【技术实现步骤摘要】
本公开涉及一种用于处理衬底的衬底处理设备。
技术介绍
1、为了制造半导体器件或液晶显示器，在衬底上执行诸如光刻、蚀刻、灰化、离子注入和薄膜沉积之类的各种工艺。在执行这样的工艺之前或之后，执行用于清洁衬底的清洁工艺，以去除在每个工艺中产生的污染物和颗粒。
2、通常，清洁工艺是向衬底供应化学液体以去除附着在衬底上的污染物和颗粒的工艺。在该清洁工艺中，化学液体从储液罐被提供到处理室，并且化学液体被供应到位于处理室中的衬底，从而执行清洁工艺。为了将化学液体供应到处理室，处理室和储液罐通过液体供应管连接。储存在储液罐中的化学液体通过液体供应管被供应到处理室。
3、另外，可以提供多个液体供应管以供应不同的化学液体。另外，根据化学液体的类型，具有大温差的化学液体可以通过一个设施内的多个液体供应管来供应。因此，通过液体供应管供应的化学液体的温度影响通过其它相邻的液体供应管供应的化学液体，并且因此，存在由于在清洁工艺中影响蚀刻速率而出现工艺缺陷的问题。
技术实现思路
1、本公开的一个方面是提供一种衬底处理设备，所述衬底处理设备防止向衬底供应化学液体的液体供应管受到与该液体供应管具有不同温度的其它液体供应管的热影响。
2、根据本公开的一个方面，衬底处理设备包括：第一供应管，所述第一供应管向衬底供应第一化学液体；第二供应管，所述第二供应管与所述第一供应管间隔开，并且向所述衬底供应第二化学液体；以及回收管，所述回收管连接到所述第一供应管以收集所述第一化学液体，并且设置在
3、所述回收管可以具有围绕第一供应管的结构。
4、作为第一实施例，回收管可以被设置成与第一供应管间隔开，使得在回收管与第一供应管之间形成具有气穴结构的空气隔热层。
5、作为第二实施例，回收管可以具有其内部被第一供应管穿透的结构。第一供应管穿过的回收管的两端可以被热密封到第一供应管。
6、作为第三实施例，回收管可以螺旋地缠绕第一供应管。回收管的彼此相邻的倾斜部分可以以彼此紧密接触的方式被形成。回收管可以与第一供应管间隔开，使得在具有螺旋结构的回收管与第一供应管之间形成气穴结构的空气隔热层。
7、作为第四实施例，第一供应管、第二供应管和回收管可以被设置在处理室外部。
8、根据本公开的一个方面，衬底处理设备包括：喷嘴单元，所述喷嘴单元包括喷嘴臂、主喷嘴头和侧喷嘴头；第一供应管，所述第一供应管安装在所述喷嘴单元的所述喷嘴臂上，并且向所述主喷嘴头供应第一化学液体；第二供应管，所述第二供应管安装在所述喷嘴臂上，与所述第一供应管间隔开，并且向所述侧喷嘴头供应第二化学液体；以及回收管，所述回收管安装在所述喷嘴臂上，连接到所述第一供应管以收集所述第一化学液体，并且设置在所述第一供应管与所述第二供应管之间。
9、主喷嘴头可以安装在喷嘴臂的端部上，并且第一供应管和回收管可以从喷嘴臂的内部延伸并可以连接到主喷嘴头，侧喷嘴头可以安装在从喷嘴臂的侧面延伸的延伸支撑件的端部上，并且第二供应管可以从喷嘴臂的内部延伸到喷嘴臂的外部并可以连接到侧喷嘴头，并且回收管可以具有在喷嘴臂内部围绕第一供应管的结构。
10、根据本公开的一个方面，衬底处理设备包括：处理室；处理容器，所述处理容器安装在所述处理室中，并具有处理空间，在所述处理空间中处理衬底；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑所述衬底；喷嘴单元，所述喷嘴单元包括将化学液体排放到所述衬底的主喷嘴头和侧喷嘴头，以及喷嘴臂，所述主喷嘴头和所述侧喷嘴头安装在所述喷嘴臂上；以及液体供应管线，所述液体供应管线从液体供应单元延伸到所述喷嘴单元的内部。所述液体供应管线包括：第一供应管，所述第一供应管安装在所述喷嘴臂上，并且向所述主喷嘴头供应第一化学液体；第二供应管，所述第二供应管安装在所述喷嘴臂上，与所述第一供应管间隔开，并且向所述侧喷嘴头供应第二化学液；以及回收管，所述回收管安装在所述喷嘴臂上，连接到所述第一供应管以收集所述第一化学液体，并且设置在所述第一供应管与所述第二供应管之间。
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1.一种衬底处理设备，包括：
2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述回收管具有围绕所述第一供应管的结构。
