【技术实现步骤摘要】
本技术涉及吸附垫，具体是指一种双层无蜡抛光吸附垫。
技术介绍
1、传统的镜片、玻璃、晶圆、蓝宝石、硅片的抛光工艺主要采用涂腊抛光粘片法。将需要研磨的镜片、玻璃、晶圆、蓝宝石、硅片采用腊液粘结在压块上，在贴合于研磨设备的研磨盘上进行研磨抛光。其涂腊工艺和腊液的好坏、压块的平整度均能直接影响到抛光后的成品镜片、玻璃、晶圆、蓝宝石、硅片的抛光质量，导致其合格率低(劣片、碎片、刮痕、公差超标等)。，随着现代产品对镜片、玻璃、晶圆、蓝宝石、硅片的精度要求更高，原涂腊抛光工艺已经不能满足产品的需求，因此需要一种无蜡抛光吸附垫对晶体进行无蜡抛光
技术实现思路
1、为了解决上述的各种问题，本技术提供一种双层无蜡抛光吸附垫，所述吸附垫设有粘胶层和带孔吸附研磨层，所述粘胶层设为pu树脂、硅胶或热融胶材质，所述粘胶层与带孔吸附研磨层固接后，所述带孔吸附研磨层通过粘胶层与连接板紧密粘接，所述带孔吸附研磨层内设有圆柱槽，所述圆柱槽内设有抛光溶液，所述抛光晶体置于抛光溶液中，通过研磨抛光板进行打磨抛光，全程进行无蜡抛光，避免了对抛光晶体进行涂蜡的操作，提高了抛光效率，同时可以提高抛光成品合格率。
2、为实现上述目的，本技术提供的技术方案为：
3、一种双层无蜡抛光吸附垫，包括连接板，还包括支撑杆、吸附垫装置、研磨抛光板和压力供给装置，所述连接板固接于支撑杆上端，所述吸附垫装置包括粘胶层和带孔吸附研磨层，所述粘胶层粘接紧密粘接于连接板，所述带孔吸附研磨层固定连接于粘胶层上端，所述研磨抛光板
4、进一步的，所述带孔吸附研磨层上端设有若干个圆柱槽，若干个圆柱槽呈环形阵列排布于带孔吸附研磨层上端。
5、进一步的，所述圆柱槽内径设为50mm。
6、进一步的，所述带孔吸附研磨层设为树脂材料，所述粘胶层的材质设为pu树脂、硅胶或热融胶。
7、进一步的，所述圆柱槽内设有抛光溶液。
8、进一步的，所述抛光溶液内设有抛光晶体。
9、进一步的，所述连接板设为陶瓷材质。
10、采用上述结构本技术取得的有益效果如下：
11、本技术实施例中所述吸附垫装置包括粘胶层和带孔吸附研磨层，所述粘胶层与带孔吸附研磨层固接后，所述带孔吸附研磨层通过粘胶层紧密粘接连接板进而与连接板连接，将抛光溶液添加至带孔吸附研磨层上的圆柱槽内后，将抛光晶体置于圆柱槽内，使抛光溶液包裹抛光晶体，通过研磨抛光板和抛光溶液的共同作用，对抛光晶体进行抛光，避免了对抛光晶体的涂蜡过程，有效提高了抛光晶体的抛光效率，且可以提高抛光晶体的抛光成品合格率，同时所述粘胶层设为pu树脂、硅胶或热融胶材质，使粘胶层与连接板紧密粘接，避免粘胶层与连接板之间由气泡，进一步的提高了抛光晶体的抛光成品合格率。
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1.一种双层无蜡抛光吸附垫，包括连接板，其特征在于：还包括支撑杆、吸附垫装置、研磨抛光板和压力供给装置，所述连接板固接于支撑杆上端，所述吸附垫装置包括粘胶层和带孔吸附研磨层，所述粘胶层粘接紧密粘接于连接板，所述带孔吸附研磨层固定连接于粘胶层上端，所述研磨抛光板贴合于带孔吸附研磨层，所述压力供给装置固接于研磨抛光板上端。
2.根据权利要求1所述的一种双层无蜡抛光吸附垫，其特征在于：所述带孔吸附研磨层上端设有若干个圆柱槽，若干个圆柱槽呈环形阵列排布于带孔吸附研磨层上端。
3.根据权利要求2所述的一种双层无蜡抛光吸附垫，其特征在于：所述圆柱槽内径设为50mm。
4.根据权利要求2所述的一种双层无蜡抛光吸附垫，其特征在于：所述带孔吸附研磨层设为树脂材料，所述粘胶层的材质设为PU树脂、硅胶或热融胶。
5.根据权利要求3所述的一种双层无蜡抛光吸附垫，其特征在于：所述圆柱槽内设有抛光溶液。
6.根据权利要求5所述的一种双层无蜡抛光吸附垫，其特征在于：所述抛光溶液内设有抛光晶体。
7.根据权利要求1所述的一种双层无蜡抛光吸附
...【技术特征摘要】
1.一种双层无蜡抛光吸附垫，包括连接板，其特征在于：还包括支撑杆、吸附垫装置、研磨抛光板和压力供给装置，所述连接板固接于支撑杆上端，所述吸附垫装置包括粘胶层和带孔吸附研磨层，所述粘胶层粘接紧密粘接于连接板，所述带孔吸附研磨层固定连接于粘胶层上端，所述研磨抛光板贴合于带孔吸附研磨层，所述压力供给装置固接于研磨抛光板上端。
2.根据权利要求1所述的一种双层无蜡抛光吸附垫，其特征在于：所述带孔吸附研磨层上端设有若干个圆柱槽，若干个圆柱槽呈环形阵列排布于带孔吸附研磨层上端。
3.根据权利要求2所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄军慧，
申请(专利权)人：东莞市盈鑫半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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