【技术实现步骤摘要】
本技术涉及浸釉领域，尤其涉及一种自动浸外釉装置。
技术介绍
1、浸釉是陶瓷施釉技法之一，又称蘸釉，将坯体浸入釉中片刻后取出，利用坯的吸水性使釉浆附着于坯上，釉层厚度由坯的吸水性、釉浆浓度、浸渍时间进行控制，适用于厚胎坯体及杯碗类制品施外釉，现在人工操作已经不能适用于越来越大的生产需求，需要机械设备实现高效自动浸釉工作。
2、随着时代的发展，用于浸釉的生产线也逐渐往全面自动化的方向发展，然而，现有的浸釉装置虽然已经实现自动浸釉，但仍是采用人工上料或者下料，缺少相应的运输功能，无法满足全面自动化的需要。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的在于提供一种自动浸外釉装置以解决现有的浸釉装置缺少相应的运输功能，导致无法实现全面自动化的问题，具体技术方案如下：
2、在本申请实施例的第一方面，一种自动浸外釉装置，包括旋转机构，所述旋转机构上设有至少一个抓取机构，围绕所述旋转机构设有上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带，所述上坯传送带上设有至少一个拦截机构，所述拦截机构包括拦杆和气缸，所述拦杆横向设置在所述上坯传送带上并用于拦截所述上坯传送带运输的坯体，被拦截的所述坯体被所述抓取机构抓取，当所述抓取机构抓取到所述坯体时，所述气缸驱动所述拦杆远离所述坯体。
3、本申请实施例有益效果：
4、1.本技术的整体结构布局合理，将抓取机构、旋转机构、上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带结合起来，实现坯体运输、浸釉自动化，降低成本，提高生产效率。
5、
6、本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到，当然，实施本申请的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
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1.一种自动浸外釉装置，其特征在于，包括旋转机构，所述旋转机构上设有至少一个抓取机构，围绕所述旋转机构设有上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带，所述上坯传送带上设有至少一个拦截机构，所述拦截机构包括拦杆和气缸，所述拦杆横向设置在所述上坯传送带上并用于拦截所述上坯传送带运输的坯体，被拦截的所述坯体被所述抓取机构抓取，当所述抓取机构抓取到所述坯体时，所述气缸驱动所述拦杆远离所述坯体。
2.根据权利要求1所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：所述抓取机构包括升降组件、连杆和吸盘，所述连杆连接于所述升降组件，所述升降组件驱动所述连杆做上下往复运动，所述吸盘连接于所述连杆底部。
3.根据权利要求2所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：所述上坯传送带的侧面设有延伸支架并用于安装所述气缸。
4.根据权利要求3所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：所述旋转机构上设有两个所述抓取机构，两个所述抓取机构错位设置以使一个所述抓取机构置于另一个所述抓取机构的前方，所述上坯传送带上设有两个所述拦截机构并与两个所述抓取机构相对应，两个所述拦截机构错位设置以使一个所述拦截机
5.根据权利要求1所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：拦杆上连接有与之垂直的支杆。
6.根据权利要求5所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：所述支杆的末端岔开以拦截所述上坯传送带运输的坯体。
7.根据权利要求1所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：所述旋转机构包括转盘以及用于驱动所述转盘转动的电机。
...【技术特征摘要】
1.一种自动浸外釉装置，其特征在于，包括旋转机构，所述旋转机构上设有至少一个抓取机构，围绕所述旋转机构设有上坯传送带、釉盆、擦底机和下坯传送带，所述上坯传送带上设有至少一个拦截机构，所述拦截机构包括拦杆和气缸，所述拦杆横向设置在所述上坯传送带上并用于拦截所述上坯传送带运输的坯体，被拦截的所述坯体被所述抓取机构抓取，当所述抓取机构抓取到所述坯体时，所述气缸驱动所述拦杆远离所述坯体。
2.根据权利要求1所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：所述抓取机构包括升降组件、连杆和吸盘，所述连杆连接于所述升降组件，所述升降组件驱动所述连杆做上下往复运动，所述吸盘连接于所述连杆底部。
3.根据权利要求2所述的一种自动浸外釉装置，其特征在于：所述上坯传送带的侧面设有延伸...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱速锋，邹凌霜，王晓林，
申请(专利权)人：湖南中陶智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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