System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 壳体、其制备方法及电子设备技术_技高网

壳体、其制备方法及电子设备技术

技术编号:41317685 阅读:4 留言:0更新日期:2024-05-13 14:58
本申请提供一种壳体、其制备方法及电子设备。壳体包括:壳体本体;纹理层,纹理层设置于壳体本体的一侧,纹理层具有弹性,纹理层背离壳体本体一侧具有第一凸起结构;以及耐污层,耐污层设置于纹理层背离壳体本体的一侧;沿壳体本体、纹理层及耐污层的层叠方向,耐污层的厚度小于第一凸起结构的最大高度,且耐污层背离纹理层的一侧具有第二凸起结构,第一凸起结构在壳体本体面向纹理层的表面的正投影与第二凸起结构在壳体本体面向纹理层的表面的正投影至少部分重叠。本申请的壳体具有柔软的爽滑手感,良好的耐污性能及耐磨性,且具有层次感丰富的立体纹理效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及电子领域,具体涉及一种壳体、其制备方法及电子设备


技术介绍

1、现有电子设备例如手机等的外壳较硬,手感不佳;为了使外壳具有良好的手感,在外壳上增加了具有缓冲性能的纹理层,但是,纹理层不耐脏,且纹理单一,外观表现力不够,不能很好的满足消费者的需求。


技术实现思路

1、针对上述问题,本申请实施例提供一种壳体,其具有柔软的爽滑手感,良好的耐污性能及耐磨性,且具有层次感丰富的立体纹理效果。

2、本申请第一方面实施例提供了一种壳体,其包括:

3、壳体本体;

4、纹理层,所述纹理层设置于所述壳体本体的一侧,所述纹理层具有弹性,所述纹理层背离所述壳体本体一侧具有第一凸起结构;以及

5、耐污层,所述耐污层设置于所述纹理层背离壳体本体的一侧;沿所述壳体本体、所述纹理层及所述耐污层的层叠方向,所述耐污层的厚度小于所述第一凸起结构的最大高度,且所述耐污层背离所述纹理层的一侧具有第二凸起结构,所述第一凸起结构在所述壳体本体面向所述纹理层的表面的正投影与所述第二凸起结构在所述壳体本体面向所述纹理层的表面的正投影至少部分重叠。

6、本申请第二方面实施例提供了一种壳体的制备方法,其包括:

7、提供纹理模具,所述纹理模具具有纹理结构;

8、在所述纹理模具具有纹理结构的表面涂第一浆液,进行半固化后,形成半固化耐污层,所述第一浆液填充所述纹理结构,以在所述半固化耐污层面向纹理模具的一侧形成与所述纹理结构的结构互补的第二凸起结构;

9、在所述半固化耐污层背离纹理模具的表面涂第二浆液,并进行固化形成纹理层,其中,所述纹理层面向所述半固化耐污层的一侧具有第一凸起结构,所述纹理层具有弹性;

10、提供壳体本体,并将所述壳体本体设置于所述纹理层背离所述半固化耐污层的一侧,以及

11、对所述半固化耐污层进行后固化,以使所述半固化耐污层形成耐污层,得到所述壳体;其中,所述壳体具有依次层叠设置的壳体本体、所述纹理层及所述耐污层;所述耐污层的厚度小于所述第一凸起结构的最大高度,所述耐污层背离所述纹理层的一侧具有第二凸起结构,所述第一凸起结构在所述壳体本体面向所述纹理层的表面的正投影与所述第二凸起结构在所述壳体本体面向所述纹理层的表面的正投影至少部分重叠。

12、本申请第三方面实施例提供一种电子设备,其包括:

13、显示屏;

