【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及能够大面积测量的监测设备。
技术介绍
1、半导体及显示器正在顺应大口径化趋势进行开发。在制造半导体及显示器时，保持半导体设备内的工艺均匀度是减少不良的核心要素。所述半导体设备或所述显示器设备需在每个工艺中保障相同水平的工艺均匀度，但是随着重复无数次温度的升降、rf功率的开闭、压力的升降和时间的推移，性能可发生变化。
2、在所述半导体设备或所述显示器设备中发生的工艺变化导致晶圆或玻璃基板的不良。但是到目前为止还没有能够准确监测这种工艺条件的变化的技术。
技术实现思路
1、技术问题
2、本专利技术的目的在于提供一种能够在半导体工艺或显示器工艺中轻易地诊断设备的性能的能够大面积测量的监测设备。
3、技术方案
4、为了达到如上所述的目的，根据本专利技术的一个实施例的监测设备包括：保护层；基板，排列于所述保护层内部的空间；及至少一个电子元件，排列于所述基板上。其中，所述电子元件具有至少一个传感器，所述监测设备利用所述传感器测量位于所述监测...
【技术保护点】
1.一种监测设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的监测设备，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
8.根据权利要求7所述的监测设备，其特征在于：
9.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
10.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在
1...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种监测设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的监测设备，其特征在于：
5.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
8.根据权利要求7所述的监测设备，其特征在于：
9.根据权利要求1所述的监测设备，其特征在于：
10.根据权利要求1所述的监测设备...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。