【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体设备，更具体地说，特别涉及一种用于真空腔体内的气体喷淋装置。
技术介绍
1、目前，原子层沉积技术广泛应用于高端微纳器件的制造中，并已成为半导体制造核心装备之一。批量ald设备是ald设备的一个重要分支，其通过通入反应气体到放置有多个晶片的真空腔室内，同时对多片晶片进行原子层沉积镀膜工艺，进行持续的喷淋作业，但是现有的喷淋设备只是简单的开设喷淋板，进行反应气体的喷淋，无法对导入的反应气体进行稳定的控制，容易出现喷淋范围小，气体流速过慢或者过快的现象，同时无法对通入的反应气体进行实时监测，无法得知内部的气压变化，容易出现反应气体过多导致内部晶片的挤压损坏，导致气体喷淋的稳定性差，气流导向紊乱，导致实际的沉积镀膜效果不佳，需要多次喷淋，十分耗时耗材。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本技术提供了一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，包括导流座，所述导流座顶部设置有密封架，所述密封架上安装有导流管道，所述导流管道底部设置有过滤格栅板，所述过滤格栅板连通导流座，所述导流管道一端密封安装有进气管，所述进气管内设置有导流机构，所述导流座内设置有气流调节机构，所述导流座底部设置有密封法兰座，所述密封法兰座可连接密封在真空腔体进气口，所述密封法兰座底部螺纹配合有喷淋板所述喷淋板顶部还设置有过渡罩，所述过渡罩上设置有一周的流动槽，所述导流管道一侧还设置有
3、优选的，所述导流机构包括有定位器，所述定位器安装在进气管内，所述定位器内设置有定位轴承，所述定位轴承内安装有涡轮轴，所述涡轮轴另一端安装在导流管道内。
4、优选的，所述气流调节机构包括电动缸，所述电动缸对称安装在导流座内，所述导流座中央设置有导流口，所述导流口内设置有对称的密封板，所述密封板滑动配合在导流座内，所述密封板一端通过滑块连接电动缸一端，通过电动缸带动密封板进行水平移动。
5、优选的，所述密封法兰座底部设置有密封槽，密封槽内装配有密封圈，且通过喷淋板压紧密封，。
6、优选的，所述喷淋板外圆周面上设置有卡槽，所述卡槽圆周阵列分布。
7、优选的，所述喷淋板顶部设置有多个气流环道，所述多个气流环道从外到内等距分布，每个气流环道之间设置有多个喷淋口，所述多个喷淋口呈圆周分布，所述多个喷淋口内安装有第一喷筒，所述喷淋板中心还设置有第二喷筒，所述第一喷筒与第二喷筒底部均为蜂窝网孔。
8、优选的，所述检测机构包括检测筒，所述检测筒一端连通导流管道，所述检测筒另一端安装有压力表，通过压力表来检测内部的气压。
9、本技术提供了一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，具备以下有益效果：
10、该一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，通过涡轮轴的设置，可以对反应气体进行稳定快速的导向推动，且利用导流管道一端的检测筒以及压力表对导流管道内部的压力进行检测，利用设置的电动缸带动密封板进行相对或者相向运动，从而调节气流进入口径，增加或者减慢流速，根据实际的情况进行调节，操作简单便捷，整体可以直接安装在真空腔体进气口处，安装更方便，通过过渡罩可以对反应气体进行过渡导向，便于后期的喷淋作业，通过在喷淋板上设置气流环道，可以对反应气体进行稳定精确的导向，且在第一喷筒与第二喷筒的作用下实现真空腔体内部的全方位喷淋，保证待镀膜件的喷淋稳定。
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1.一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：包括导流座(1)，所述导流座(1)顶部设置有密封架(2)，所述密封架(2)上安装有导流管道(3)，所述导流管道(3)底部设置有过滤格栅板(301)，所述过滤格栅板(301)连通导流座(1)，所述导流管道(3)一端密封安装有进气管(4)，所述进气管(4)内设置有导流机构，所述导流座(1)内设置有气流调节机构，所述导流座(1)底部设置有密封法兰座(8)，所述密封法兰座(8)可连接密封在真空腔体进气口，所述密封法兰座(8)底部螺纹配合有喷淋板(9)所述喷淋板(9)顶部还设置有过渡罩(12)，所述过渡罩(12)上设置有一周的流动槽(121)，所述导流管道(3)一侧还设置有检测机构，所述检测机构固定在密封架(2)上。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：所述导流机构包括有定位器(5)，所述定位器(5)安装在进气管(4)内，所述定位器(5)内设置有定位轴承(501)，所述定位轴承(501)内安装有涡轮轴(13)，所述涡轮轴(13)另一端安装在导流管道(3)内。
3.根据权利要求1所述的
4.根据权利要求1所述的一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：所述密封法兰座(8)底部设置有密封槽，密封槽内装配有密封圈(801)，且通过喷淋板(9)压紧密封。
5.根据权利要求1所述的一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：所述喷淋板(9)外圆周面上设置有卡槽(904)，所述卡槽(904)圆周阵列分布。
6.根据权利要求1所述的一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：所述喷淋板(9)顶部设置有多个气流环道(903)，所述多个气流环道(903)从外到内等距分布，每个气流环道(903)之间设置有多个喷淋口，所述多个喷淋口呈圆周分布，所述多个喷淋口内安装有第一喷筒(901)，所述喷淋板(9)中心还设置有第二喷筒(902)，所述第一喷筒(901)与第二喷筒(902)底部均为蜂窝网孔。
7.根据权利要求1所述的一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：所述检测机构包括检测筒(6)，所述检测筒(6)一端连通导流管道(3)，所述检测筒(6)另一端安装有压力表(7)，通过压力表(7)来检测内部的气压。
...【技术特征摘要】
1.一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：包括导流座(1)，所述导流座(1)顶部设置有密封架(2)，所述密封架(2)上安装有导流管道(3)，所述导流管道(3)底部设置有过滤格栅板(301)，所述过滤格栅板(301)连通导流座(1)，所述导流管道(3)一端密封安装有进气管(4)，所述进气管(4)内设置有导流机构，所述导流座(1)内设置有气流调节机构，所述导流座(1)底部设置有密封法兰座(8)，所述密封法兰座(8)可连接密封在真空腔体进气口，所述密封法兰座(8)底部螺纹配合有喷淋板(9)所述喷淋板(9)顶部还设置有过渡罩(12)，所述过渡罩(12)上设置有一周的流动槽(121)，所述导流管道(3)一侧还设置有检测机构，所述检测机构固定在密封架(2)上。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：所述导流机构包括有定位器(5)，所述定位器(5)安装在进气管(4)内，所述定位器(5)内设置有定位轴承(501)，所述定位轴承(501)内安装有涡轮轴(13)，所述涡轮轴(13)另一端安装在导流管道(3)内。
3.根据权利要求1所述的一种用于真空腔体内的气体喷淋装置，其特征在于：所述所述气流调节机构包括电动缸(10)，所述电动缸(10)对称安装在导流座(1)内，所述导流座(1)中央设置有导流口，所述导流...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘艮灵，
申请(专利权)人：无锡升滕精密科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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