一种磁共振射频发射场驻波消除结构及其设计方法技术

本发明专利技术公开了一种磁共振射频发射场驻波消除结构及其设计方法，涉及磁共振成像技术领域。所述磁共振射频发射场驻波消除结构包括有用于放置在磁共振射频发射场的波导内的且填充在成像目标体与波导壁体之间的相速度匹配体，其中，所述相速度匹配体采用介电常数与所述成像目标体的平均介电常数相等或接近的介质材料制成，如此通过前述结构设计，可在应用于磁共振射频发射场的波导内后，使电磁波分别在成像目标体的周围区域中和在成像目标体中传播的相速度保持一致，进而可消除因相速度失配引起的二次驻波问题,便于实际应用和推广。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于磁共振成像，即属于电磁场微波技术在医学成像领域的应用，具体涉及一种用于磁共振成像设备中射频发射系统的磁共振射频发射场驻波消除结构及其设计方法。

技术介绍

1、磁共振成像技术是现代医学临床诊断中的重要手段。提升磁共振成像系统的主磁场强度可以获得更高的信噪比及对比度等优势，但是工作频率也会相应提高。工作频率由拉莫尔频率(具体是指粒子在磁场中回旋运动的频率，它描述了粒子围绕磁力线旋转的快慢)决定，即工作频率其中，γ表示磁旋比，b0表示主磁场强度，π表示圆周率。在高工作频率下，电磁场波长会缩短，并接近人体尺寸(当主磁场强度为7t时，磁共振下的工作频率为297mhz，人体内波长约20cm)。当人体变成电大尺寸(具体是指那些物理尺寸远小于一个波长的结构)后，驻波效应会导致磁共振射频激励场的幅值呈现空间变化，进而导致人体内不均匀的射频场激励。同时射频激励场的幅值还决定了自旋激励的翻转角，进而决定了图像的对比度，而不均匀的对比度会在医疗诊断应用中引入显著的误差，因此带来了一个亟待解决的工程挑战。

2、目前，主流的工程解决方案是采用多通道射频发射链本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，包括有用于放置在磁共振射频发射场的波导内的且填充在成像目标体(200)与波导壁体之间的相速度匹配体(400)，其中，所述相速度匹配体(400)采用介电常数与所述成像目标体(200)的平均介电常数相等或接近的介质材料制成。

2.根据权利要求1所述的磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，所述磁共振射频发射场的波导由磁共振射频发射系统中的磁体金属内壁(102)和梯度线圈金属内壁(103)围成，其中，所述波导壁体具体为所述梯度线圈金属内壁(103)。

3.根据权利要求1所述的磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，所...

【技术特征摘要】

1.一种磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，包括有用于放置在磁共振射频发射场的波导内的且填充在成像目标体(200)与波导壁体之间的相速度匹配体(400)，其中，所述相速度匹配体(400)采用介电常数与所述成像目标体(200)的平均介电常数相等或接近的介质材料制成。

2.根据权利要求1所述的磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，所述磁共振射频发射场的波导由磁共振射频发射系统中的磁体金属内壁(102)和梯度线圈金属内壁(103)围成，其中，所述波导壁体具体为所述梯度线圈金属内壁(103)。

3.根据权利要求1所述的磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，所述介质材料的电导率小于等于10-8s/m，所述介质材料的介电损耗角正切小于等于0.5。

4.根据权利要求1所述的磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，所述介质材料的相对磁导率等于1。

5.根据权利要求1所述的磁共振射频发射场驻波消除结构，其特征在于，所述介电常数与所述成像目标体(200)的平均介电常数接近...

【专利技术属性】
技术研发人员：高阳，张孝通，
申请(专利权)人：西安电子科技大学杭州研究院，
类型：发明
国别省市：