【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空溅镀，特别涉及一种连续线磁控溅射设备。
技术介绍
1、真空磁控溅镀设备一般由真空系统、传送系统、加热系统、阴极等部分组成；溅射镀膜的核心在于连续稳定的制备均匀的所需膜层，目前的基板和设备尺寸随着终端需求变化，尺寸也越来越大，从而对传输系统的要求越来越高；传输系统的速率会影响设备生产节拍，传输过程中的震动及稳定性会影响膜层的均匀性。
2、中国专利cn201990723u公开了一种立式真空镀膜机的基板传输机构装置，这里采用无滚轮的玻璃载具放置基板，然后竖直通过立式真空镀膜机，利用溅射源对基板的一面进行溅镀。玻璃载具的移动是通过并排设置的多个输送轮实现的。在这种输送方式下会存在如下问题：
3、1、所有输送轮很难保证高度一致，就算一开始固定的精度很高，但是输送轮在负重前后高度多少会有起伏，所以玻璃载具在每次接触下一个输送轮的时候很容易发生颠簸，对于溅镀来说颠簸会使镀膜变得不均匀，产生质量问题。
4、2、玻璃载具的向前移动的动力是输送轮对玻璃载具的摩擦力。玻璃载具和基板的质量越重，惯性影响越明显。输送速度就不能随意加快，因为一旦出现输送轮与玻璃载具之间出现打滑，输送轮再进一步加速也不能带来加速度的增大，制约了生产效率的提升。
5、中国专利cn101483145a披露了一种在衬底处理系统重的升降机子系统，其中包括线性马达、可移动的运输设备和多个极片，线性马达产生磁动力，可移动的运输设备包括多个磁元件。多个极片连接至升降机基底并且将磁场从线性马达耦合到磁元件。在该系统中，为了不与另
6、因此需要改进连续线磁控溅射设备的结构来解决以上问题。
技术实现思路
1、本技术的主要目的在于提供一种连续线磁控溅射设备，能够避免输送抖动影响溅镀质量，不用担心打滑问题，有利于提升溅镀的加工效率。
2、本技术通过如下技术方案实现上述目的：一种连续线磁控溅射设备，用来立式输送并溅镀基板，包括设备本体和立式托盘，所述立式托盘竖直固定基板，所述设备本体包括呈竖直细缝结构的腔体、位于所述腔体下部且控制所述立式托盘穿过腔体的传送单元、为所述腔体抽真空的真空单元、分设于所述腔体两侧的加热单元和阴极，所述传送单元包括一对穿过所述腔体下部的无缝滑轨、在两个无缝滑轨之间沿输送方向设置的若干线圈和将所述线圈与所述腔体隔开的透磁盒体，所述立式托盘包括框架和位于所述框架底部的行走部，所述行走部包括条形的支撑底座、位于所述支撑底座两侧的多对行走轮以及直线排布于所述支撑底座底部的若干磁板，所述磁板与所述线圈位置相对，所述透磁盒体中穿过设置有为所述线圈降温的冷却单元，所述行走轮在所述无缝滑轨上行走。
3、具体的，所述行走轮的内侧设有抵住所述无缝滑轨一侧的凸缘。
4、具体的，所述无缝滑轨的外侧设有包围所述行走轮且呈倒j形的护板。
5、具体的，所述框架的顶部设有引导条，所述设备本体还包括设于所述腔体上部的引导单元，所述引导单元包括相对设置的第一挡条和第二挡条，所述引导条在所述第一挡条和所述第二挡条之间移动。
6、进一步的，所述第一挡条和所述第二挡条的出入侧往两边张开。
7、进一步的，所述引导条为两极位于其长度方向两侧的磁条，所述第一挡条和所述第二挡条分别连接磁铁的两极，所述第一挡条和所述第二挡条的磁极与所述引导条的两极同极相对。
8、具体的，所述框架的内侧设有若干用于夹住基板边缘的固定夹。
9、具体的，所述设备本体的上部设有为所述腔体抽真空的真空单元。
10、本技术技术方案的有益效果是：
11、1、立式托盘在重力和磁力的共同作用下会牢牢贴在无缝滑轨上。只要无缝滑轨上没有接缝，立式托盘在移动的时候就不会有剧烈的上下抖动，提升了输送的稳定性，确保了溅镀质量。
12、2、提供立式托盘的移动动力的是电磁感应产生的电磁感应力，而不是摩擦力，不用担心打滑问题，这就使移动速度可以被更精确地控制，有利于提升溅镀的加工效率。
13、3、立式托盘是利用两边的行走轮沿着两个无缝滑轨移动的，立式托盘的底部稳定，所以不会因为基板的摇摆而影响基板与阴极之间的距离，保证了溅镀质量。
