一种自适应多层控光结构的耦合对位系统与工艺流程技术方案

技术编号:41145485 阅读:22 留言:0更新日期:2024-04-30 18:13
本发明专利技术涉及静态光场显示技术领域,为了解决现有复合光栅生产过程中遇到的耦合对位精度不足的技术问题,本发明专利技术公开了一种自适应多层控光结构的耦合对位系统与工艺流程,包括局部加热器阵列、设置在局部加热器阵列上方的下层金属吸附台、设置在下层金属吸附台上方的控光结构、设置在控光结构上方的透明吸附台、设置在透明吸附台上方的扫描显微镜阵列;局部加热器阵列包括局部加热器和控制器,所述控制器用于控制每个局部加热器的加热温度,从而对周围介质加热。通过控制单层控光结构的膨胀程度实现双层控光结构的耦合对准,完成双层控光结构的贴合,进行重复双层控光结构的耦合对准过程,从而实现高精度的复合控光结构的制备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及静态光场显示,尤其涉及一种自适应多层控光结构的耦合对位系统与工艺流程


技术介绍

1、三维显示技术、计算成像技术和光谱分析技术等领域对复合控光结构的多层精确叠加提出了高要求,尤其是在光场显示系统、计算成像系统等复杂光学系统中,对光束相位的精确调控成为关键技术需求。微棱镜阵列、微透镜阵列、柱镜光栅阵列、狭缝光栅阵列等基础控光结构通过耦合构造形成复合光栅结构。

2、然而,在这些基础控光结构进行多层对位耦合的过程中,必须在各层结构之间添加胶层以实现稳定耦合。鉴于参与耦合的多种材料间存在较大的材料膨胀系数差异,这种差异导致耦合对位精度难以满足高精度光学系统的需求,最终影响复合光栅的制作精度。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种自适应多层控光结构的耦合对位系统与工艺流程,以解决现有复合光栅生产过程中遇到的耦合对位精度不足的技术问题。

2、为实现上述目的,本专利技术提供了一种自适应多层控光结构的耦合对位系统,包括局部加热器阵列、设置在局部加热器阵列上方的下层金属吸附台、设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种自适应多层控光结构的耦合对位系统,其特征在于,包括局部加热器阵列(10)、设置在局部加热器阵列(10)上方的下层金属吸附台(20)、设置在下层金属吸附台(20)上方的控光结构(30)、设置在控光结构(30)上方的透明吸附台(40)、设置在透明吸附台(40)上方的扫描显微镜阵列;局部加热器阵列(10)包括局部加热器(11)和控制器,所述控制器用于控制每个局部加热器(11)的加热温度,从而对周围介质加热。

2.根据权利要求1所述的自适应多层控光结构的耦合对位系统,其特征在于,所述下层金属吸附台(20)与局部加热器阵列(10)之间设置有预定距离,所述下层金属吸附台(20)设...

【技术特征摘要】

1.一种自适应多层控光结构的耦合对位系统,其特征在于,包括局部加热器阵列(10)、设置在局部加热器阵列(10)上方的下层金属吸附台(20)、设置在下层金属吸附台(20)上方的控光结构(30)、设置在控光结构(30)上方的透明吸附台(40)、设置在透明吸附台(40)上方的扫描显微镜阵列;局部加热器阵列(10)包括局部加热器(11)和控制器,所述控制器用于控制每个局部加热器(11)的加热温度,从而对周围介质加热。

2.根据权利要求1所述的自适应多层控光结构的耦合对位系统,其特征在于,所述下层金属吸附台(20)与局部加热器阵列(10)之间设置有预定距离,所述下层金属吸附台(20)设置有贯通的细小孔洞(21),每个细小孔洞(21)对应于一个局部加热器(11);所述透明吸附台(40)设置有用于大行程低精度位移的第一控制电机,用于实现十微米级的位移精度。

3.根据权利要求2所述的自适应多层控光结构的耦合对位系统,其特征在于,所述透明吸附台(40)设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员:于迅博张钊赫高鑫董昊翔邢树军刘博阳高超黄辉
申请(专利权)人:深圳臻像科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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