副室清理装置制造方法及图纸

本申请涉及一种副室清理装置，其包括支撑杆、两个连接杆、两个臂环、清洁件以及动力件，两个连接杆位于支撑杆的一端，且均转动连接于支撑杆的端部；两个臂环一一对应地安装在两个连接杆上；至少一个所述臂环上安装有清洁件，清洁件用于贴合于副室的内壁；弹性件的两端分别连接于两个臂环；动力件连接于其中一个连接杆；两个臂环具有相互靠近的第一状态以及相互远离的第二状态，动力件用于输出动力以拉动两个连接杆相对支撑杆转动以相互靠近，以使臂环处于第一状态；弹性件能够在动力件停止动力输出后通过自身弹性力推动两个臂环相对支撑杆转动以相互远离，以使两个臂环处于第二状态。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及单晶炉清理，特别是涉及一种副室清理装置。

技术介绍

1、单晶炉是通过直拉法生产单晶硅的设备，单晶炉主室主要用于硅料的加热反应，在主室中形成的晶体通过副室中的提升装置被向上提拉至副室内，单晶拉制过程中，氩气会通过副室流入到主室中，氩气携带着反应的挥发物顺着副室向下运动，挥发物在运动过程中会在炉膛内壁上产生沉积，若不及时清理，沉积物易在拉晶过程中落入主室的硅料中致使硅料受到污染，因此，保持单晶炉副室内部环境的清洁是保障晶体成晶质量的关键。

2、副室呈圆筒状，副室的直径约30-40cm，炉膛纵深约3-5m，且开口较小，现有常将用酒精喷湿的无尘纸缠绕在清理圈上后由人工对副室的炉筒内壁进行清理。为了便于将清理圈伸入至副室内，清理圈的直径要与副室的开口尺寸相匹配，但是副室的开口较小，而副室的直径较大，导致伸入的清理圈的尺寸较小，清理圈上安装的无尘纸面积较小，导致清理效率较低。另外，清理圈呈圆形，不便于收纳。

技术实现思路

1、基于此，有必要针对现有的副室清理装置效率低，且难收纳的问题，提供一种副室清本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种副室清理装置，其特征在于，所述副室清理装置包括：

2.根据权利要求1所述的副室清理装置，其特征在于，包括齿轮组件，所述齿轮组件包括两个相互啮合且均转动连接于所述支撑杆(100)的齿轮(210)，每个所述连接杆(200)靠近所述支撑杆(100)的一侧均固定设置有一个所述齿轮(210)，所述动力件(500)用于带动其中一个所述连接杆(200)相对所述支撑杆(100)转动，另一个所述连接杆(200)能够在所述齿轮组件作用下同步相对所述支撑杆(100)转动，以使两个所述臂环(300)处于所述第一状态。

3.根据权利要求2所述的副室清理装置，其特征在于，所述支撑杆(...

【技术特征摘要】

1.一种副室清理装置，其特征在于，所述副室清理装置包括：

2.根据权利要求1所述的副室清理装置，其特征在于，包括齿轮组件，所述齿轮组件包括两个相互啮合且均转动连接于所述支撑杆(100)的齿轮(210)，每个所述连接杆(200)靠近所述支撑杆(100)的一侧均固定设置有一个所述齿轮(210)，所述动力件(500)用于带动其中一个所述连接杆(200)相对所述支撑杆(100)转动，另一个所述连接杆(200)能够在所述齿轮组件作用下同步相对所述支撑杆(100)转动，以使两个所述臂环(300)处于所述第一状态。

3.根据权利要求2所述的副室清理装置，其特征在于，所述支撑杆(100)包括直杆部(110)和连接部(120)，所述连接部(120)包括相对设置两个第一板(121)，所述第一板(121)连接于所述直杆部(110)的端面，两个所述第一板(121)和所述直杆部(110)的端面围设形成容纳空间，两个所述齿轮(210)设置于所述容纳空间内，且每个所述齿轮(210)均通过转轴转动连接于所述第一板(121)。

4.根据权利要求3所述的副室清理装置，其特征在于，所述动力件(500)为钢丝绳，所述直杆部(110)具有空腔，所述钢丝绳的一端穿过于所述空腔和所述容纳空间并连接于其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：马幼学，马玉花，宋程章，马淑兰，陈奕峰，
申请(专利权)人：天合光能股份有限公司，
类型：新型
国别省市：