电子设备密封用组合物、电子设备密封膜形成方法及电子设备密封膜技术

本发明专利技术的电子设备密封用组合物是包含光固化性单体(A)及光聚合引发剂(B)的电子设备密封用组合物，其中，作为所述光固化性单体(A)，至少包含链状的(甲基)丙烯酸酯单体(A1)和链状的(甲基)丙烯酸酯单体(A2)，所述链状的(甲基)丙烯酸酯单体(A1)具有亚烷基骨架或环氧烷骨架，所述链状的(甲基)丙烯酸酯单体(A2)包含选自一个苯基或亚苯基、杂环基和环烷基中的至少一种环状基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及电子设备密封用组合物、电子设备密封膜形成方法及电子设备密封膜，特别是提供能够得到经时间推移的喷墨喷出性优异、密封性能、耐弯曲性和密合性优异，结果发光效率优异的电子设备的电子设备密封用组合物等。

技术介绍

1、就电子设备，特别是有机电致发光设备(以下也称为“有机el设备”或“有机el元件”)而言，为了防止所使用的有机材料、电极因水分而劣化，提出了利用密封层覆盖有机el元件的表面。

2、作为密封有机el元件的技术，例如，在专利文献1中记载的技术中公开了一种显示装置，其通过用包含不具有芳香族烃基的单体和具有芳香族烃基的单体，具有芳香族烃基的单体包含2个以上的苯基和杂原子、以及单(甲基)丙烯酸酯和二(甲基)丙烯酸酯的组合物，通过蒸镀、喷墨等方法，在有机el元件的表面上形成有机保护膜(密封层)而得到。

3、然而，在所述专利文献1所记载的显示器装置中，(i)有机保护膜的扩散系数足够低，因此在85℃、85％rh、100小时以上这样的高温高湿下的严酷条件下，水分透过成为问题，密封性能差，对发光效率的降低造成影响。此外，(ii)由于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子设备密封用组合物，其包含光固化性单体(A)及光聚合引发剂(B)，其中，

2.根据权利要求1所述的电子设备密封用组合物，其中，

3.根据权利要求1或2所述的电子设备密封用组合物，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的电子设备密封用组合物，其中，

5.一种电子设备密封膜形成方法，其使用权利要求1～4中任一项所述的电子设备密封用组合物来形成密封膜，其中，

6.根据权利要求5所述的电子设备密封膜形成方法，其具备：

7.根据权利要求5或6所述的电子设备密封膜形成方法，其中，

8.一种电子设备密封膜...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种电子设备密封用组合物，其包含光固化性单体(a)及光聚合引发剂(b)，其中，

2.根据权利要求1所述的电子设备密封用组合物，其中，

3.根据权利要求1或2所述的电子设备密封用组合物，其中，

4.根据权利要求1～3中任一项所述的电子设备密封用组合物，其中，

5.一种电子设备密封膜形成方法，其使用权利要求1～4中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：牧岛幸宏，森川慎一郎，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达株式会社，
类型：发明
国别省市：