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本发明属于湿法蚀刻领域，尤其涉及一种湿法蚀刻设备，它包括平台、支架B、电机A、滑座A、电机B、滑座C、电机C、喷酸机构，其中安装于平台的支架B内竖直运动有被电机A驱动的方框形滑座A，滑座A内水平运动有被电机B和电机C驱动的滑座C。本发明通过...
该专利属于赛德半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过赛德半导体有限公司授权不得商用。

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