【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于半导体晶圆,尤其涉及一种带散热金刚石衬底的半导体晶圆的制备方法。
技术介绍
1、半导体材料是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。用半导体材料制成的半导体芯片,在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明等领域有广泛的应用。例如,我们日常生活中常见的手机、电视、电脑等电子产品,都离不开半导体材料。半导体晶圆是指用半导体材料制成的圆形薄片,通常用来制造集成电路等半导体芯片。半导体晶圆衬底是半导体晶圆的一部分,是半导体晶圆的支撑板。
2、半导体芯片在工作时会产生大量的热量,这会导致器件的温度升高,当温度过高时,会影响到器件的工作特性,甚至会使其失效。因此,在电路设计中必须考虑散热的问题。虽然半导体芯片体积小巧,但它们的性能却强大,这都要归功于芯片内部数十亿个微型晶体管的工作。每一个微型晶体管都可以看作是一个微小的开关,通过控制电流的流动来进行逻辑运算。每次这些开关开启或关闭时,都会有一部分电能转化为热能。由于芯片中存在着大量的晶体管,所以这些热量会迅速累积,产生大量的热量。如果这些热量不能被有效地散去,那么
...【技术保护点】
1.一种带散热金刚石衬底的半导体晶圆的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.如权利要求1所述的带散热金刚石衬底的半导体晶圆的制备方法,其特征在于:所述半导体为硅、锗、磷化铟、砷化镓、碳化硅、碳化镓、氧化镓、氧化锌或氮化铝中的一种。
3.如权利要求2所述的带散热金刚石衬底的半导体晶圆的制备方法,其特征在于:所述金刚石为单晶金刚石或多晶金刚石。
【技术特征摘要】
1.一种带散热金刚石衬底的半导体晶圆的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.如权利要求1所述的带散热金刚石衬底的半导体晶圆的制备方法,其特征在于:所述半导体为硅、锗、磷化...
【专利技术属性】
技术研发人员:丁勇,柳祝平,丁大路,丁大威,吕品晶,江蓉芝,
申请(专利权)人:上海爱德赞医疗科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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