【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种湿法蚀刻设备。
技术介绍
1、玻璃湿法蚀刻包括涂光刻胶、用光刻图刻、喷涂蚀刻液、清理和烘干等工序。
2、目前，在喷涂蚀刻液工序中，利用多个喷头向光刻后的表面大量喷涂蚀刻液，以保证所有光刻槽范围内的玻璃表面均能被腐蚀到，蚀刻液浪费严重，后期处理不慎会污染环境。
3、本专利技术设计一种湿法蚀刻设备对玻璃上光刻胶的光刻槽进行精准的像素级喷涂解决如上问题。
技术实现思路
1、为解决现有技术中的所述缺陷，本专利技术公开一种湿法蚀刻设备，它是采用以下技术方案来实现的。
2、一种湿法蚀刻设备，它包括平台、支架b、电机a、滑座a、电机b、滑座c、电机c、喷酸机构，其中安装于平台的支架b内竖直运动有被电机a驱动的方框形滑座a，滑座a内水平运动有被电机b和电机c驱动的滑座c；滑座c下方通过竖杆安装有向平台上水平玻璃进行像素级喷酸的喷酸机构。
3、所述喷酸机构包括喷酸板、导套、滑塞a、滑塞b、滑塞c、压电板，其中安装于竖杆的带空腔喷酸板的下表面上阵列密布有喷孔a，任意相邻两个喷孔a之间均具有小口径尺寸喷孔b，任意对角分布的两个喷孔a之间均具有小口径喷孔c；每个喷孔a处的导套内均竖直密封滑动有在压电板驱动下对其上酸孔开关的的滑塞a，每个喷孔b处的导套内均竖直密封滑动有对其上酸孔开关的滑塞b，每个喷孔c处的导套内均竖直密封滑动有对其上酸孔开关的滑塞c；任意相邻两个滑塞a与两者之间的滑塞b之间均具有在只有一个滑塞a打开相应
4、作为本技术的进一步改进，所述平台安装于支架a上；安装于支架b和平台的两个竖直螺杆a与滑座a两侧的两个螺套一一对应螺纹配合；两个螺杆a上均安装有带轮a，两个带轮a通过同步带a传动连接；一个螺杆a与平台上电机a的输出轴传动连接。
5、作为本技术的进一步改进，所述滑座a上沿直线方向水平运动有滑座b；滑座b与安装于滑座a的两个螺杆b螺纹配合；两个螺杆b上均安装有带轮b，两个带轮b之间通过同步带b传动连接；一个螺杆b与滑座a上电机b的输出轴传动连接。
6、作为本技术的进一步改进，所述滑座c沿与滑座b运动垂直的方向水平滑动于滑座b内；安装于滑座b的螺杆c与滑座c螺纹配合且与滑座b上电机c的输出轴传动连接。
7、作为本技术的进一步改进，所述滑塞a下端嵌套安装有与相应喷孔a密封配合的密封圈。
8、作为本技术的进一步改进，所述滑塞b上端具有滑槽a，滑槽a内安装有齿轮a，滑槽a内竖直滑动有两个与齿轮a啮合且运动方向相反的齿条a，两个齿条a通过连接杆与相邻两个滑塞a一一对应连接。
9、作为本技术的进一步改进，所述滑塞b下端嵌套安装有与喷孔b密封配合的密封圈。
10、作为本技术的进一步改进，所述滑塞c内具有两个上下分布的滑槽b，每个滑槽b内均竖直滑动有滑块，每个滑块上均安装有齿轮b；每个齿轮b均与滑塞c周围四个滑塞a中两个对角分布的滑塞a对应；每个滑槽b内均竖直滑动有两个与相应齿轮b啮合且运动方向相反的齿条b，两个齿条b通过连接杆与相应对角分布的两个滑塞a一一对应连接。
11、作为本技术的进一步改进，所述滑塞c下端嵌套安装有与喷孔c密封配合的密封圈。
12、作为本技术的进一步改进，所述导套上酸孔的竖直尺寸小于导套上酸孔的下沿与喷孔a内滑塞a的下端之间的最大距离而大于导套上酸孔的下沿与喷孔a内滑塞a下端之间最大距离的二分之一。
13、相对于传统的湿法蚀刻设备，本专利技术通过喷酸板上的传感器感知玻璃上光刻胶的光刻槽使得位于相应停留区域内的喷酸板上与光刻槽相对的喷孔a、喷孔b和喷孔c打开而对光刻槽范围内的玻璃表面进行hf酸的像素级精准喷涂，避免玻璃蚀刻过程中hf酸浪费。
14、本专利技术中喷酸板上任意相邻两个口径较大的喷孔a之间的喷孔b在两个喷孔a同时位于光刻槽的方位内时打开而对光刻槽内为相邻两个喷孔a之间的区域进行hf酸的均匀喷涂，使得光刻槽内的玻璃表面能被均匀喷涂hf酸而得到有效均匀蚀刻，提高蚀刻质量。
15、本专利技术结构简单，具有较好的使用效果。
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1.一种湿法蚀刻设备，其特征在于：它包括平台、支架B、电机A、滑座A、电机B、滑座C、电机C、喷酸机构，其中安装于平台的支架B内竖直运动有被电机A驱动的方框形滑座A，滑座A内水平运动有被电机B和电机C驱动的滑座C；滑座C下方通过竖杆安装有向平台上水平玻璃进行像素级喷酸的喷酸机构；
