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本发明公开了一种光掩模基板涂胶旋风纹改善装置及方法，涉及光掩模基板制造技术领域，光掩模基板涂胶旋风纹改善装置包括涂胶腔体和上盖。涂胶腔体的顶部设有开口，涂胶腔体内设置有承片台，承片台用于放置方形基片，涂胶腔体的侧壁设有多个排风口，排风口外接...
该专利属于长沙韶光芯材科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长沙韶光芯材科技有限公司授权不得商用。

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