【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于硅片加工，具体涉及一种硅片清洗机台。
技术介绍
1、硅片是制作集成电路的重要材料，硅片在加工过程中需要经过表面整形、定向、切割、研磨、腐蚀、抛光、清洗等工序，对硅片进行清洗时需要用到相应的硅片清洗机台；
2、传统的硅片清洗机台包括支撑脚、浸泡腔、控制箱、密封门、隔离板、超声波振动棒、安装座、烘干机、安装架、电动推杆、排水管、加水管、电磁阀和变频器等结构，该硅片清洗机台的优点在于，可以通过烘干机的使用对清洗后的硅片进行干燥；
3、然而传统的硅片清洗机台由于清洗结构比较简单，导致清洗机台无法实现对硅片的无残留清洗，使得清洗机台对硅片的清洗效果并不理想，急需改进。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种硅片清洗机台，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种硅片清洗机台，包括清洗箱，所述清洗箱的底部设置有排水管，清洗箱的内部设置有储料机构，储料机构包括用于对硅片起到支撑作用的储料组件以及用于对储...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗机台，包括清洗箱，其特征在于：所述清洗箱的底部设置有排水管，清洗箱的内部设置有储料机构，储料机构包括用于对硅片起到支撑作用的储料组件以及用于对储料组件起到支撑作用和干燥作用的支撑组件，储料组件可拆卸设置在支撑组件的顶部，清洗箱的侧壁上设置有用于对储料机构起到高度调节作用的高度调节件，高度调节件的顶部设置有与支撑组件相对应的限位传动板，清洗箱的顶部开设有与限位传动板相对应的限位通孔，储料机构的下方设置有用于对清洗箱的底部起到封堵作用的清洗机构。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗机台，其特征在于：所述清洗箱的顶部设置有用于对储料机构起到冲洗作用...
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗机台，包括清洗箱，其特征在于：所述清洗箱的底部设置有排水管，清洗箱的内部设置有储料机构，储料机构包括用于对硅片起到支撑作用的储料组件以及用于对储料组件起到支撑作用和干燥作用的支撑组件，储料组件可拆卸设置在支撑组件的顶部，清洗箱的侧壁上设置有用于对储料机构起到高度调节作用的高度调节件，高度调节件的顶部设置有与支撑组件相对应的限位传动板，清洗箱的顶部开设有与限位传动板相对应的限位通孔，储料机构的下方设置有用于对清洗箱的底部起到封堵作用的清洗机构。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗机台，其特征在于：所述清洗箱的顶部设置有用于对储料机构起到冲洗作用的清洗喷管，清洗喷管上设置有若干个清洗喷头，清洗箱的顶部还设置有用于对储料机构起到干燥作用的热出风管，热出风管位于清洗喷管的上方。
3.根据权利要求2所述的硅片清洗机台，其特征在于：所述支撑组件包括支撑网板，支撑网板的两端设置有第一限位板，支撑网板的下表面设置有限位传动管，限位传动管的内部设置有过滤网。
4.根据权利要求3所述的硅片清洗机台，其特征在于：所述限位传动管远离支撑网板的一端设置有弹性加压管。
5.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘海啸，马兴蓬，于德意，
申请(专利权)人：山东瑞翼德科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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