2.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述平台安装于支架A上；安装于支架B和平台的两个竖直螺杆A与滑座A两侧的两个螺套一一对应螺纹配合；两个螺杆A上均安装有带轮A，两个带轮A通过同步带A传动连接；一个螺杆A与平台上电机A的输出轴传动连接。
3.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑座A上沿直线方向水平运动有滑座B；滑座B与安装于滑座A的两个螺杆B螺纹配合；两个螺杆B上均安装有带轮B，两个带轮B之间通过同步带B传动连接；一个螺杆B与滑座A上电机B的输出轴传动连接。
4.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑座C沿与滑座B运动垂直的方向水平滑动于滑座B内；安装于滑座B的螺杆C与滑座C螺纹配合且与滑座B上电机C的输出轴传动
5.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑塞A下端嵌套安装有与相应喷孔A密封配合的密封圈。
6.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑塞B上端具有滑槽A，滑槽A内安装有齿轮A，滑槽A内竖直滑动有两个与齿轮A啮合且运动方向相反的齿条A，两个齿条A通过连接杆与相邻两个滑塞A一一对应连接。
7.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑塞B下端嵌套安装有与喷孔B密封配合的密封圈。
8.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑塞C内具有两个上下分布的滑槽B，每个滑槽B内均竖直滑动有滑块，每个滑块上均安装有齿轮B；每个齿轮B均与滑塞C周围四个滑塞A中两个对角分布的滑塞A对应；每个滑槽B内均竖直滑动有两个与相应齿轮B啮合且运动方向相反的齿条B，两个齿条B通过连接杆与相应对角分布的两个滑塞A一一对应连接。
9.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑塞C下端嵌套安装有与喷孔C密封配合的密封圈。
10.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述导套上酸孔的竖直尺寸小于导套上酸孔的下沿与喷孔A内滑塞A的下端之间的最大距离而大于导套上酸孔的下沿与喷孔A内滑塞A下端之间最大距离的二分之一。
...【技术特征摘要】
1.一种湿法蚀刻设备，其特征在于：它包括平台、支架b、电机a、滑座a、电机b、滑座c、电机c、喷酸机构，其中安装于平台的支架b内竖直运动有被电机a驱动的方框形滑座a，滑座a内水平运动有被电机b和电机c驱动的滑座c；滑座c下方通过竖杆安装有向平台上水平玻璃进行像素级喷酸的喷酸机构；
2.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述平台安装于支架a上；安装于支架b和平台的两个竖直螺杆a与滑座a两侧的两个螺套一一对应螺纹配合；两个螺杆a上均安装有带轮a，两个带轮a通过同步带a传动连接；一个螺杆a与平台上电机a的输出轴传动连接。
3.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑座a上沿直线方向水平运动有滑座b；滑座b与安装于滑座a的两个螺杆b螺纹配合；两个螺杆b上均安装有带轮b，两个带轮b之间通过同步带b传动连接；一个螺杆b与滑座a上电机b的输出轴传动连接。
4.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑座c沿与滑座b运动垂直的方向水平滑动于滑座b内；安装于滑座b的螺杆c与滑座c螺纹配合且与滑座b上电机c的输出轴传动连接。
5.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑塞...
【专利技术属性】
技术研发人员：尹爀俊，欧阳春炜，李述蕾，王强，
申请(专利权)人：赛德半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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