【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种用于膜材料分切设备的滑差轴，尤其是一种自感应张力调节滑差气胀机构。
技术介绍
1、分切机是一种将单卷薄型材料(例如高分子薄膜、纸张、布料等)分切成单列多条后，以精确控制的张力将各条分别卷绕于独立管芯，所述分条后的薄型材料因材料厚度或材料均值度的差异，在材料卷绕堆叠的过程中导致各卷收卷张力产生差异，所述现象造成各卷收卷后卷径产生差异，从而导致收卷后的材料内应力不均质，收卷后的卷料松紧不一，收卷断面参差不齐。收卷后的材料在经过一段环境时效后在应用方的工艺过程中将呈现松垮、弯曲等几何与尺寸瑕疵，进而导致材料的利用率及下游产品优率下降。为解决此问题，工业上多采用机械式滑差原理的收卷装置来进行膜材收卷,所应用的原理是在收卷轴上装置多个滑差环，各滑差环以打滑的方式可对张力的差异独立作出补偿,使轴上多个卷筒料,理想上始终保持恒张力收卷。
2、所述现有工业方案中多采用的是机械式滑差装置，即通过装置内多个活塞透过气压施于外环机构摩擦力或电机张力控制常用到的磁粉装置输出机械摩擦力，所述摩擦力对外环机构的收卷造成阻尼，用以改变及控制收卷张力。显而易见，所述机械滑差产生负面的摩擦力受制于活塞的耐磨耗度(硬度、耐热性、耐环境腐蚀性)及活塞接触面的表面精度，活塞密封圈的刚性、耐热性及耐磨耗度，活塞气缸的几何精度及表面精度，气压控制的精度与气压反应时间的敏捷度。
3、针对上述不足，另有一种阻尼可调的电磁滑差装置，通过电磁产生控制力而非通入压缩空气或电磁力或磁粉实现滑差环控制的效果，并可提高控制精度；但单独的滑差环需要独立
4、在气胀功能方面，一般是利用气压推动活塞，使胀键伸出于轴体，撑住管芯的内壁，实现卷料在分切设备上的固定。目前滑差气胀装置受限于现有电磁滑差装置的结构，无法进行良好的结合，因此只能使用较为普遍的机械式滑差装置，相对于电磁控制，机械滑差存在较多的缺陷。
5、因此本申请需要提供一种能够结合电磁滑差控制与气胀装置的滑差气胀机构。
技术实现思路
1、鉴于上述状况，有必要提供一种解决上述至少一种问题的自感应张力调节滑差气胀机构。
2、一种自感应张力调节滑差气胀机构，包括内旋转环和外旋转环，所述外旋转环套于所述内旋转环外，所述外旋转环和所述内旋转环之间存在气隙，二者之间相对自由转动；
3、所述外旋转环包括张力调节单元；
4、所述内旋转环包括导体环和气胀单元，所述导体环和所述气胀单元轴向并排设置；
5、所述张力调节单元为磁性张力调节单元，所述张力调节单元的磁感线与所述导体环正交，所述内旋转环与所述外旋转环之间发生相对转动时，所述内旋转环的导体环切割磁感线，所述导体环内部产生傅科电流；
6、所述气胀单元包括导气环，其气道与主轴的供气气路联通，所述气道中设置活塞，通气时活塞顶出，通过胀键控制单元间接控制所述外旋转环上的胀键，使之活动，可以收回；断气时活塞收回，胀键顶出锁死，此时活塞与胀键控制单元不接触。
7、作为本技术的进一步方案：所述张力调节单元包括磁体环和设置在所述磁体环上的若干磁体；
8、所述磁体圆周分布于所述磁体环上。
9、作为本技术的进一步方案：所述磁体的数量为三、四或六的正整数倍；
10、所述磁体磁极的分布方向依照海尔贝克阵列原理排列。
11、作为本技术的进一步方案：所述外旋转环还包括保持架和反推环；
12、所述胀键设置于所述保持架中，所述反推环轴向设置于保持架中，所述胀键和所述反推环的活动方向相互垂直，所述反推环与所述保持架之间设置弹簧阵列。
13、作为本技术的进一步方案：所述反推环与所述胀键的接触面为楔形几何斜面，且，所述反推环与所述活塞的接触面也为楔形几何斜面；
14、所述活塞朝向所述反推环运动时，在斜面作用下，所述反推环横向移动，远离所述胀键，所述活塞远离所述反推环时，所述反推环在弹簧作用下向所述胀键移动，顶出胀键。
15、作为本技术的进一步方案：所述气胀机构还包括主轴，所述内旋转环固定设置于所述主轴上；
16、所述外旋转环通过两个轴承设置于所述主轴上；
17、所述外旋转环的横截面呈“冂”字形状，将所述内旋转环包覆其中，两个所述轴承设置于外旋转环的支脚处。
18、作为本技术的进一步方案：所述外旋转环的外侧还设置有圈型弹簧，所述圈型弹簧箍在胀键上，为胀键提供回缩的力。
19、作为本技术的进一步方案：位于所述外旋转环上同一周向位置处的所有所述胀键，被一个所述圈型弹簧箍住；
20、所述外旋转环及该周向上的胀键上，设置有沿周向分布的凹槽，所述圈型弹簧卡在所述凹槽中。
21、上述自感应张力调节滑差气胀机构采用了结合磁感张力控制与气胀结合的方式，利用轴向并列设置的张力调节单元和气胀单元，无内外环相对摩擦、无需润滑保养、机构具备高集成化、长寿命等优势。
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1.一种自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：包括内旋转环和外旋转环，所述外旋转环套于所述内旋转环外，所述外旋转环和所述内旋转环之间存在气隙，二者之间相对自由转动；
2.如权利要求1所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述张力调节单元包括磁体环和设置在所述磁体环上的若干磁体；
3.如权利要求2所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述磁体的数量为三、四或六的正整数倍；
4.如权利要求1所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述外旋转环还包括保持架和反推环；
5.如权利要求4所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述反推环与所述胀键的接触面为楔形几何斜面，且，所述反推环与所述活塞的接触面也为楔形几何斜面；
6.如权利要求4所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述气胀机构还包括主轴，所述内旋转环固定设置于所述主轴上；
7.如权利要求6所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述外旋转环的外侧还设置有圈型弹簧，所述圈型弹簧箍在胀键上，为胀键提供回缩的力。
<...【技术特征摘要】
1.一种自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：包括内旋转环和外旋转环，所述外旋转环套于所述内旋转环外，所述外旋转环和所述内旋转环之间存在气隙，二者之间相对自由转动；
2.如权利要求1所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述张力调节单元包括磁体环和设置在所述磁体环上的若干磁体；
3.如权利要求2所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述磁体的数量为三、四或六的正整数倍；
4.如权利要求1所述的自感应张力调节滑差气胀机构，其特征在于：所述外旋转环还包括保持架和反推环；
5.如权利要求4所述的自感应...
【专利技术属性】
技术研发人员：周君，马文聪，霍宏伟，
申请(专利权)人：深圳市佳得设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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