【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及游戏渲染，特别是一种非全屏后处理材质方法和装置。
技术介绍
1、目前可以使用后处理材质实现屏幕后期的特效，如描边等特效。后期处理材质能够设置与后期处理一起使用的材质，以创建破坏的视觉屏幕效果、区域类型效果或只能通过后置处理材质才能实现的游戏整体外观。
2、但是，通常的后处理材质需要对整个屏幕进行计算，而实际所需的效果可能只作用于某个特定物体，如游戏主角，生效的像素所占屏幕比例比较少，这样就会产生特定物体之外的无用计算，对于移动端来说消耗比较大。
技术实现思路
1、鉴于上述问题，提出了本专利技术以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的非全屏后处理材质方法和装置，能够在粒子所在范围内对目标对象进行后期特效处理，无需对目标对象所在的整个屏幕场景进行处理，减少了后期特效处理所需的计算量和终端的性能消耗，还可以达到与传统后期特效同样的后期材质效果。
2、根据本专利技术实施例的一方面，提供了一种非全屏后处理材质方法，包括：
3、为目标对象制作后处理材质；
4、通过粒子系统发射粒子，利用所述粒子覆盖已制作后处理材质的所述目标对象；
5、确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行后期特效处理。
6、可选地，为目标对象制作后处理材质，包括：
7、设置目标对象的材质域为表面材质，设置材质混合模式为半透明混合模式或者叠加型混合模式。
8、可选地，通
9、通过粒子系统发射粒子，依据所述目标对象的面积设置所述粒子的尺寸，使所述粒子能够完全覆盖所述目标对象；
10、通过设置粒子的本地空间使所述粒子实时跟随所述目标对象，并覆盖于已制作后处理材质的目标对象上。
11、可选地，通过粒子系统发射粒子，利用所述粒子覆盖已制作后处理材质的所述目标对象之前，还包括：
12、设置后期特效对应的自定义模板值，其中，不同后期特效设置不同的自定义模板值；
13、采用所述自定义模板值对需要制作所述后期特效的目标对象的相应位置进行标记；
14、将所述自定义模板值传输到所述粒子系统。
15、可选地，确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行后期特效处理，包括：
16、通过所述粒子系统获取所述目标对象的自定义模板值，确定与所述自定义模板值对应的后期特效；
17、依据确定出的后期特效获取所述目标对象的后期特效的材质算法；
18、采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象上标记有对应自定义模板值的位置进行后期特效处理。
19、可选地，设置所述目标对象的自定义深度；
20、获取所述目标对象所在场景的场景深度；
21、依据所述自定义深度和所述场景深度的差值，确定所述目标对象被遮挡的区域。
22、可选地，确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行后期特效处理，包括：
23、通过所述粒子系统获取所述目标对象的自定义模板值，确定与所述自定义模板值对应的后期特效；
24、依据确定出的后期特效获取所述目标对象的后期特效的材质算法；
25、采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象上标记有对应自定义模板值且被遮挡的区域进行后期特效处理。
26、可选地，通过粒子系统发射粒子，包括：
27、通过粒子系统采用生成即时迸发模式发射粒子，将发射后粒子的粒子状态调整为非去除粒子状态。
28、可选地，所述目标对象的后期特效包括：描边效果、模糊效果、色相分离、红外透视中的至少一项。
29、根据本专利技术实施例的另一方面，还提供了一种非全屏后处理材质装置，包括：
30、为目标对象制作后处理材质；
31、通过粒子系统发射粒子，利用所述粒子覆盖已制作后处理材质的所述目标对象；
32、确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行后期特效处理。
33、本专利技术实施例在为目标对象制作后处理材质后，利用粒子系统发射的粒子覆盖已制作后处理材质的目标对象，确定目标对象的后期特效的材质算法后，采用确定出的材质算法对覆盖有粒子的目标对象进行后期特效处理。由此，本专利技术实施例基于粒子进行迷你后期特效处理，用一个粒子包裹住目标对象，从而可以在粒子所在范围内对目标对象进行后期特效处理，无需对目标对象所在的整个屏幕场景进行处理，实现了将计算的屏幕像素区域限制在粒子所在的屏幕区域内，不仅减少了后期特效处理所需的计算量和终端的性能消耗，而且还可以达到与传统后期特效同样的后期材质效果。
34、上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本专利技术的具体实施方式。
35、根据下文结合附图对本专利技术具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本专利技术的上述以及其他目的、优点和特征。
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1.一种非全屏后处理材质方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，为目标对象制作后处理材质，包括：
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过粒子系统发射粒子，利用所述粒子覆盖已制作后处理材质的所述目标对象，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过粒子系统发射粒子，利用所述粒子覆盖已制作后处理材质的所述目标对象之前，还包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行后期特效处理，包括：
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行后期特效处理之前，还包括：
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行后期特效处理，包括：
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，通过粒子系统发射粒子，包括：
9.根据权利要求7所述
10.一种非全屏后处理材质装置，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种非全屏后处理材质方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，为目标对象制作后处理材质，包括：
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过粒子系统发射粒子，利用所述粒子覆盖已制作后处理材质的所述目标对象，包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过粒子系统发射粒子，利用所述粒子覆盖已制作后处理材质的所述目标对象之前，还包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，确定所述目标对象的后期特效的材质算法，采用所述材质算法对覆盖粒子的目标对象进行...
【专利技术属性】
技术研发人员：李梦磊，
申请(专利权)人：完美世界北京软件科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：
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