一种自清洁抗紫外塑封膜及其制备方法技术

本发明专利技术属于塑封膜的制备技术领域，公开了一种自清洁抗紫外塑封膜及其制备方法，该塑封膜包括光学级PET基材层、底涂层、纳米自清洁抗静电涂层、助粘层和抗紫外EVA层，光学级PET基材层上方涂布有底涂层，底涂层上方涂布有纳米自清洁抗静电涂层，光学级PET基材层下方涂布有助粘层，助粘层下方淋膜复合抗紫外EVA层。本发明专利技术制备得到的自清洁抗紫外的塑封膜在塑封膜表面涂布一层疏水、抗污、防静电的自清洁纳米涂层，结合具有“荷叶效应”的疏水涂层及具有不吸灰效果的抗静电涂层两大优势，使塑封膜具备优异的自清洁效果；同时，淋膜复合带抗紫外功能的EVA胶层，在具备优异的抗紫外功能的同时，对被封文件亦有极佳的粘合力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于塑封膜的制备，尤其涉及一种自清洁抗紫外塑封膜及其制备方法。

技术介绍

1、塑封膜是一种用于保护照片、文件等纸质材料的透明薄膜，主要优点包括防潮、防尘、防褪色、保护文件和照片等，它可以使照片和文件长期保存并保持良好的状态。但是，现有塑封膜在户外使用时，由于长期受阳光暴晒以及雨水冲刷，容易造成塑封膜表面脏污以及被封文件褪色，导致文件内容模糊，需要经常擦洗或更换，费时费力。因此，亟需一种不容易被灰尘、雨水、油污污染、抗紫外的塑封膜，在户外使用时可以更长久的保护文件。

2、通过上述分析，现有技术存在的问题及缺陷为：现有塑封膜不具备自清洁效果，在户外使用时由于长期受阳光暴晒和雨水冲刷，容易造成表面脏污以及被封文件褪色，导致文件内容模糊，需要经常擦洗或更换，费时费力。

技术实现思路

1、为克服相关技术中存在的问题，本专利技术公开实施例提供了一种自清洁抗紫外塑封膜及其制备方法，所述技术方案如下：

2、本专利技术是这样实现的，一种自清洁抗紫外塑封膜，包括：光学级pet基材层、底涂层、纳米本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种自清洁抗紫外塑封膜，其特征在于，该自清洁抗紫外塑封膜包括：光学级PET基材层(1)、底涂层(2)、纳米自清洁抗静电涂层(3)、助粘层(4)和抗紫外EVA层(5)；其中，光学级PET基材层(1)上方涂布有底涂层(2)，底涂层(2)上方涂布有纳米自清洁抗静电涂层(3)；所述光学级PET基材层(1)下方涂布有助粘层(4)，所述助粘层(4)下方淋膜复合抗紫外EVA层(5)。

2.根据权利要求1所述的自清洁抗紫外塑封膜，其特征在于，所述光学级PET基材层(1)采用厚度为12～150μm的光学级BOPET，底涂层(2)的厚度为0.5～2μm，纳米自清洁抗静电涂层(3)的厚度为1～...

【技术特征摘要】

1.一种自清洁抗紫外塑封膜，其特征在于，该自清洁抗紫外塑封膜包括：光学级pet基材层(1)、底涂层(2)、纳米自清洁抗静电涂层(3)、助粘层(4)和抗紫外eva层(5)；其中，光学级pet基材层(1)上方涂布有底涂层(2)，底涂层(2)上方涂布有纳米自清洁抗静电涂层(3)；所述光学级pet基材层(1)下方涂布有助粘层(4)，所述助粘层(4)下方淋膜复合抗紫外eva层(5)。

2.根据权利要求1所述的自清洁抗紫外塑封膜，其特征在于，所述光学级pet基材层(1)采用厚度为12～150μm的光学级bopet，底涂层(2)的厚度为0.5～2μm，纳米自清洁抗静电涂层(3)的厚度为1～10μm，助粘层(4)的厚度为0.5～2μm，抗紫外eva层(5)的厚度为13～100μm。

3.一种自清洁抗紫外塑封膜的制备方法，其特征在于，该制备方法用于对权利要求1至2任意一项所述的自清洁抗紫外塑封膜进行制备，该制备方法包括：

4.根据权利要求3所述的自清洁抗紫外塑封膜的制备方法，其特征在于，在步骤s1中，采用网纹涂布或微凹涂布的方式涂布底涂层(2)，包括：

5.根据权利要求3所述的自清洁抗紫外塑封膜的制备方法，其特征在于，在步骤s2中，自清洁抗静电涂布液的制备包括：将疏水性硅树脂、亲水性纳米二氧化硅颗粒、聚二甲基硅氧烷、油酸钠或硬脂酸钠加入有机溶剂中均匀混合分散，得到自清洁涂层的基础溶液，并在基础溶液中添加1～3％的抗静电剂，得到自清洁抗静电涂布液；

6.根据权利要求3所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹骁，卞姣，王军林，
申请(专利权)人：宜兴市王者塑封有限公司，
类型：发明
国别省市：