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本发明公开了一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，包括有镀膜腔体，镀膜腔体内设有腔室，腔室内设有平面阴极组件，以及设置于平面阴极组件上侧带动基材运动的基材滚动支架，镀膜腔体与平面阴极组件之间设有靶基距调节组件，平面阴极组件上侧面上设有靶材，平...
该专利属于金耀真空设备（中山）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过金耀真空设备（中山）有限公司授权不得商用。

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