一种工程芯片的制备方法及工程芯片技术

本发明专利技术涉及一种工程芯片的制备方法及工程芯片，步骤如下：在碱液中超声清洗上基板和设有液孔的下基板；通过化学气相沉积在上基板上修饰带有环氧基团的环氧层或带有碳碳双键的双键官能团层；将上基板和下基板封装并在两者间形成有与液孔相连通的流道，其中上基板上的环氧层或双键官能团层朝向下基板；将表面修饰有多种荧光物质的荧光微球通入流道中反应使荧光微球固定在上基板与流道相对的表面上；同时公开了利用该方法制备的工程芯片。该发明专利技术将两种不同的荧光微球修饰在芯片上，有利于基因测序仪测试前的光学系统的调试，而且制备的工程芯片信号强度稳定且每个荧光点的信号强度均一。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基因测序领域，尤其是一种工程芯片的制备方法及工程芯片。

技术介绍

1、目前基因测序仪大多使用光学系统作为其核心检测系统，基因测序仪的光学系统对于精准度要求较高，因此在测序之前光学系统需要提前做好校准。目前技术是使用胶体和荧光材料混合后通入到工程芯片内，最终在芯片内凝固，其中的发光材料就用于光学系统的调试。但这种技术存在一定问题，首先，发光材料在胶体中随机分布，不在同一水平面上，这不利于光学的调试；其次，发光材料会在胶体中团聚使发光材料的点大小不一，信号强度不同。

技术实现思路

1、针对现有的不足，本专利技术提供一种工程芯片的制备方法及工程芯片。

2、本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种工程芯片的制备方法，步骤如下：

3、s1，在碱液中超声清洗上基板和设有液孔的下基板；

4、s2，通过化学气相沉积在上基板上修饰带有环氧基团的环氧层或带有碳碳双键的双键官能团层；

5、s3，将上基板和下基板封装并在两者间形成有与液孔相连通的流道，其中上基板上本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种工程芯片的制备方法，其特征在于:步骤如下：

2.根据权利要求1所述工程芯片的制备方法，其特征在于:所述步骤S2中还包括在下基板上沉积钝化层，封装后所述钝化层朝向上基板的环氧层或双键官能团层。

3.根据权利要求2所述工程芯片的制备方法，其特征在于:所述钝化层是通过化学气相沉积法沉积在下基板表面上的六甲基二硅氮烷层或硅烷-PEG1000层，所述硅烷-PEG1000具有如下结构式：

4.根据权利要求1所述工程芯片的制备方法，其特征在于:所述环氧层是3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷层；所述双键官能团层是[(5-双环[2.2.1]庚基-2-烯)乙...

【技术特征摘要】

1.一种工程芯片的制备方法，其特征在于:步骤如下：

2.根据权利要求1所述工程芯片的制备方法，其特征在于:所述步骤s2中还包括在下基板上沉积钝化层，封装后所述钝化层朝向上基板的环氧层或双键官能团层。

3.根据权利要求2所述工程芯片的制备方法，其特征在于:所述钝化层是通过化学气相沉积法沉积在下基板表面上的六甲基二硅氮烷层或硅烷-peg1000层，所述硅烷-peg1000具有如下结构式：

4.根据权利要求1所述工程芯片的制备方法，其特征在于:所述环氧层是3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷层；所述双键官能团层是[(5-双环[2.2.1]庚基-2-烯)乙基]三甲氧基硅烷层。

5.根据权利要求1所述工程芯片的制备方法，其特征在于:所...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗飞，吴首昂，冯越，陈鑫，伍建，
申请(专利权)人：深圳铭毅智造科技有限公司，
类型：发明
国别省市：