层和所述氮化物多量子阱层之间的第二电子阻挡层。

21、可选地,所述第一材料包括:sio2;

22、和/或,所述第二材料包括:tio2和/或sio;

23、和/或,所述电流扩散层的材料包括:ito、ato、azo和fto中的至少一种;

24、和/或,所述缓冲层的材料包括:algan;

25、和/或,所述第一电子阻挡层的材料包括:algan;

26、和/或,所述第二电子阻挡层的材料包括:algan。

27、可选地,所述dbr层的厚度为:1.2-3.5μm;

28、和/或,所述电流扩散层的厚度为:120-310nm;

29、和/或,所述缓冲层的厚度为:0.5-1.5μm;

30、和/或,所述第一电子阻挡层的厚度为:1.0-1.3μm;

31、和/或,所述第二电子阻挡层的厚度为:0.5-0.75μm。

32、可选地,所述接收器和所述发射器还包括:位于所述p型电极和所述n型电极上的引线电极;

33、和/或,所述接收器和所述发射器还包括:位于顶层的钝化保护层。

34、可选地,所述引线电极的材料包括:ni、al、ti、pt和au中的至少一种。

35、此外,为实现上述目的,本申请还提供一种通感一体化芯片的制备方法,用于制备如上文所述的通感一体化芯片,所述通感一体化芯片的制备方法包括以下步骤:

36、准备衬底;

37、在所述衬底的一侧表面依次外延生长n型层、氮化物多量子阱层和p型层;

38、分别定义接收器和发射器的图形结构,并图形化所述p型层、所述氮化物多量子阱层和所述n型层,以露出部分所述n型层,并得到电隔离的接收器和发射器;

39、在所述接收器和所述发射器的图形化p型层的表面分别沉积p型电极,在所述接收器和所述发射器的图形化n型层的表面分别沉积n型电极,得到通感一体化芯片。

40、本申请提供的通感一体化芯片,包括:衬底和位于所衬底一侧表面的至少一个接收器和至少一个发射器;而所述接收器和所述发射器包括:依次层叠于所述衬底一侧表面的n型层、氮化物多量子阱层和p型层,以及位于所述n型层上的n型电极和位于所述p型层上的p型电极。氮化物多量子阱材料的发射谱和探测谱存在重叠,因此基于该材料制备得到的器件存在发光、探测共存特性,进而使得通感一体化芯片上的器件能够同时发射和接收可见光信号,即通感一体化芯片上的各器件均可作为接收器或发射器使用,并具备可见光通信与环境感知功能,达到了在同一信号上实现通信与传感两大功能的效果,实现通感一体化;进一步地,由于通感一体化芯片上的各器件的材料、结构一致,因此,通过同一工艺流程即可同步制备接收器和发射器,有效简化了通感一体化芯片的制备工艺流程,降低了通感一体化的实现成本。

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【技术保护点】

1.一种通感一体化芯片,其特征在于,所述通感一体化芯片包括:衬底和位于所衬底一侧表面的至少一个接收器和至少一个发射器;

2.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述氮化物多量子阱层的材料为InGaN/AlGaN。

3.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述衬底的材料包括:蓝宝石、碳化硅和硅中的至少一种;

4.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述衬底的厚度为:200-750μm;

5.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述通感一体化芯片还包括:位于所述衬底的另一侧表面的DBR层,其中,所述DBR层由折射率不同的第一材料和第二材料交替层叠而成;

6.如权利要求5所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述第一材料包括:SiO2;

7.如权利要求5所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述DBR层的厚度为:1.2-3.5μm;

8.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述接收器和所述发射器还包括:位于所述p型电极和所述n型电极上的引线电极;

9.如权利要求8所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述引线电极的材料包括:Ni、Al、Ti、Pt和Au中的至少一种。

10.一种通感一体化芯片的制备方法,其特征在于,所述通感一体化芯片的制备方法用于制备如权利要求1-9任一项所述的通感一体化芯片,包括以下步骤:

...

【技术特征摘要】

1.一种通感一体化芯片,其特征在于,所述通感一体化芯片包括:衬底和位于所衬底一侧表面的至少一个接收器和至少一个发射器;

2.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述氮化物多量子阱层的材料为ingan/algan。

3.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述衬底的材料包括:蓝宝石、碳化硅和硅中的至少一种;

4.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述衬底的厚度为:200-750μm;

5.如权利要求1所述的通感一体化芯片,其特征在于,所述通感一体化芯片还包括:位于所述衬底的另一侧表面的dbr层,其中,所述dbr层由折射率不同的第一材料和第二材料交替...

【专利技术属性】
技术研发人员:李芸吕严吴晓赵玉婷陈菲雨顾珺菲王瑞绳红磊王瑞
申请(专利权)人:中国移动紫金江苏创新研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

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