一种光掩模基板涂胶旋风纹改善装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光掩模基板涂胶旋风纹改善装置及方法，涉及光掩模基板制造技术领域，光掩模基板涂胶旋风纹改善装置包括涂胶腔体和上盖。涂胶腔体的顶部设有开口，涂胶腔体内设置有承片台，承片台用于放置方形基片，涂胶腔体的侧壁设有多个排风口，排风口外接通风设备。上盖用于开闭开口，上盖的中部设有入气孔，入气孔贯穿上盖。使用时，将与涂胶腔体内部的排风口连通的通风设备打开，涂胶腔体内形成局部负压，外界气体从上盖入气孔进入涂胶腔体，形成由入气孔到排风口的气流，该气流由方形基片中心区域向四周流动，加速光刻胶向四角流动，减小光刻胶在四角处的堆积，同时改善环形流场，减小旋风状纹路，同时提高了胶厚均匀性和工艺稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光掩模基板制造，特别涉及一种光掩模基板涂胶旋风纹改善装置及方法。

技术介绍

1、在光掩模基板制造工艺中，给方形石英或苏打玻璃基板镀上一层铬膜后，需要在铬膜表面涂布一层光刻胶，以便于进行后续的图形化工艺。光刻胶的不均匀性会导致光刻特征尺寸变化，从而导致器件成品率、质量和性能降低。旋转涂胶，又称为甩胶法或离心法，是指将一定量的光致抗蚀剂溶液滴在基片上形成初始薄膜，然后基片加速旋转到预定速度，在离心力的作用下光致抗蚀剂溶液沿径向外流，液体薄膜厚度不断下降，最终在基片表面形成均匀薄膜。

2、旋涂法对方形基片涂布效果不佳，均匀性差，导致基板利用率低，主要原因是由于方形基片四角处离心力差异产生旋风状变色风纹，旋风状变色风纹的形成是因为在高速旋转时，以基片为参考系，会形成一个与基片转动方向相反的旋转流场，由于方形基片在旋涂过程中四角处光刻胶容易产生堆积，同时基片四角处线速度大于基片中心区域，气流流速要高于中心区域，导致四角处堆积的光刻胶表面的溶剂迅速挥发并干燥，形成旋风状纹路。

3、目前对于方形基片涂胶旋风纹的改善方案是采用封闭型腔本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述排风口以所述承片台为中心环绕设置，相邻的两个所述排风口之间的距离相等。

3.根据权利要求1所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述入气孔的孔径小于方形基片的内切圆的直径。

4.根据权利要求3所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述入气孔的直径比方形基片的内切圆直径小1cm～3cm。

5.根据权利要求1所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述上盖以所述入气孔为中心绕设有多个弧形条孔...

【技术特征摘要】

1.一种光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述排风口以所述承片台为中心环绕设置，相邻的两个所述排风口之间的距离相等。

3.根据权利要求1所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述入气孔的孔径小于方形基片的内切圆的直径。

4.根据权利要求3所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述入气孔的直径比方形基片的内切圆直径小1cm～3cm。

5.根据权利要求1所述的光掩模基板涂胶旋风纹改善装置，其特征在于：所述上盖以所述入气孔为中心绕设有多个弧形条孔，所述弧形条孔贯穿所述上盖。

6.根据权利要求5所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：段聪，李弋舟，钟选飞，
申请(专利权)人：长沙韶光芯材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：