14、4、为了避免线圈过热发生熔断，一则依靠透磁盒体隔开腔体与线圈，二则通过冷却单元通冷却水来为线圈降温，保证了生产的安全性。
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1.一种连续线磁控溅射设备，用来立式输送并溅镀基板，包括设备本体和立式托盘，所述立式托盘竖直固定基板，所述设备本体包括呈竖直细缝结构的腔体、位于所述腔体下部且控制所述立式托盘穿过腔体的传送单元、为所述腔体抽真空的真空单元、分设于所述腔体两侧的加热单元和阴极，其特征在于：所述传送单元包括一对穿过所述腔体下部的无缝滑轨、在两个无缝滑轨之间沿输送方向设置的若干线圈和将所述线圈与所述腔体隔开的透磁盒体，所述立式托盘包括框架和位于所述框架底部的行走部，所述行走部包括条形的支撑底座、位于所述支撑底座两侧的多对行走轮以及直线排布于所述支撑底座底部的若干磁板，所述磁板与所述线圈位置相对，所述透磁盒体中穿过设置有为所述线圈降温的冷却单元，所述行走轮在所述无缝滑轨上行走。
2.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述行走轮的内侧设有抵住所述无缝滑轨一侧的凸缘。
3.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述无缝滑轨的外侧设有包围所述行走轮且呈倒J形的护板。
4.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述框架的顶部设有引导
5.根据权利要求4所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述第一挡条和所述第二挡条的出入侧往两边张开。
6.根据权利要求4所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述引导条为两极位于其长度方向两侧的磁条，所述第一挡条和所述第二挡条分别连接磁铁的两极，所述第一挡条和所述第二挡条的磁极与所述引导条的两极同极相对。
7.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述框架的内侧设有若干用于夹住基板边缘的固定夹。
8.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述设备本体的上部设有为所述腔体抽真空的真空单元。
...【技术特征摘要】
1.一种连续线磁控溅射设备，用来立式输送并溅镀基板，包括设备本体和立式托盘，所述立式托盘竖直固定基板，所述设备本体包括呈竖直细缝结构的腔体、位于所述腔体下部且控制所述立式托盘穿过腔体的传送单元、为所述腔体抽真空的真空单元、分设于所述腔体两侧的加热单元和阴极，其特征在于：所述传送单元包括一对穿过所述腔体下部的无缝滑轨、在两个无缝滑轨之间沿输送方向设置的若干线圈和将所述线圈与所述腔体隔开的透磁盒体，所述立式托盘包括框架和位于所述框架底部的行走部，所述行走部包括条形的支撑底座、位于所述支撑底座两侧的多对行走轮以及直线排布于所述支撑底座底部的若干磁板，所述磁板与所述线圈位置相对，所述透磁盒体中穿过设置有为所述线圈降温的冷却单元，所述行走轮在所述无缝滑轨上行走。
2.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述行走轮的内侧设有抵住所述无缝滑轨一侧的凸缘。
3.根据权利要求1所述的连续线磁控溅射设备，其特征在于：所述无缝...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨本伟，周文彬，杨星，李伟，
申请(专利权)人：苏州晟成光伏设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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