System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种金属蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法技术_技高网

一种金属蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法技术

技术编号:41085344 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-25 13:47
本发明专利技术属于金属蚀刻技术领域,公开了一种金属蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法。该金属蚀刻液,按重量份数计,包括氯化物5‑12份、有机酸1‑5份、无机酸2‑6份、氧化剂0.1‑2份、复合添加剂1‑6份、水80‑200份;复合添加剂包括N‑月桂基氮杂环庚烷‑2‑酮,以及聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠中的至少一种;有机酸包括氨基酸,以及邻苯二甲酸、均苯三甲酸中的至少一种。该金属蚀刻液,即使针对镍含量波动范围为55%至85%的镍铬合金,对应的蚀刻速度变化也很小,且蚀刻效率高,对铜也几乎不腐蚀,有利于工业蚀刻工艺的控制,有助于提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于金属蚀刻,特别涉及一种金属蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法


技术介绍

1、在电路板领域,特别是柔性电路板中,常常通过聚酰亚胺基材、镍铬合金、铜线路构建柔性电路板,这样可保障线路板的稳定性。这样的柔性电路板的制备过程中,通常需要对铜线路与聚酰亚胺基材之间的镍铬合金进行时刻,而对铜线路不进行时刻。

2、现有技术中一般使用的镍铬合金蚀刻液体系有氯化铜体系和氯化铁体系,氯化铁体系的蚀刻液虽然蚀刻效率高,但对铜线路的腐蚀也严重,氯化铜体系虽然对铜线路腐蚀很小,但对镍铬合金的腐蚀效率低。随着研发人员的努力,也研究出一种对铜线路腐蚀很小,对镍铬合金蚀刻效率比较高的蚀刻液,然而,这种蚀刻液随着镍铬合金中镍、铬的元素含量的较小改变,就能引起蚀刻速度的极大变化。例如,镍铬合金中,镍含量从70%变化到85%,铬含量对应从15%变化到30%,对应的蚀刻速度的波动范围约从160s/μm到800s/μm。由此可见,由于镍铬合金中元素含量的稍微变化就会导致蚀刻速度的极大波动。这不利于工业上蚀刻工艺的控制,会降低生产效率。而且,对柔性电路板中镍铬合金元素含量也限定过窄,也不利于一般镍铬合金在柔性电路板领域中的应用。

3、因此,亟需提供一种新的镍铬合金蚀刻液,即使镍含量有一定的波动,蚀刻速度也是变化较小,这有利于工业蚀刻工艺的控制,也有利于镍铬合金的应用。


技术实现思路

1、本专利技术旨在至少解决上述现有技术中存在的技术问题之一。为此,本专利技术提出一种金属蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法。本专利技术所述金属蚀刻液,即使针对镍含量波动范围为50%至90%的镍铬合金,对应的蚀刻速度变化也很小,且蚀刻效率高,对铜也几乎不腐蚀,有利于工业蚀刻工艺的控制,有助于提高生产效率。

2、本专利技术的专利技术构思为:本专利技术所述金属蚀刻液包括特定重量的氯化物、有机酸、无机酸、氧化剂、复合添加剂、水,所述复合添加剂包括n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮,以及聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠中的至少一种,所述有机酸包括氨基酸,以及邻苯二甲酸、均苯三甲酸中的至少一种,通过对复合添加剂和有机酸的特定选自,再配合氯化物、无机酸、氧化剂的共同作用,可使得所述金属蚀刻液可选择性地腐蚀镍铬合金,而避免对铜的腐蚀。其中,复合添加剂包括n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮,以及聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠,聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠与n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮在镍铬合金表面容易形成附着点,有助于氯化物、无机酸、氧化剂和有机酸的选择性快速均匀蚀刻镍铬合金,既避免了对铜的腐蚀,也提高了氯化物、无机酸、氧化剂和有机酸的使用效率,且即使镍含量波动范围为50%至90%,对镍铬合金的蚀刻速度也保持稳定。利于工业蚀刻工艺的控制,有助于提高生产效率。

3、本专利技术的第一方面提供一种金属蚀刻液。

4、具体的,一种金属蚀刻液,按重量份数计,包括氯化物5-12份、有机酸1-5份、无机酸2-6份、氧化剂0.1-2份、复合添加剂1-6份、水80-200份;

5、所述复合添加剂包括n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮,以及聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠中的至少一种;

6、所述有机酸包括氨基酸,以及邻苯二甲酸、均苯三甲酸中的至少一种。

7、优选的,所述有机酸中,氨基酸与邻苯二甲酸、均苯三甲酸中的至少一种的重量比为(0.8-2.1):(0.5-2),更优选为(1-2):(0.5-2)。

8、优选的,所述复合添加剂中,所述n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮与聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠中的至少一种的重量比为(1.5-2.5):(1-3),更优选为(1.6-2):(1.6-2.5)。

9、优选的,所述氯化物选自氯化钠和/或氯化钾。

10、优选的,所述氨基酸选自丝氨酸、酪氨酸、半胱氨酸、苯丙氨酸、天门冬酰胺、谷氨酰胺、苏氨酸、甲硫氨酸中的至少一种。

11、优选的,所述无机酸选自磷酸和/或高氯酸。

12、优选的,所述氧化剂选自过硫酸钠和/或过硫酸钾。

13、优选的,所述水为去离子水。

14、优选的,所述金属蚀刻液还包括氧化石墨烯。氧化石墨烯的加入引入二维结构,在上述复合添加剂、有机酸的共同作用下,有利于镍铬合金中,镍铬电子的快速、稳定转移,从而使得即使镍铬合金中,镍含量即使为55%至85%,蚀刻液的蚀刻速度也比较稳定,且进一步提高蚀刻速度。

