【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及可变形镜以及x射线装置。
技术介绍
1、x射线分析技术广泛利用于学术领域以及产业界中。近年来，x射线显微镜的开发急速进展，报告有50nm以下的分辨率。与可见光相比，x射线具有极短的波长，因此原理上有望实现1nm以下的分辨率。为了进一步提高x射线显微镜的分辨率，必须提高使x射线聚焦或成像的x射线光学系统的性能。
2、作为用于x射线光学系统的光学元件，存在利用折射的复合折射透镜、利用衍射的菲涅耳波带片、利用反射的斜入射全反射镜等。其中，斜入射全反射镜具有x射线的利用效率高，色差少的优点。进而，作为没有彗形像差的光学系统，存在使用了四个斜入射全反射镜的akb(advanced kirkpatrick-baez)镜光学系统(例如，参考专利文献1)。另外，为了使x射线光学系统的光学特性可变，也利用将压电元件粘贴于全反射镜，根据压电元件的变形量来控制反射面的形状的可变形镜(例如，参考专利文献2)
3、(现有技术文献)
4、(专利文献)
5、专利文献1：日本专利第6478433号公报
6、专利文献2：日本特开2021-21897号公报
技术实现思路
1、(专利技术所要解决的问题)
2、要求x射线镜的反射面具有的形状精度极其严格，例如，对于100mm左右的镜尺寸，要求1nm左右的形状精度。这是因为x射线的波长与可见光相比极短。这样的形状精度即使应用最先进的超精密加工技术也不容易实现，需要反复进行基于超高精度的形状计量
3、本公开是鉴于这样的问题而提出的，其示例性的目的之一在于提供一种精密地调整x射线镜的反射面的形状的技术。
4、(解决问题所采用的措施)
5、本公开的某一方面的可变形镜具有具有第一表面和与第一表面相反侧的第二表面并由压电材料组成的第一基板、设于第一表面并具有供x射线斜入射的反射面的反射电极、在第二表面沿规定方向间隔排列的多个控制电极、以及在反射电极与多个控制电极之间施加电压的电源。
6、本公开的另一方面是x射线装置。x射线装置具有包括本公开的某一方面的可变形镜的x射线光学系统、以及检测从x射线光学系统射出的x射线的x射线检测部。
7、本公开的又一方面是x射线装置。x射线装置具有包括本公开的某一方面的可变形镜的x射线光学系统、以及保持被从x射线光学系统射出的x射线照射的样本的样本保持部。
8、另外，以上的构成要素的任意组合、将本公开的构成要素、表达在方法、系统等之间相互置换的方案作为本公开的方面也是有效的。
9、(专利技术的效果)
10、根据本公开，能够精密地调整x射线镜的反射面。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种可变形镜，其中，具有：
2.根据权利要求1所述的可变形镜，其中，
3.根据权利要求2所述的可变形镜，其中，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的可变形镜，其中，
5.根据权利要求4所述的可变形镜，其中，
6.根据权利要求4或5所述的可变形镜，其中，
7.根据权利要求1至3中任一项所述的可变形镜，其中，
8.根据权利要求7所述的可变形镜，其中，
9.根据权利要求7或8所述的可变形镜，其中，
10.根据权利要求7至9中任一项所述的可变形镜，其中，
11.根据权利要求4至10中任一项所述的可变形镜，其中，
12.根据权利要求4至10中任一项所述的可变形镜，其中，
13.根据权利要求12所述的可变形镜，其中，
14.根据权利要求12所述的可变形镜，其中，
15.根据权利要求1至14中任一项所述的可变形镜，其中，还具有：
16.根据权利要求15所述的可变形镜，其中，
17.根据权利要求16所述
18.根据权利要求1至17中任一项所述的可变形镜，其中，
19.一种X射线装置，其中，具有：
20.一种X射线装置，其中，具有：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种可变形镜，其中，具有：
2.根据权利要求1所述的可变形镜，其中，
3.根据权利要求2所述的可变形镜，其中，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的可变形镜，其中，
5.根据权利要求4所述的可变形镜，其中，
6.根据权利要求4或5所述的可变形镜，其中，
7.根据权利要求1至3中任一项所述的可变形镜，其中，
8.根据权利要求7所述的可变形镜，其中，
9.根据权利要求7或8所述的可变形镜，其中，
10.根据权利要求7至9中任一项所述的可变形镜，其中，
11.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：松山智至，
申请(专利权)人：国立大学法人东海国立大学机构，
类型：发明
国别省市：
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