System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 提高质谱性能的分析装置和方法制造方法及图纸_技高网

提高质谱性能的分析装置和方法制造方法及图纸

技术编号:41244098 阅读:4 留言:0更新日期:2024-05-09 23:55
本发明专利技术提供了一种提高质谱性能的分析装置和方法,所述提高质谱性能的分析装置包括离子漏斗、进样锥和第一真空腔,所述离子漏斗和进样锥设置在所述第一真空腔内;所述离子漏斗的中心轴线和进样锥的中心轴线间的距离不为零,所述离子漏斗和进样锥满足:0.5·D<subgt;2</subgt;≤D<subgt;1</subgt;≤D<subgt;2</subgt;,0.5·(D<subgt;1</subgt;+D<subgt;2</subgt;)≤S<subgt;1</subgt;≤D<subgt;1</subgt;+D<subgt;2</subgt;,120°≤Φ<subgt;1</subgt;≤140°;D<subgt;1</subgt;是所述进样锥的锥口直径,D<subgt;2</subgt;是离子漏斗中靠近进样锥的电极上通孔的直径,S<subgt;1</subgt;是离子漏斗中靠近进样锥的电极在所述锥口中心轴线上投影与锥口间的距离,Φ<subgt;1</subgt;是所述进样锥的靠近离子漏斗的平面与锥面间的最小角度。本发明专利技术具有检出限低、提高质谱检测性能等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及质谱技术,特别涉及提高质谱性能的分析装置和方法


技术介绍

1、便携式质谱仪通常采用可加热的小孔径离子传输管作为大气压接口,相关研究表明,离子传输管孔径的大小不仅直接关系到质谱系统的真空度,还关系到质谱仪的检出限和抗污染能力。

2、离子传输管孔径越小其流导越小,流入质谱仪内的离子越少,仪器对低浓度样品的信号响应越低,仪器可靠性越差,而随着离子传输管孔径的增大,虽然离子通过率更高,但在进高浓度样品时也极易造成质量检测器的污染,尤其在于液相联用时,仪器往往会因为去溶剂化不好,产生较高的背景信号,影响仪器的检测性能。

3、尽管将离子传输管加热到更高温度或加长离子传输管增加离子飞行时间可以提高去溶剂化效果,但是这会增加离子扩散从而降低离子的传输效率。


技术实现思路

1、为解决上述现有技术方案中的不足,本专利技术提供了一种提高质谱性能的分析装置。

2、本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的:

3、一种提高质谱性能的分析装置,包括离子漏斗、进样锥和第一真空腔,所述离子漏斗和进样锥设置在所述第一真空腔内;所述离子漏斗的中心轴线和进样锥的中心轴线间的距离不为零,所述离子漏斗和进样锥满足:

4、0.5·d2≤d1≤d2,0.5·(d1+d2)≤s1≤d1+d2,120°≤φ1≤140°;

5、d1是所述进样锥的锥口直径,d2是离子漏斗中靠近进样锥的电极上通孔的直径,s1是离子漏斗中靠近进样锥的电极在所述锥口中心轴线上投影与锥口间的距离,φ1是所述进样锥的靠近离子漏斗的平面与锥面间的最小角度。

6、本专利技术的另一目的在于提供了一种提高质谱性能的分析方法,该专利技术目的是通过以下技术方案得以实现的:

7、一种提高质谱性能的分析方法,所述提高质谱性能的分析方法为:

8、离子进入离子漏斗内;

9、从所述离子漏斗出射的离子偏转进入进样锥内;所述离子漏斗和进样锥满足:

10、0.5·d2≤d1≤d2,0.5·(d1+d2)≤s1≤d1+d2,120°≤φ1≤140°;

11、d1是所述进样锥的锥口直径,d2是离子漏斗中靠近进样锥的电极上通孔的直径,s1是离子漏斗中靠近进样锥的电极在所述锥口中心轴线上投影与锥口间的距离,φ1是所述进样锥的靠近离子漏斗的平面与锥面间的最小角度。

12、与现有技术相比,本专利技术具有的有益效果为:

13、1. 稳定性好;

14、离子漏斗和进样锥的位置设计,使得在锥孔尖端处聚焦离子,提高离子的传输效率,同时防止了离子漏斗末端处的气流膨胀,提高离子漏斗后级真空系统中离子光学系统的稳定性;

15、2.抗污染;

16、导杆和调节单元的设计,使得当调整时,提高离子的选择性,降低离子团簇或带电液滴的通过率,降低质量分析器的污染,减少谱图背景信号强度,同时可以更好的选择传输部分离子;

17、抗污染能力更强,前处理更简单,在进高浓度样品时候不需要经过诸如稀释等操作,可以直接进样,提升了便携式质谱在进高浓度样品时的抗污染能力;

18、3.检出限低;

19、当使用低浓度样品时,鉴于锥孔尖端处的离子聚焦能力,提高部分离子的检出限。

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【技术保护点】

1.一种提高质谱性能的分析装置,包括离子漏斗、进样锥和第一真空腔,所述离子漏斗和进样锥设置在所述第一真空腔内;其特征在于,所述离子漏斗的中心轴线和进样锥的中心轴线间的距离不为零,所述离子漏斗和进样锥满足:

2.根据权利要求1所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述离子漏斗和进样锥还满足:

3.根据权利要求1所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述提高质谱性能的分析装置还包括:

4.根据权利要求1所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述提高质谱性能的分析装置还包括:

5.根据权利要求2所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述提高质谱性能的分析装置还包括:

6.根据权利要求5所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述调节单元包括:

7.一种提高质谱性能的分析方法,所述提高质谱性能的分析方法为:

8.根据权利要求7所述的提高质谱性能的分析方法,其特征在于,所述离子漏斗和进样锥还满足:

9.根据权利要求7所述的提高质谱性能的分析方法,其特征在于,所述进样锥与离子漏斗中靠近进样锥的电极间的电势差ΔU满足:

10.根据权利要求8所述的提高质谱性能的分析方法,其特征在于,所述离子漏斗设置在导杆上,驱动所述离子漏斗在导杆上的位置,从而调整距离S1;

...

【技术特征摘要】

1.一种提高质谱性能的分析装置,包括离子漏斗、进样锥和第一真空腔,所述离子漏斗和进样锥设置在所述第一真空腔内;其特征在于,所述离子漏斗的中心轴线和进样锥的中心轴线间的距离不为零,所述离子漏斗和进样锥满足:

2.根据权利要求1所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述离子漏斗和进样锥还满足:

3.根据权利要求1所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述提高质谱性能的分析装置还包括:

4.根据权利要求1所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在于,所述提高质谱性能的分析装置还包括:

5.根据权利要求2所述的提高质谱性能的分析装置,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈腊黄智祥闻路红胡舜迪
申请(专利权)人:宁波华仪宁创智能科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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