污渍清理方法、装置和电子设备制造方法及图纸

技术编号:41175258 阅读:18 留言:0更新日期:2024-05-07 22:11
本发明专利技术提供一种污渍清理方法、装置和电子设备。该方法包括:在检测到待处理对象中存在多个污渍的情况下,构建多个污渍对应的干涉波纹图;并根据干涉波纹图对多个污渍进行分组,得到多个分组;再基于多个分组,对多个污渍进行清理,实现了对多个污渍的分层次清理,从而有效地提高了污渍清理效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及设备污渍清理,尤其涉及一种污渍清理方法、装置和电子设备


技术介绍

1、摄像机镜头或者表面玻璃通常会暴露在空气中,容易染上污渍,这样污渍会影响摄像机的拍摄。

2、以摄像机的表面玻璃为例,为了清理表面玻璃上的污渍,通常会在摄像机表面玻璃上增加雨量传感器和感应雨刷。在下雨时,雨量传感器会自动检测摄像机表面玻璃表面的雨量大小,并将检测到的雨量大小反馈给主控模块;主控模块根据接收到雨量大小控制感应雨刷的速度,以对表面玻璃上的污渍进行清理。

3、但是,上述方案只有在摄像机表面玻璃有水时才能清理,因此,如何有效地对摄像机表面玻璃上的污渍进行清理,是本领域技术人员亟待解决的问题。


技术实现思路

1、本申请提供一种污渍清理方法、装置和电子设备,可以实现对多个污渍进行分层次清理,从而有效地提高了污渍清理效果。

2、第一方面,本申请实施例提供一种污渍清理方法,该污渍清理方法可以包括:

3、在检测到待处理对象中存在多个污渍的情况下,构建所述多个污渍对应的干涉波纹图。...

【技术保护点】

1.一种污渍清理方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的污渍清理方法,其特征在于,所述基于所述多个分组,对所述多个污渍进行清理,包括:

3.根据权利要求2所述的污渍清理方法,其特征在于,所述区域的类型包括感兴趣区域、关键区域以及其他区域,所述根据所述分组中包括的污渍所在区域和污渍数量,确定所述分组对应的总权重,包括:

4.根据权利要求2或3所述的污渍清理方法,其特征在于,所述对所述各分组中的污渍进行清理,包括:

5.根据权利要求4所述的污渍清理方法,其特征在于,所述根据所述多个第四污渍各自所在区域的优先级,对所述多个第四污渍进行清...

【技术特征摘要】

1.一种污渍清理方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的污渍清理方法,其特征在于,所述基于所述多个分组,对所述多个污渍进行清理,包括:

3.根据权利要求2所述的污渍清理方法,其特征在于,所述区域的类型包括感兴趣区域、关键区域以及其他区域,所述根据所述分组中包括的污渍所在区域和污渍数量,确定所述分组对应的总权重,包括:

4.根据权利要求2或3所述的污渍清理方法,其特征在于,所述对所述各分组中的污渍进行清理,包括:

5.根据权利要求4所述的污渍清理方法,其特征在于,所述根据所述多个第四污渍各自所在区域的优先级,对所述多个第四污渍进行清理,包括:

6.根据权利要求5所述的污渍清理方法...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄军
申请(专利权)人:浙江宇视科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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