【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及能够大面积测量的监测设备。
技术介绍
1、半导体及显示器正在顺应大口径化趋势进行开发。在制造半导体及显示器时，保持半导体设备内的工艺均匀度是减少不良的核心要素。所述半导体设备或所述显示器设备需在每个工艺中保障相同水平的工艺均匀度，但是随着重复无数次温度的升降、rf功率的开闭、压力的升降和时间的推移，性能可发生变化。
2、在所述半导体设备或所述显示器设备中发生的工艺变化导致晶圆或玻璃基板的不良。但是到目前为止还没有能够准确监测这种工艺条件的变化的技术。
技术实现思路
1、技术问题
2、本专利技术的目的在于提供一种能够在半导体工艺或显示器工艺中轻易地诊断设备的性能的能够大面积测量的监测设备。
3、技术方案
4、为了达到如上所述的目的，根据本专利技术的一个实施例的监测设备包括：保护层；基板，排列于所述保护层内部的空间；及至少一个电子元件，排列于所述基板上。其中，所述电子元件具有至少一个传感器，所述监测设备利用所述传感器测量位于所述监测设备的外部的被诊断体的温度、倾斜度、光、振动、电压、电流、电力、压力及所述被诊断体和其他元件之间的距离中至少一个来诊断所述被诊断体，所述基板形成有阴刻结构物或阳刻结构物，所述阴刻结果物内填充有具有与所述基板不同的特性的物质，或者所述阳刻结构物由具有与所述基板不同的特性的物质形成。
5、根据本专利技术的另一实施例的监测设备包括：保护层；基板，排列于所述保护层内部的空间；及至少一个电子元件
6、根据本专利技术的又一实施例的监测设备包括：保护层；基板，排列于所述保护层内部的空间；至少一个电子元件，排列于所述基板上；及部件，排列于所述保护层的外部，和所述保护层一起双重保护所述电子元件，所述电子元件具有至少一个传感器，所述监测设备利用所述传感器测量位于所述监测设备的外部的被诊断体的温度、倾斜度、光、振动、电压、电流、电力、压力及所述被诊断体和其他元件之间的距离中至少一个来诊断所述被诊断体。
7、根据本专利技术的监测设备可以通过在印刷电路板或保护层形成阴刻结构物或阳刻结构物来提高所述监测设备的平坦度。其结果，排列于所述印刷电路板上的温度传感器能够贴紧被诊断体，能够通过补偿排列于所述印刷电路板上的振动传感器和位移传感器的水平来提高测量准确度，能够防止排列于所述印刷电路板上的rf传感器轴方向与被诊断体发生歪斜，能够提高排列于所述印刷电路板的光学传感器的光量接收灵敏度，能够提高排列于所述印刷电路板上的无线通信装置的收发灵敏度。
8、并且，通过防止从自动运送所述监测设备的机器人装置发生轴歪斜，能够防止所述监测装置或所述半导体设备的损坏。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种监测设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的监测设备，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
8.根据权利要求7所述的监测设备，其特征在于：
9.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
10.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
11.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
12.一种监测设备，其特征在于，包括：
13.根据权利要求12所述的监测设备，其特征在于：
14.根据权利要求12所述的监测设备，其特征在于：
15.根据权利要求12所述的监测设备，其特征在于：
16.一种监测设备，其特征在于，包括：
17.根据权利要求16所述的监测设备，其特征
18.根据权利要求17所述的监测设备，其特征在于：
19.根据权利要求16所述的监测设备，其特征在于：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种监测设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的监测设备，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
8.根据权利要求7所述的监测设备，其特征在于：
9.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
10.根据权利要求1所述的监测设备...
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