【技术实现步骤摘要】
本技术一般涉及气相沉淀。更具体地，本技术涉及一种用于气相沉淀中的真空控制系统。
技术介绍
1、在气相沉淀过程中，通常需要真空泵提供真空环境并以蝶阀来控制反应腔的腔体内的压力，使其保持在一个稳定的设定压力下，以确保产品的制程工艺顺利完成。然而，真空泵在这一过程中若突然停机，会导致真空泵管道压力突然回升到大气状态，此时反应腔内压力低于真空泵管道压力，气流由真空泵端到反应腔端，且真空泵管道内大量粉尘会倒灌到反应腔内，对反应腔等造成污染。由此，不仅会导致制程工艺中断，甚至导致处于制程工艺中的产品(例如晶片)报废，进而影响整个生产效益以及带来巨大的经济损失。
技术实现思路
1、为了至少解决如上所提到的一个或多个技术问题，本技术在多个方面中提出了能够有效减少真空泵停机导致气流倒灌污染反应腔的情况的发生的方案。
2、在第一方面中，本技术提供一种用于气相沉淀中的真空控制系统，包括：真空泵，所述真空泵基于外部的三相供电电缆供电工作；反应腔，所述反应腔与所述真空泵连接，且所述反应腔与所述真空泵之间...
【技术保护点】
1.一种用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，所述开关控制电路在所述任一相电缆失去电流信号时生成用于指示所述真空泵停机的第一驱动信号，所述开关控制电路在所述任一相电缆中存在电流信号时生成用于指示所述真空泵运行的第二驱动信号；
3.根据权利要求2所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，其中所述开关控制电路包括：
4.根据权利要求3所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征...
【技术特征摘要】
1.一种用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，所述开关控制电路在所述任一相电缆失去电流信号时生成用于指示所述真空泵停机的第一驱动信号，所述开关控制电路在所述任一相电缆中存在电流信号时生成用于指示所述真空泵运行的第二驱动信号；
3.根据权利要求2所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，其中所述开关控制电路包括：
4.根据权利要求3所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，所述第一驱动信号为0v电压，所述第二驱动信号为所述电路开关器件的工作电压。
6.根据权利要求5所述的用于气相沉淀中的真空控制系统，其特征在于，其中所述整流滤波电路包括全波整流电...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴天亮，张文平，李秉隆，王勇，
申请(专利权)人：湖南三安半导体有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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