3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述回收管与所述第一供应管间隔开，使得在所述回收管与所述第一供应管之间形成具有气穴结构的空气隔热层。
4.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述回收管具有被所述第一供应管穿透的内部结构。
5.根据权利要求4所述的衬底处理设备，其中，所述第一供应管所穿过的所述回收管的两端被热密封到所述第一供应管。
6.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述回收管螺旋地围绕所述第一供应管。
7.根据权利要求6所述的衬底处理设备，其中，所述回收管的彼此相邻的倾斜部分被配置成彼此紧密地接触。
8.根据权利要求6所述的衬底处理设备，其中，所述回收管与所述第一供应管间隔开，使得在具有螺旋结构的所述回收管与所述第一供应管之间形成具有气穴结构的空气隔热层。
9.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述第一供应管、所述第二供应管和所述回收管设置在
10.一种衬底处理设备，包括：
11.根据权利要求10所述的衬底处理设备，其中，所述主喷嘴头安装在所述喷嘴臂的端部上，并且所述第一供应管和所述回收管从所述喷嘴臂内部延伸并连接到所述主喷嘴头，
12.根据权利要求11所述的衬底处理设备，其中，所述回收管与所述第一供应管间隔开，使得具有气穴结构的空气隔热层被设置在所述回收管与所述第一供应管之间。
13.根据权利要求11所述的衬底处理设备，其中，所述回收管具有所述回收管的内部被所述第一供应管穿透的结构。
14.根据权利要求11所述的衬底处理设备，其中，所述回收管螺旋地围绕所述第一供应管。
15.根据权利要求14所述的衬底处理设备，其中，所述回收管的彼此相邻的倾斜部分被配置成彼此紧密地接触，并且
16.一种衬底处理设备，包括：
17.根据权利要求16所述的衬底处理设备，其中，所述主喷嘴头安装在所述喷嘴臂的端部上，并且所述第一供应管和所述回收管从所述喷嘴臂内部延伸并连接到所述主喷嘴头，
18.根据权利要求17所述的衬底处理设备，其中，所述回收管与所述第一供应管间隔开，使得在所述回收管与所述第一供应管之间形成具有气穴结构的空气隔热层。
19.根据权利要求17所述的衬底处理设备，其中，所述回收管具有所述回收管的内部被所述第一供应管穿透的结构。
20.根据权利要求17所述的衬底处理设备，其中，所述回收管螺旋地围绕所述第一供应管。
...【技术特征摘要】
1.一种衬底处理设备，包括：
2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述回收管具有围绕所述第一供应管的结构。
3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述回收管与所述第一供应管间隔开，使得在所述回收管与所述第一供应管之间形成具有气穴结构的空气隔热层。
4.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述回收管具有被所述第一供应管穿透的内部结构。
5.根据权利要求4所述的衬底处理设备，其中，所述第一供应管所穿过的所述回收管的两端被热密封到所述第一供应管。
6.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中，所述回收管螺旋地围绕所述第一供应管。
7.根据权利要求6所述的衬底处理设备，其中，所述回收管的彼此相邻的倾斜部分被配置成彼此紧密地接触。
8.根据权利要求6所述的衬底处理设备，其中，所述回收管与所述第一供应管间隔开，使得在具有螺旋结构的所述回收管与所述第一供应管之间形成具有气穴结构的空气隔热层。
9.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中，所述第一供应管、所述第二供应管和所述回收管设置在处理室外部。
10.一种衬底处理设备，包括：
11.根据权利要求10所述的衬底处理设备，其中，所述主喷嘴头安装在所述喷嘴臂的端部上，并且所述第...
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