【技术实现步骤摘要】
本技术属于金属掩模版蚀刻，具体涉及一种用于湿蚀刻的蚀刻设备。
技术介绍
1、蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。湿蚀刻就是利用合适的化学溶液腐蚀去除材质上未被光阻覆盖（感光膜）的部分，达到一定的雕刻深度。
2、在金属掩模版生产过程中，需要对金属掩模版进行湿蚀刻，蚀刻过程中，利用喷头将蚀刻液喷洒在金属掩模版表面，来蚀刻处多个通孔；现有技术中对金属掩模版的蚀刻多采用单面蚀刻的方式，蚀刻效率有待提升，为此提出一种用于湿蚀刻的蚀刻设备。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，解决了现有技术中的问题。
2、本技术的目的可以通过以下技术方案实现：
3、一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，包括收纳箱，收纳箱上端固定有上下开放的蚀刻箱，蚀刻箱上端设置有能够升降的上盖，蚀刻箱的对立两内侧壁上分别设置有一个支撑板，支撑板上设置能够往复滑动的定位板，定位板上定位固定有载具，金属掩模版粘接在载具上；
4、所述定位板的上方和下方均设置有一个喷头组件，喷头组件包括多个呈直线方向分布的喷头，且分布方向与定位板的滑动方向垂直；喷头上连接有喷洒管，喷洒管与泵连接并能够将蚀刻液喷入金属掩模版上。
5、进一步地，所述喷头组件还包括用于固定喷头的安装板；
6、在位于定位板上方的喷头组件中，安装板
7、进一步地，所述蚀刻箱上设置有气缸来驱动上盖升降。
8、进一步地，所述喷洒管为软管。
9、进一步地，所述载具包括方框，方框上设置有第一固定板和能够滑动的滑动板，金属掩模版的两端分别粘接在第一固定板和滑动板上。
10、进一步地，所述滑动板与方框滑动连接，方框上设置有第二固定板，第二固定板上螺纹连接有调节杆，调节杆的端部与滑动板转动连接。
11、进一步地，所述调节杆的螺纹升角小于当量摩擦角。
12、进一步地，所述定位板上端开设有定位槽来与方框配合，定位板上端通过螺栓连接的方式固定有压块，且压块能将方框压紧在定位板上。
13、进一步地，所述定位板与支撑板滑动连接，蚀刻箱上设置能够转动的丝杆，丝杆贯穿定位板并与其螺纹连接。
14、进一步地，所述丝杆的螺纹升角小于当量摩擦角。
15、本技术的有益效果：
16、1、通过在蚀刻箱内设置支撑板来支撑定位板，定位板在其上往复滑动，在定位板上定位并固定有载具，金属掩模版粘接在载具上，在定位板上方和下方均设置有喷头组件，并在喷头组件中设置多个呈直线方向分布的喷头，喷头的分布方向与定位板的滑动方向垂直，来实现从金属掩模版上下两侧进行喷淋蚀刻，相比于现有技术中的单面喷淋蚀刻而言，提高了蚀刻效率。
17、2、通过在在载具上设置能够调节位置的滑动板，来方便对不同尺寸的金属掩模版进行铺平固定。
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1.一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，包括收纳箱（1），其特征在于，收纳箱（1）上端固定有上下开放的蚀刻箱（2），蚀刻箱（2）上端设置有能够升降的上盖（3），蚀刻箱（2）的对立两内侧壁上分别设置有一个支撑板（21），支撑板（21）上设置能够往复滑动的定位板（4），定位板（4）上定位固定有载具（5），金属掩模版粘接在载具（5）上；
2.根据权利要求1所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述喷头组件（7）还包括用于固定喷头（73）的安装板（71）；
3.根据权利要求1所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻箱（2）上设置有气缸来驱动上盖（3）升降。
4.根据权利要求3所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述喷洒管（72）为软管。
5.根据权利要求1所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述载具（5）包括方框（51），方框（51）上设置有第一固定板（511）和能够滑动的滑动板（52），金属掩模版的两端分别粘接在第一固定板（511）和滑动板（52）上。
6.根据权利要求5所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，
7.根据权利要求6所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述调节杆（54）的螺纹升角小于当量摩擦角。
8.根据权利要求5所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述定位板（4）上端开设有定位槽（41）来与方框（51）配合，定位板（4）上端通过螺栓连接的方式固定有压块（8），且压块（8）能将方框（51）压紧在定位板（4）上。
9.根据权利要求1所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述定位板（4）与支撑板（21）滑动连接，蚀刻箱（2）上设置能够转动的丝杆（6），丝杆（6）贯穿定位板（4）并与其螺纹连接。
10.根据权利要求9所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述丝杆（6）的螺纹升角小于当量摩擦角。
...【技术特征摘要】
1.一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，包括收纳箱（1），其特征在于，收纳箱（1）上端固定有上下开放的蚀刻箱（2），蚀刻箱（2）上端设置有能够升降的上盖（3），蚀刻箱（2）的对立两内侧壁上分别设置有一个支撑板（21），支撑板（21）上设置能够往复滑动的定位板（4），定位板（4）上定位固定有载具（5），金属掩模版粘接在载具（5）上；
2.根据权利要求1所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述喷头组件（7）还包括用于固定喷头（73）的安装板（71）；
3.根据权利要求1所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻箱（2）上设置有气缸来驱动上盖（3）升降。
4.根据权利要求3所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述喷洒管（72）为软管。
5.根据权利要求1所述的一种用于湿蚀刻的蚀刻设备，其特征在于，所述载具（5）包括方框（51），方框（51）上设置有第一固定板（511）和能够滑动的滑动板（52），金属掩模版的两端分别粘接在第一固定板（511）和滑动板（52）上。...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑庆靓，汤茂林，刘贵福，盛冬冬，
申请(专利权)人：拓维光电材料滁州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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