【技术实现步骤摘要】
[]本专利技术涉及一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备。
技术介绍
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技术介绍
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1、真空磁控溅射镀膜设备是一种先进的镀膜技术，主要用于在各种材料表面镀上一层薄膜，以实现特定的功能。如可用于功能性薄膜镀膜，制备各种具有特定功能的薄膜，例如反射、折射、偏光、吸收等作用的薄膜，这些功能性薄膜可以应用于太阳能电池、光学器件等领域，提高产品的性能；可用于装饰领域的应用，制备的薄膜具有高光泽度、高硬度和良好的耐候性等特点，如可以在手机外壳、电脑键盘、门窗玻璃等产品上镀上一层美观且耐用的薄膜，提升产品的质量和附加值；可用于微电子行业领域，主要用于制备电子器件的薄膜，如半导体薄膜、金属薄膜等，这些薄膜在集成电路、传感器、太阳能电池等领域有着广泛的应用；可用于机械行业加工，制备具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蚀性等性能的表面功能膜，如超硬膜、耐腐蚀膜等，这些膜层可以应用于各种机械设备上，提高设备的性能和使用寿命。
2、现有的平面阴极真空磁控溅射镀膜设备中，靶材的安装位置是固定的，使得靶材与镀膜基材之间的距离是固定不变的，因此在应用...
【技术保护点】
1.一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：包括有镀膜腔体(1)，镀膜腔体(1)内设有腔室(2)，腔室(2)内设有沿长度方向设置用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的平面阴极组件(3)，以及设置于平面阴极组件(3)上侧用于带动基材(4)运动的基材滚动支架(5)，镀膜腔体(1)与平面阴极组件(3)之间设有用于调节平面阴极组件(3)与基材(4)之间距离的靶基距调节组件(6)，平面阴极组件(3)上侧面上设有靶材(7)，平面阴极组件(3)内设有进水管(31)以及位于进水管(31)上侧设有与靶材(7)相对设置的磁轭(32)，磁轭(32)上侧面设有磁铁(33)，进水管(3...
【技术特征摘要】
1.一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：包括有镀膜腔体(1)，镀膜腔体(1)内设有腔室(2)，腔室(2)内设有沿长度方向设置用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的平面阴极组件(3)，以及设置于平面阴极组件(3)上侧用于带动基材(4)运动的基材滚动支架(5)，镀膜腔体(1)与平面阴极组件(3)之间设有用于调节平面阴极组件(3)与基材(4)之间距离的靶基距调节组件(6)，平面阴极组件(3)上侧面上设有靶材(7)，平面阴极组件(3)内设有进水管(31)以及位于进水管(31)上侧设有与靶材(7)相对设置的磁轭(32)，磁轭(32)上侧面设有磁铁(33)，进水管(31)与磁轭(32)之间设有多个用于调节磁铁(33)与靶材(7)之间距离的磁基距调节组件(8)。
2.根据权利要求1所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶基距调节组件(6)包括有竖向设置且一端与腔室(2)上侧面连接有靶距调节螺杆(61)，平面阴极组件(3)一端设有套设在靶距调节螺杆(61)上的螺杆套(62)，靶距调节螺杆(61)上位于螺杆套(62)下侧螺纹连接有承托螺母(63)，镀膜腔体(1)顶面上设有转动螺母(64)，转动螺母(64)内螺纹连接有可随转动螺母(64)转动上下移动的螺纹导电柱(65)，螺纹导电柱(65)与平面阴极组件(3)另一端之间连接有连接杆(66)。
3.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：靶距调节螺杆(61)上位于螺杆套(62)上侧螺纹连接有锁定螺母(67)。
4.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：腔室(2)上侧面上设有螺杆连接座(68)，靶距调节螺杆(61)上端设有插入螺杆连接座(68)的螺杆接头(69)。
5.根据权利要求2所述的一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：平面阴极组件(3)内设有方管(34)，进水管(31)、磁轭(32)以及磁...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱世元，高鹤，潘朝刚，吴桂桃，柯绍锴，
申请(专利权)人：金耀真空设备中山有限公司，
类型：发明
国别省市：
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