【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种拉曼分光分析方法以及显微拉曼分光装置。
技术介绍
1、拉曼分光装置为如下测定方法：通过对照射了激发激光时从试样产生的波长不同的拉曼散射光进行分光分析，来实现试样的结构分析(例如，专利文献1)。其中，作为微小部分的化学结构的分析手段而开发出一种显微拉曼分光法，且近年来得到了广泛应用。
2、由于拉曼散射光与激光光相比强度极小，因此需要使用高强度的激光光。此外，由于拉曼散射光的强度小，因此所获得的光谱的信噪(signal to noise，s/n)比也低。因此，需要对分析对象试样进行多次激光光照射，对拉曼散射光进行多次测定，并对其结果进行累计，由此获得高s/n比。
3、但是，若激光光的强度过强、或累计次数过多，则由激光光带来的分析对象试样的损坏会变大。特别是在分析对象试样为有机物的情况下，有时试样会因激光光的照射引起的碳化或热分解等而烧损。特别是在以极微小区域为测定对象的显微拉曼分光法中，激光光所照射到的区域集中于极微小的部分，因此分析对象试样的烧损变得显著。
4、若发生试料的烧损，则分析对象试料的结构会发生变化，因此无法获得基于原本结构的拉曼散射光的数据，因此为了进行准确的结构的分析，需要再次对拉曼散射光进行测定。
5、然而，由于烧损后的部分的结构被破坏，因此即使对相同场所进行测定也无法获得反映出原本结构的拉曼散射光。
6、[现有技术文献]
7、[专利文献]
8、专利文献1：日本专利特开2006-113021号公报
【技术保护点】
1.一种拉曼分光分析方法，通过物镜光学元件将从激光光源射出的激光光照射至分析对象试样，
2.根据权利要求1所述的拉曼分光分析方法，其中，标绘测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者。
3.根据权利要求1或2所述的拉曼分光分析方法，其中，标绘所述测定次数与所述相关系数。
4.根据权利要求2所述的拉曼分光分析方法，其中，对测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的标绘进行线性回归分析，并根据斜率发生变化的测定次数确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
5.根据权利要求3所述的拉曼分光分析方法，其中，对所述测定次数与所述相关系数的标绘进行线性回归分析，并将斜率发生变化的测定次数确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
6.一种显微拉曼分光装置，具有：
7.根
8.根据权利要求6或7所述的显微拉曼分光装置，其中，所述显示部标绘并显示测定次数与所述相关系数。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的显微拉曼分光装置，其中，所述分析部对所述测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的标绘进行线性回归分析，确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
10.根据权利要求6至9中任一项所述的显微拉曼分光装置，其中，所述分析部对所述测定次数与所述相关系数的标绘进行线性回归分析，确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
11.根据权利要求6至10中任一项所述的显微拉曼分光装置，还具有从所述存储部中调出分析对象试样没有损伤的照射次数的拉曼散射光谱来加以显示的功能。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种拉曼分光分析方法，通过物镜光学元件将从激光光源射出的激光光照射至分析对象试样，
2.根据权利要求1所述的拉曼分光分析方法，其中，标绘测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者。
3.根据权利要求1或2所述的拉曼分光分析方法，其中，标绘所述测定次数与所述相关系数。
4.根据权利要求2所述的拉曼分光分析方法，其中，对测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的标绘进行线性回归分析，并根据斜率发生变化的测定次数确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
5.根据权利要求3所述的拉曼分光分析方法，其中，对所述测定次数与所述相关系数的标绘进行线性回归分析，并将斜率发生变化的测定次数确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
6.一种显微拉曼分光装置，具有：
7.根据权利...
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