【技术实现步骤摘要】
本技术属于半导体硅片生产领域，具体涉及一种用于硅片样块干燥的吹扫箱。
技术介绍
1、硅片的干燥是检测前的一道重要工序流程。硅片的干燥具体是在腐蚀清洗完待检测的硅片之后将残留在硅片表面的水进行干燥去除。为了提高产品质量，更好地监控硅片生产过程中的工艺精度和良率，利用硅片样块来增加硅抛光片的监控频率，为此硅片样块质量检测前的处理十分重要。现有技术中硅抛光片是使用淋洗甩干机进行干燥除水。
2、但是由于硅片样块的硬度和脆性，较硅抛光片而言较弱，因此在腐蚀清洗完后一般是直接用氮气枪手动吹硅片样块表面的水，这就导致硅片样块在吹扫过程中效率低，吹扫平均效率为1片/分钟，且过程不受控，手捏样块的时候易滑落，而且手捏样块出现的玷污对结果的判断也会产生一定的影响，遇到尺寸大的样块时(特别是8英寸等大尺寸的样块)还会出现吹扫不均匀的情况。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，吹扫机构向箱体内漏水板上的硅片样块吹扫氮气，有效提高吹扫效率，相较于手动吹扫，避免了手接触硅片样块，防止硅片样块滑落或者出现玷污，对硅片样块的安全性和检测结果的准确性有了一定的保障。
2、本技术为解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，包括一个内部具有腔室的封闭箱体，所述箱体内设有向其内吹扫氮气的吹扫机构，箱体的侧壁开设放样口，所述腔室内自下而上设有排水板和分布漏水孔的漏水板，排水板的上表面通过排出管与箱体外连通，所述漏水板和排水板将腔室内从上到下依次分
3、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的一种优化方案，所述漏水孔从上到下孔径逐渐减小。
4、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述漏水孔在漏水板的底部设有延伸部，延伸部的孔径从端部向自由端延伸方向逐渐减小。
5、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述排出管与排水板连接处的位置低于排水板的边缘位置。
6、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述排水板的上表面从边缘向其与排出管连接位置倾斜。
7、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述排水板的边缘到排出管的连接处的上表面为坡面或者弧面。
8、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述放样口设有密封盖板。
9、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述吹扫机构为吹扫盘管，其形状为u形、s形、z形、w形或m形，盘管朝向漏水板的一侧分布吹扫孔。
10、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述吹扫机构为内部空心的板状结构，其朝向漏水板的一侧分布吹扫孔。
11、作为上述用于硅片样块干燥的吹扫箱的另一种优化方案，所述排出腔室的底部形成中间为凹槽的接漏盘，且凹槽与箱体外连通。
12、与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
13、1)本技术通过在箱体的腔室内设置吹扫机构、漏水板和排水板，硅片样块表面的水通过吹扫机构吹扫，水依次滴落在漏水板和排水板上，排水板将水收集并通过排出管排出箱体外，相较于现有技术手动吹扫硅片样块，操作方便，还有效提高了吹扫效率，同时避免了手捏硅片样块出现玷污和样块滑落的情况，从而提高后期硅片样块检测结果的准确性和保障硅片样块的安全；
14、2)本技术的吹扫机构为盘管结构、分支管结构或内部空心的板材结构，朝向漏水板的一侧分布吹扫孔，该结构通过每隔一段距离设置吹扫孔，使吹扫区域更广，吹扫气体能够更均匀的吹扫在硅片样块上，从而解决了大尺寸的硅片样块吹扫不均匀的情况；
15、3)本技术通过设置分布漏水孔的漏水板，该漏水孔从上到下孔径逐渐减小，漏水孔在漏水板的底部设有延伸部，延伸部的孔径从端部向自由端延伸方向逐渐减小，这样使得漏水板不会集水，最大程度的把水汇集滴到排水板上，避免了样块潮湿，样块的干燥效果得到很大提升；
16、4)本技术的排水板边缘与排出管连接处的上表面设置成具有倾斜度的板，使滴落在排水板的水更容易在排出管端部汇集，然后更加快速的排出箱体外，提高了集水排水的效率。
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1.一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，包括一个内部具有腔室的封闭箱体(1)，所述箱体(1)内设有向其内吹扫氮气的吹扫机构(2)，箱体(1)的侧壁开设放样口(101)，其特征在于：所述腔室内自下而上设有排水板(4)和分布漏水孔(301)的漏水板(3)，排水板(4)的上表面通过排出管(5)与箱体(1)外连通，所述漏水板(3)和排水板(4)将腔室内从上到下依次分隔为吹扫腔室(102)、集水腔室(103)和排出腔室(104)，所述吹扫机构(2)位于吹扫腔室(102)的顶部，放样口(101)位于吹扫腔室(102)中部对应的箱体(1)侧壁，排出管(5)位于排出腔室(104)。
2.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述漏水孔(301)从上到下孔径逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述漏水孔(301)在漏水板(3)的底部设有延伸部(302)，延伸部(302)的孔径从端部向自由端延伸方向逐渐减小。
4.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述排出管(5)与排水板(4)
5.根据权利要求4所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述排水板(4)的上表面从边缘向其与排出管(5)连接位置倾斜。
6.根据权利要求5所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述排水板(4)的边缘到排出管(5)的连接处的上表面为坡面或者弧面。
7.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述放样口(101)设有密封盖板。
8.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述吹扫机构(2)为吹扫盘管，其形状为U形、S形、Z形、W形或M形，盘管朝向漏水板(3)的一侧分布吹扫孔(201)。
9.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述吹扫机构(2)为内部空心的板状结构，其朝向漏水板(3)的一侧分布吹扫孔(201)。
10.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述排出腔室(104)的底部形成中间为凹槽的接漏盘(6)，且凹槽与箱体(1)外连通。
...【技术特征摘要】
1.一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，包括一个内部具有腔室的封闭箱体(1)，所述箱体(1)内设有向其内吹扫氮气的吹扫机构(2)，箱体(1)的侧壁开设放样口(101)，其特征在于：所述腔室内自下而上设有排水板(4)和分布漏水孔(301)的漏水板(3)，排水板(4)的上表面通过排出管(5)与箱体(1)外连通，所述漏水板(3)和排水板(4)将腔室内从上到下依次分隔为吹扫腔室(102)、集水腔室(103)和排出腔室(104)，所述吹扫机构(2)位于吹扫腔室(102)的顶部，放样口(101)位于吹扫腔室(102)中部对应的箱体(1)侧壁，排出管(5)位于排出腔室(104)。
2.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述漏水孔(301)从上到下孔径逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述漏水孔(301)在漏水板(3)的底部设有延伸部(302)，延伸部(302)的孔径从端部向自由端延伸方向逐渐减小。
4.根据权利要求1所述的一种用于硅片样块干燥的吹扫箱，其特征在于：所述排出管(5)与排...
【专利技术属性】
技术研发人员：王娜，王晓飞，仝泉，胡晓亮，周晓飞，
申请(专利权)人：麦斯克电子材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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