15、优选的,所述金属蚀刻液包括氧化石墨烯0.2-0.5份。

16、优选的,一种金属蚀刻液,按重量份数计,包括氯化物6-10份、有机酸2-4份、无机酸2.5-6份、氧化剂0.5-2份、复合添加剂2-5份、水85-160份。

17、优选的,一种金属蚀刻液,按重量份数计,包括氯化物6-10份、有机酸2-4份、无机酸2.5-6份、氧化剂0.5-2份、复合添加剂2-5份、水85-160份、氧化石墨烯0.2-0.5份。

18、本专利技术的第二方面提供一种金属蚀刻液的制备方法。

19、具体的,一种金属蚀刻液的制备方法,包括以下步骤:

20、将各组分混合,制得所述金属蚀刻液。

21、优选的,所述制备方法,包括以下步骤:

22、将复合添加剂加入水中,搅拌混合,然后加入剩余组分,继续搅拌,制得所述金属蚀刻液。

23、本专利技术的第三方面提供一种金属蚀刻液的蚀刻方法。

24、具体的,一种金属蚀刻液的蚀刻方法,包括以下步骤:

25、将镍铬合金浸泡在金属蚀刻液中。

26、优选的,所述镍铬合金中,镍的质量份数为50-90%,进一步优选为55-85%,更优选为65-85%。所述蚀刻方法对镍含量为55-85%的镍铬合金具有十分稳定均匀的蚀刻速度。

27、优选的,所述镍铬合金是柔性电路板中的镍铬合金。柔性电路板中,不仅包括镍铬合金,还包括铜线路。该蚀刻方法能选择性蚀刻镍铬合金。

28、相对于现有技术,本专利技术的有益效果如下:

29、(1)本专利技术所述金属蚀刻液包括特定重量的氯化物、有机酸、无机酸、氧化剂、复合添加剂、水,所述复合添加剂包括n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮,以及聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠中的至少一种,所述有机酸包括氨基酸,以及邻苯二甲酸、均苯三甲酸中的至少一种,通过对复合添加剂和有机酸的特定选自,再配合氯化物、无机酸、氧化剂的共同作用,可使得所述金属蚀刻液可选择性地腐蚀镍铬合金,而避免对铜的腐蚀。其中,复合添加剂包括n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮,以及聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠,聚氧乙烯脂肪醇醚、脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠与n-月桂基氮杂环庚烷-2-酮在镍铬合金表面形成一层多孔薄膜,有助于氯化物、无机酸、氧化剂和有机酸的选择性快速均匀渗透,既避免了对铜的腐蚀,也提高了氯化物、无机酸、氧化剂和有机酸的使用效率,且即使镍含量波动范围本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种金属蚀刻液,其特征在于,按重量份数计,包括氯化物5-12份、有机酸1-5份、无机酸2-6份、氧化剂0.1-2份、复合添加剂1-6份、水80-200份;

2.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述氯化物选自氯化钠和/或氯化钾。

3.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述氨基酸选自丝氨酸、酪氨酸、半胱氨酸、苯丙氨酸、天门冬酰胺、谷氨酰胺、苏氨酸、甲硫氨酸中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述无机酸选自磷酸和/或高氯酸;和/或,所述氧化剂选自过硫酸钠和/或过硫酸钾。

5.根据权利要求1-4任一项所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述金属蚀刻液还包括氧化石墨烯。

6.根据权利要求1-4任一项所述的金属蚀刻液,其特征在于,按重量份数计,包括氯化物6-10份、有机酸2-4份、无机酸2.5-6份、氧化剂0.5-2份、复合添加剂2-5份、水85-160份。

7.根据权利要求5所述的金属蚀刻液,其特征在于,按重量份数计,包括氯化物6-10份、有机酸2-4份、无机酸2.5-6份、氧化剂0.5-2份、复合添加剂2-5份、水85-160份、氧化石墨烯0.2-0.5份。

8.权利要求1-7任一项所述的金属蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

9.一种金属蚀刻液的蚀刻方法,其特征在于,包括以下步骤:

10.根据权利要求9所述的蚀刻方法,其特征在于,所述镍铬合金中,镍的质量份数为50-90%。

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【技术特征摘要】

1.一种金属蚀刻液,其特征在于,按重量份数计,包括氯化物5-12份、有机酸1-5份、无机酸2-6份、氧化剂0.1-2份、复合添加剂1-6份、水80-200份;

2.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述氯化物选自氯化钠和/或氯化钾。

3.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述氨基酸选自丝氨酸、酪氨酸、半胱氨酸、苯丙氨酸、天门冬酰胺、谷氨酰胺、苏氨酸、甲硫氨酸中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述无机酸选自磷酸和/或高氯酸;和/或,所述氧化剂选自过硫酸钠和/或过硫酸钾。

5.根据权利要求1-4任一项所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述金属蚀刻液还包括氧化石墨烯。

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【专利技术属性】
技术研发人员:罗光洲罗先宇
申请(专利权)人:珠海市裕洲环保科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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