【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种质量分析装置以及所述质量分析装置中的分析条件的设定方法。
技术介绍
1、已知有使用电感耦合等离子体(inductively coupled plasma，icp)离子源作为离子源的icp质量分析装置(以下称作“icp-ms”)。icp-ms利用离子源将试样离子化，利用质量分离部按照每种质荷比来分离离子，并利用检测器来检测按照每种质荷比被分离的各离子。在icp-ms中，离子源被设在大致大气压环境内。经离子源离子化而生成的离子等被导入至维持为大致真空环境的真空室内，通过设在真空室内的质量分离部而被检测器检测。
2、除了作为测定对象的目标离子以外，妨碍目标离子的测定的妨碍粒子也会被导入至真空室内。妨碍粒子例如有因在离子源中用于等离子体的生成的氩(ar)等气体引起的妨碍粒子、因试样液中所含的夹杂物或添加在试样液中的添加物引起的妨碍粒子等。为了去除此种妨碍粒子，采用了各种方法。
3、例如，在日本专利特开2020-91988号公报中公开了：设置碰撞池(collisioncell)而使作为妨碍粒子的干扰离子的动能与目标离子的动能产生差异，并在碰撞池的出口形成能垒(energy barrier)，由此将干扰离子与目标离子分离开来而予以去除。
4、而且，在国际公开第2002/019382号中公开了一种icp-ms，其使作为碰撞池的入口的、板(plate)的孔径(aperture)相对于作为从离子源朝向真空区域的导入口的、板的孔径而偏移(offset)。根据国际公开第2002/019382号中公
技术实现思路
1、通过设置不将来自离子源的导入口与碰撞池的入口配置在同轴上而使离子的行进方向弯曲的结构，能够去除中性粒子或光子等妨碍粒子。但是，若为了去除一部分粒子而将两个粒子的通过口配置在互不相同的轴上，则存在连设为检测目标的离子也无法通过其中一个通过口的可能性，从而有被送往检测器的目标离子的总量变少而检测灵敏度下降的担忧。
2、本公开是为了解决此问题而完成，既防止成为噪声的妨碍粒子被导入至检测器，又提高目标离子的检测灵敏度。
3、本公开的质量分析装置包括：离子源，将试样离子化；采样锥，在第一轴上形成有用于导入配置有离子源的离子化室内的粒子的导入口；池，设在第一轴上，用于使从采样锥导入的粒子接触至规定气体；质量分离装置，设在与第一轴平行的第二轴上，按照每种质荷比来分离离子；检测器，设在第二轴上，检测经质量分离装置分离的各离子；第一电极，在池与质量分离装置之间的第一轴上设有粒子的通过口；第二电极，在第一电极与质量分离装置之间的第二轴上设有粒子的通过口；以及控制装置。控制装置将各部控制为不向池内送入规定气体而获得检测结果的第一模式、或向池内送入规定气体而获得检测结果的第二模式。控制装置将使作为在第一模式下对第一电极及第二电极各自施加的电极电压而设定的初始电压加上根据作为检测目标的目标离子所具有的质荷比而决定的偏移量所得的电压，设定为第二模式下的电极电压。
4、本公开的设定方法是对质量分析装置的分析条件进行设定的方法。质量分析装置包括：离子源，将试样离子化；采样锥，在第一轴上形成有用于导入配置有离子源的离子化室内的粒子的导入口；池，设在第一轴上，用于使从采样锥导入的粒子接触至规定气体；质量分离装置，设在与第一轴平行的第二轴上，按照每种质荷比来分离离子；检测器，设在第二轴上，检测经质量分离装置分离的各离子；第一电极，在池与质量分离装置之间的第一轴上设有粒子的通过口；以及第二电极，在第一电极与质量分离装置之间的第二轴上设有粒子的通过口。设定方法包含下述步骤：设定为不向池内送入规定气体而获得检测结果的第一模式；以及设定为向池内送入规定气体而获得检测结果的第二模式。设定方法包含下述步骤：在被设定为第二模式的情况下，将使作为在第一模式下对第一电极及第二电极各自施加的电极电压而设定的初始电压加上根据作为检测目标的目标离子所具有的质荷比而决定的偏移量所得的电压，设定为第二模式下的电极电压。
5、本专利技术的所述及其他目的、特征、方面以及优点将根据与附图相关联地理解的跟本专利技术相关的接下来的详细说明而明确。
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1.一种质量分析装置，包括：
2.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
3.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
4.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
5.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
6.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
7.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中质荷比的值越大则所述偏移量的值越小。
8.一种分析条件的设定方法，是质量分析装置的分析条件的设定方法，其中
【技术特征摘要】
1.一种质量分析装置，包括：
2.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
3.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
4.根据权利要求1所述的质量分析装置，其中
5.根据权利要求1所述的质量分析...
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