14、本申请实施例所述的壳体,所述壳体与所述显示屏相背设置;以及

15、处理器,所述处理器位于所述壳体与所述显示屏之间,所述处理器与所述显示屏电连接,用于控制所述显示屏进行显示。

16、本申请实施例的壳体包括依次层叠设置的壳体本体、纹理层及耐污层,纹理层具有弹性,可以使得触摸或按压壳体的耐污层侧时,壳体具有柔软的手感;耐污层可以使得壳体具有良好的耐污性能及耐磨性,避免经过一段时间使用后,纹理层被磨损,从而提高壳体的使用寿命,此外还可以使的壳体的柔软手感更为爽滑。第一凸起结构及第二凸起结构使得纹理层及耐污层均具有纹理效果,且所述第一凸起结构在所述壳体本体面向所述纹理层的表面的正投影与所述第二凸起结构在所述壳体本体面向所述纹理层的表面的正投影部分重叠,通过第一凸起结构与第二凸起结构配合,使得壳体的耐污层侧可以观看到纹理图案的层次感更为丰富,更为立体,提高壳体的外观表现力。此外,耐污层的厚度小于第一凸起结构的最大高度,这样可以使得第一凸起结构与第二凸起结构的变化趋势更为接近,可以更好的实现壳体耐污层的立体纹理效果。

17、此外,通常纹理层例如聚氨酯层(pu层)的脱模性能较差,因此,纹理层的纹理通常在光面的pu层上采用金属辊加热压出纹理,这样得到的纹理层厚度较厚,且难以制得精细的纹理,本申请在纹理层的表面设置耐污层,耐污层具有良好的脱模性能,从而可以采用纹理压印的形式形成第一凸起结构及第二凸起结构,进而可以制得更为精细的纹理图案,且可以将纹理层及耐污层做的更薄。

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【技术保护点】

1.一种壳体,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,沿所述壳体本体、所述纹理层及所述耐污层的层叠方向,所述第一凸起结构的最大高度h1小于或等于所述第二凸起结构的最大高度h2。

3.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,沿所述壳体本体、所述纹理层及所述耐污层的层叠方向,所述纹理层的厚度d1与所述第二凸起结构的最大高度h2满足0.8h2≤d1≤1.5h2。

4.根据权利要求3所述的壳体,其特征在于,所述纹理层的厚度d1的范围为20μm≤d1≤200μm;所述耐污层的厚度d2的范围为1μm≤d2≤5μm。

5.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述耐污层的铅笔硬度的范围为1H至3H。

6.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述耐污层的原料组分包括聚氨酯丙烯酸酯树脂、丙烯酸酯单体、光引发剂及稀释剂;所述丙烯酸酯单体包括甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、丙烯酸异冰片酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1、6-己二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、邻苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酸四氢糠基酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述纹理层的原料组分包括聚氨酯树脂单体、固化剂以及溶剂;所述固化剂包括多异氰酸酯,所述多异氰酸酯包括二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、二环己基甲烷-4,4'-二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯中的至少一种。

8.根据权利要求1-7任一项所述的壳体,其特征在于,所述壳体还包括:

9.一种壳体的制备方法,其特征在于,包括:

10.根据权利要求9所述的壳体的制备方法,其特征在于,所述在所述半固化耐污层背离纹理模具的表面涂第二浆液,并进行固化形成纹理层,包括:

11.一种电子设备,其特征在于,包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种壳体,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,沿所述壳体本体、所述纹理层及所述耐污层的层叠方向,所述第一凸起结构的最大高度h1小于或等于所述第二凸起结构的最大高度h2。

3.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,沿所述壳体本体、所述纹理层及所述耐污层的层叠方向,所述纹理层的厚度d1与所述第二凸起结构的最大高度h2满足0.8h2≤d1≤1.5h2。

4.根据权利要求3所述的壳体,其特征在于,所述纹理层的厚度d1的范围为20μm≤d1≤200μm;所述耐污层的厚度d2的范围为1μm≤d2≤5μm。

5.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述耐污层的铅笔硬度的范围为1h至3h。

6.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述耐污层的原料组分包括聚氨酯丙烯酸酯树脂、丙烯酸酯单体、光引发剂及稀释剂;所述丙烯酸酯单体包括甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、...

【专利技术属性】
技术研发人员:成乐郭林海
申请(专利权)人:深圳市锐尔觅移动通信有限公司
类型:发明
国别省市:

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