【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及透射电镜样品制备，尤其涉及一种适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法。
技术介绍
1、透射电子显微镜是表征纳米材料的有力工具，其目前的空间分辨率可达亚埃级，可直观观测样品形貌，细致分析样品结构，为材料的设计加工和器件的失效分析等奠定必要的基础。然而，要获得如此高的空间分辨率，表征中需要将材料负载于允许高能电子束透过的衬底之上，同时尽可能减少衬底与高能电子束间的相互作用。最理想的成像条件为待测样品区域悬空，成像时不受衬底散射影响。此外，透射电镜样品的制备要求尽可能保持样品原始形貌。
2、目前，已商业化广泛采用的负载衬底是微栅，分为无孔连续、多孔碳膜与超薄碳膜微栅。
3、无孔连续衬底微栅的主要构造为直径约三毫米的金属网格，表面覆盖一层连续碳膜(一般膜厚度为10-20nm)。这类微栅中，电子束与衬底散射作用较强，导致高分辨成像过程中产生不可接受的噪声，故其主要用于满足较低空间分辨率下(>5nm)材料的形貌表征需求。
4、多孔碳膜微栅是一种典型的用于悬空负载样品的微栅，其结构与无孔连续衬底微...
【技术保护点】
1.一种适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，所述原始衬底为通过热氧化处理覆有二氧化硅层的硅片，所述二氧化硅层厚度为280～290nm。
3.根据权利要求2所述的适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，所述载体聚合物为聚甲基丙烯酸甲酯，所述载体聚合物去除溶剂为丙酮。
4.根据权利要求2所述的适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，所述载体聚合物为聚碳酸酯，所述载体聚合物去除溶剂为芳香族醇或氯代烃。
<...【技术特征摘要】
1.一种适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，所述原始衬底为通过热氧化处理覆有二氧化硅层的硅片，所述二氧化硅层厚度为280～290nm。
3.根据权利要求2所述的适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，所述载体聚合物为聚甲基丙烯酸甲酯，所述载体聚合物去除溶剂为丙酮。
4.根据权利要求2所述的适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，所述载体聚合物为聚碳酸酯，所述载体聚合物去除溶剂为芳香族醇或氯代烃。
5.根据权利要求3所述的适用于纳米材料的透射电镜样品制备方法，其特征在于，采用从低到高阶梯提升的转速使所述待检测样品在其平面内旋转使表面所述载体聚合物平整并烘烤，包括：
6.根据权利要求5所述的适用于纳米材...
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