优化发散度与光通量的双狭缝准直系统及其设计方法技术方案

本发明专利技术涉及一种优化发散度与光通量的双狭缝准直系统及其设计方法，该设计方案在初步确定外围参数后设计狭缝间距；改变狭缝间距获得不同间距对应的发散角值以及在样品处的光源强度占比值，使用曲线分别拟合得到狭缝间距‑发散角曲线以及狭缝间距‑光源强度占比曲线；分别取合适斜率的直线截取相应的曲线获得狭缝间距的两组不同区间，取两组不同区间的重合部分确定为狭缝间距的设计区间，在该设计区间内确定狭缝间距；然后设计狭缝开度。该优化方法通过合适的拟合方法与区间确定方法实现了平衡小发散角需求与大光通量需求之间的矛盾，从而在不改变光源的情况下，提供了更平衡的X射线成像效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于光学系统的双狭缝准直，具体涉及优化发散度与光通量的双狭缝准直系统及其设计方法。

技术介绍

1、通常的x射线光源的发散角很大，比如常规的铜靶x光管的发散角一般为12°甚至更高，然而几乎所有的x射线工业应用中均要求较小的发散度光源，这一对现实矛盾是x射线器材设计过程中不得不面对的现实问题。现有设计中常用准直或者聚焦光路处理得到较小发散角的x射线。利用狭缝卡光实现较小发散度的x射线是设计x射线光路时的一种常见方案，在此基础上，也产生了应用双狭缝降低x射线发散度的技术方案。基于狭缝卡光的技术方案，一般是在光路上安装铅制狭缝获得仅从狭缝通过的有限发散角的x射线。基于这一原理，我们可以明确地得知一个定性的结论：获得较小的发散角意味着使用较小的狭缝，从而导致较少的x射线通过，即发散角越小往往也意味着x射线的光通量越小。对于双狭缝的方案，这一定性结论仍然适用。

2、然而具体应用中，我们一般希望到达样品的x射线足够强或者尽可能强，从而得到更好的成像性能；另一方面也希望x射线具有更小的发散角来提高成像质量。换言之，实际应用中，一般希望较小的发散角本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种优化发散度与光通量的双狭缝准直系统设计方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的优化发散度与光通量的双狭缝准直系统设计方法，其特征在于，所述S2设计狭缝间距步骤中，分别取合适斜率的直线截取相应的曲线获得狭缝间距的两组不同区间的过程为：

3.如权利要求2所述的优化发散度与光通量的双狭缝准直系统设计方法，其特征在于，所述第一斜截线的平移起点经过点(d2A,divA)，所述第二斜截线的平移起点经过点(d2B,perB)；所述第一斜截线与所述第二斜截线沿所述狭缝间距所在轴平移的距离相等。

4.如权利要求1所述的优化发散度与光通量的双狭缝准...

【技术特征摘要】

1.一种优化发散度与光通量的双狭缝准直系统设计方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的优化发散度与光通量的双狭缝准直系统设计方法，其特征在于，所述s2设计狭缝间距步骤中，分别取合适斜率的直线截取相应的曲线获得狭缝间距的两组不同区间的过程为：

3.如权利要求2所述的优化发散度与光通量的双狭缝准直系统设计方法，其特征在于，所述第一斜截线的平移起点经过点(d2a,diva)，所述第二斜截线的平移起点经过点(d2b,perb)；所述第一斜截线与所述第二斜截线沿所述狭缝间距所在轴平移的距离相等。

4.如权利要求1所述的优化发散度与光通量的双狭缝准直系统设计方法，其特征在于，所述非线性拟合得到狭缝间距-发散角曲线以及狭缝间距-光源强度占比曲线中所使用的拟合模型为y＝a*x^b，其中a，b为系数，且b小于0。

5.如权利要求1所述的优化发散度与光通量的双狭缝...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯发诚，邱亮，宁壮，俞赛云，
申请(专利权)人：安徽国科仪器科技有限公司，
类型：发明
国别省市：