一种湿法蚀刻设备制造技术

本发明专利技术属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种湿法蚀刻设备，它包括平台、支架B、电机A、滑座A、电机B、滑座C、电机C、喷酸机构，其中安装于平台的支架B内竖直运动有被电机A驱动的方框形滑座A，滑座A内水平运动有被电机B和电机C驱动的滑座C。本发明专利技术通过喷酸板上的传感器感知玻璃上光刻胶的光刻槽使得位于相应停留区域内的喷酸板上与光刻槽相对的喷孔A、喷孔B和喷孔C打开而对光刻槽范围内的玻璃表面进行HF酸的像素级精准喷涂，避免玻璃蚀刻过程中HF酸浪费。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种湿法蚀刻设备。

技术介绍

1、玻璃湿法蚀刻包括涂光刻胶、用光刻图刻、喷涂蚀刻液、清理和烘干等工序。

2、目前，在喷涂蚀刻液工序中，利用多个喷头向光刻后的表面大量喷涂蚀刻液，以保证所有光刻槽范围内的玻璃表面均能被腐蚀到，蚀刻液浪费严重，后期处理不慎会污染环境。

3、本专利技术设计一种湿法蚀刻设备对玻璃上光刻胶的光刻槽进行精准的像素级喷涂解决如上问题。

技术实现思路

1、为解决现有技术中的所述缺陷，本专利技术公开一种湿法蚀刻设备，它是采用以下技术方案来实现的。

2、一种湿法蚀刻设备，它包括平台、支架b、电机a、滑座a、电机b、滑座c、电机c、喷酸机构，其中安装于平台的支架b内竖直运动有被电机a驱动的方框形滑座a，滑座a内水平运动有被电机b和电机c驱动的滑座c；滑座c下方通过竖杆安装有向平台上水平玻璃进行像素级喷酸的喷酸机构。

3、所述喷酸机构包括喷酸板、导套、滑塞a、滑塞b、滑塞c、压电板，其中安装于竖杆的带空腔喷酸板的下表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种湿法蚀刻设备，其特征在于：它包括平台、支架B、电机A、滑座A、电机B、滑座C、电机C、喷酸机构，其中安装于平台的支架B内竖直运动有被电机A驱动的方框形滑座A，滑座A内水平运动有被电机B和电机C驱动的滑座C；滑座C下方通过竖杆安装有向平台上水平玻璃进行像素级喷酸的喷酸机构；

2.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述平台安装于支架A上；安装于支架B和平台的两个竖直螺杆A与滑座A两侧的两个螺套一一对应螺纹配合；两个螺杆A上均安装有带轮A，两个带轮A通过同步带A传动连接；一个螺杆A与平台上电机A的输出轴传动连接。

3.根据权利要求1所述的一种湿法...

【技术特征摘要】

1.一种湿法蚀刻设备，其特征在于：它包括平台、支架b、电机a、滑座a、电机b、滑座c、电机c、喷酸机构，其中安装于平台的支架b内竖直运动有被电机a驱动的方框形滑座a，滑座a内水平运动有被电机b和电机c驱动的滑座c；滑座c下方通过竖杆安装有向平台上水平玻璃进行像素级喷酸的喷酸机构；

2.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述平台安装于支架a上；安装于支架b和平台的两个竖直螺杆a与滑座a两侧的两个螺套一一对应螺纹配合；两个螺杆a上均安装有带轮a，两个带轮a通过同步带a传动连接；一个螺杆a与平台上电机a的输出轴传动连接。

3.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑座a上沿直线方向水平运动有滑座b；滑座b与安装于滑座a的两个螺杆b螺纹配合；两个螺杆b上均安装有带轮b，两个带轮b之间通过同步带b传动连接；一个螺杆b与滑座a上电机b的输出轴传动连接。

4.根据权利要求3所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑座c沿与滑座b运动垂直的方向水平滑动于滑座b内；安装于滑座b的螺杆c与滑座c螺纹配合且与滑座b上电机c的输出轴传动连接。

5.根据权利要求1所述的一种湿法蚀刻设备，其特征在于：所述滑塞...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹爀俊，欧阳春炜，李述蕾，王强，
申请(专利权)人：赛德半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：