【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及温压修正，具体为基于mems压力传感器的温压多次修正系统。
技术介绍
1、微机电系统mems也叫做微电子机械系统、微系统、微机械等，指尺寸在几毫米乃至更小的高科技装置；微机电系统其内部结构一般在微米甚至纳米量级，是一个独立的智能系统。
2、但是在现有技术中，mems内压力传感器运行时无法对温压影响和温压可控性进行分析，以至于温压修正准确性低，同时无法结合分析以至于造成温压修正出现偏差，此外，不能够对温压修正过程中mems系统内部影响进行分析，造成温压修正运行效率下降。
3、针对上述的技术缺陷，现提出一种解决方案。
技术实现思路
1、本专利技术的目的就在于为了解决上述提出的问题，而提出基于mems压力传感器的温压多次修正系统。
2、本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：
3、基于mems压力传感器的温压多次修正系统，包括服务器，服务器通讯连接有温压可控性分析单元、温压影响分析单元、结合影响分析单元、测量偏差分析单元以及温压修正
【技术保护点】
1.基于MEMS压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，包括服务器，服务器通讯连接有温压可控性分析单元、温压影响分析单元、结合影响分析单元、测量偏差分析单元以及温压修正影响分析单元；
2.根据权利要求1所述的基于MEMS压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，温压影响分析单元的运行过程如下：
3.根据权利要求2所述的基于MEMS压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，若监测对象运行过程中周边环境参数浮动时监测对象内部温压数值浮动概率超过数值浮动概率阈值，或者监测对象运行过程中内部温压数值浮动趋势与周边环境参数浮动趋势一致的时长与运行总时长...
【技术特征摘要】
1.基于mems压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，包括服务器，服务器通讯连接有温压可控性分析单元、温压影响分析单元、结合影响分析单元、测量偏差分析单元以及温压修正影响分析单元；
2.根据权利要求1所述的基于mems压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，温压影响分析单元的运行过程如下：
3.根据权利要求2所述的基于mems压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，若监测对象运行过程中周边环境参数浮动时监测对象内部温压数值浮动概率超过数值浮动概率阈值，或者监测对象运行过程中内部温压数值浮动趋势与周边环境参数浮动趋势一致的时长与运行总时长的比值超过时长比值阈值，则生成温压高影响信号并将温压高影响信号发送至服务器；
4.根据权利要求1所述的基于mems压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，温压可控性分析单元的运行过程如下：
5.根据权利要求4所述的基于mems压力传感器的温压多次修正系统，其特征在于，若监测对象运行过程中一级浮动区间与二级浮动区间对应温压数值控制平均耗时的偏差值超过平均耗时偏差值阈值，或者...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘同庆，
申请(专利权)人：无锡芯感智半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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